基于控制腐蚀的气囊式研抛装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种基于控制腐蚀的气囊式研抛装置，主要解决了现有光学元件，尤其是非球面光学元件加工时成本较高，加工效率较低的问题。该基于控制腐蚀的气囊式研抛装置包括连接有气泵的气囊式抛光头，气囊式抛光头包括设置在抛光头主体上的气囊，还包括承载机构和腐蚀液储液槽，承载机构一侧用于承载被加工元件，本实用新型专利技术实现了非球面的整体研抛，而不是常用的环带修抛，把非球面的加工难度降低到了球面加工的水平；另外将化学腐蚀机理引入光学加工，并通过加热实现腐蚀速率的加快，显著提高了光学元件的材料去除水平，可完成大非球面度的铣磨工作，且实现了非球面铣磨与抛光在同一台机床上完成。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光学元件加工装置，具体涉及一种适用于小口径、非球面光学元件快速研磨抛光的基于控制腐蚀的气囊式研抛装置。
技术介绍
非球面光学元件具有矫正多种像差，改善成像质量，简化光学系统并扩大视场等诸多优点，在军用和民用领域众多的光电产品中已得到广泛应用。但非球面的加工仍然存在设备昂贵、精度低、效率低下的问题，严重制约了相关产业和科研项目的发展。目前对于小口径非球面的光学加工，主要采用单点金刚石车削、数控铣磨、数控小磨头等技术，而这些技术对应的设备价格昂贵，并不适合非球面的普及加工。
技术实现思路
本专利技术提供一种基于控制腐蚀的气囊式研抛装置，主要解决了现有光学元件，尤其是非球面光学元件加工时成本较高，加工效率较低的问题。本专利技术的技术解决方案是该基于控制腐蚀的气囊式研抛装置，包括连接有气泵的气囊式抛光头，气囊式抛光头包括设置在抛光头主体上的气囊，还包括承载机构和腐蚀液储液槽，承载机构一侧用于承载被加工元件，承载机构使被加工元件全部浸泡在腐蚀液储液槽内，承载机构另一侧与转轴固定连接；所述设置抛光头主体上的气囊内表面设置有用于生成稳定环带温度场的加热装置，加热装置与控制装置连接。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于控制腐蚀的气囊式研抛装置，包括连接有气泵的气囊式抛光头，气囊式抛光头包括设置在抛光头主体上的气囊，其特征在于：还包括承载机构和腐蚀液储液槽，承载机构一侧用于承载被加工元件，承载机构使被加工元件全部浸泡在腐蚀液储液槽内，承载机构另一侧与转轴固定连接；所述设置抛光头主体上的气囊内表面设置有用于生成稳定环带温度场的加热装置，加热装置与控制装置连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：马臻，许亮，丁蛟腾，陈钦芳，
申请(专利权)人：中国科学院西安光学精密机械研究所，
类型：实用新型
国别省市：