清洗兆声波换能器的装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种清洗兆声波换能器的装置，该装置包括清洗槽、挡流板和隔流板，所述清洗槽的两侧面对应设置有液体入口和液体出口，液体入口侧设置有气体入口，所述挡流板设置在清洗槽内液体入口前，所述挡流板底部设置多个排流孔，所述隔流板设置在清洗槽内液体出口前，所述隔流板底部与清水槽底面间存在间隙，所述隔流板上设置有用于排出清洗槽中过多液体的孔。采用本发明专利技术清洗兆声波换能器的装置能够快速的对兆声波换能器进行机械化清洗，清洗效率高，清洗均匀全面，清洗效果好。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及设备清洗领域，特别涉及一种清洗兆声波换能器的装置。
技术介绍
兆声波换能器具有很多优点，被广·泛用于半导体领域清洗设备中。在清洗过程中，兆声波换能器的工作面与晶片表面的距离很小(约为Γ3_)，导致晶片表面的颗粒物质极易附着在兆声波换能器的底面及底部侧面。一个工作行程结束后，需要对其工作面进行冲洗，以免影响后续的清洗，进而保证下一晶片的清洗质量。现有技术中采用简单水槽对兆声波换能器进行清洗，这种方法效率低，清洗速度慢，清洗质量差。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本专利技术要解决的技术问题是如何提供一种清洗兆声波换能器的装置使得对兆声波换能器的清洗速度快，清洗质量好。(二)技术方案为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种清洗兆声波换能器的装置，该装置包括清洗槽(I)、挡流板(6)和隔流板(8)，所述清洗槽的两侧面对应设置有液体入口(2)和液体出口(3)，所述挡流板设置在清洗槽内液体入口前，所述挡流板底部设置多个排流孔(7)，所述隔流板设置在清洗槽内液体出口前，所述隔流板底部与清水槽底面(5)间存在间隙，所述隔流板上设置有用于排出清洗槽中过多液体的孔。优选的，所述清洗槽为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洗兆声波换能器的装置，其特征在于，该装置包括清洗槽（1）、挡流板（6）和隔流板（8），所述清洗槽的两侧面对应设置有液体入口（2）和液体出口（3），所述挡流板设置在清洗槽内液体入口前，所述挡流板底部设置多个排流孔（7），所述隔流板设置在清洗槽内液体出口前，所述隔流板底部与清水槽底面（5）间存在间隙，所述隔流板上设置有用于排出清洗槽中过多液体的孔。

【技术特征摘要】
1.一种清洗兆声波换能器的装置，其特征在于，该装置包括清洗槽(I)、挡流板(6)和隔流板(8)，所述清洗槽的两侧面对应设置有液体入口(2)和液体出口(3)，所述挡流板设置在清洗槽内液体入口前，所述挡流板底部设置多个排流孔(7)，所述隔流板设置在清洗槽内液体出口前，所述隔流板底部与清水槽底面(5)间存在间隙，所述隔流板上设置有用于排出清洗槽中过多液体的孔。2.权利要求1所述的清洗兆声波换能器的装置，其特征在于，所述清洗槽为四边形槽式结构。3.权利要求1所述的清洗兆声波换能器的装置，其特征在于，所述清洗槽底面由液体入口侧向液体出口侧倾斜。4.权利要求1所述的清洗兆声波换能器的装置，其特征在于，所述液体出口大于或等于液体入口。5.权利要求1所述的清洗兆声波换能器的装...

【专利技术属性】
技术研发人员：姬丹丹，王波雷，李伟，张享倩，王浩，
申请(专利权)人：北京七星华创电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：