纳米级四方体形氧化镧铈稀土抛光粉的生产工艺制造技术

技术编号:8482700 阅读:234 留言:0更新日期:2013-03-28 01:40
纳米级四方体形氧化镧铈稀土抛光粉的生产工艺,本发明专利技术的技术方案是:对原料氯化稀土原料用工业纯水溶解的同时加入酸性助反应剂并调整REO浓度,后置入母体化合物制备器内加温,同时加注液状碱性反应剂,当达到一定的PH值液状碱性反应剂加注结束,在制备器内的反应物中加注按一定比例配伍的氢氟酸和硅氟酸混合液体,待母体化合物制备器内的反应物中的F含量达到一定含量时加注结束,氟化晶格转变一定时间后,送入压滤机脱水、烧干、煅烧、冷却后过筛粉碎、包装成品。本发明专利技术的有益效果是:该工艺方法操作方法简单,可行性好,效果佳。用本方法制作的向心四方体形氧化镧铈稀土抛光粉,可大幅度提高被研磨体的表面精度,不易造成深度划伤,表面光洁度高,尤其满足中硬质玻璃如:眼镜片、玻壳对光洁度的要求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在制作纳米级四方体形氧化镧铈稀土抛光粉时控制原料的溶解浓度、碱性反应剂加注后及酸性反应剂添加后PH值的控制以及氟化晶格时间方面的制作工艺。
技术介绍
目前公认的生产操作工艺是原料氯化稀土在溶解时,对溶解浓度不做控制,碱性反应剂(如碳酸钠)的加注为固体一次性添加,反应温度控制在30°C —45°C,待反应釜内的PH值到达6. 5-7时反应结束,反应结束后直接脱水、烘干。但现在的生产操作工艺,存在反应时间短,结晶迅速,晶格排列无序,造成氧化镧铈稀土抛光粉成品外观形状无规则,在抛光过程中造成被抛光体表面光洁度下降,精度下降,易造成深度划伤
技术实现思路
本专利技术提供一种纳米级四方体形氧化镧铈稀土抛光粉的制作工艺,能够有效控制氧化镧铈稀土抛光粉的外观形状,达到大幅度提高被研磨体的表面精度的目的。本专利技术的技术方案是对原料氯化稀土原料用工业纯水溶解的同时加入酸性助反应剂并调整REO浓度,达到一定浓度的稀土液体经过滤后置入母体化合物制备器内加温并保持在一定范围内,同时加注液状碱性反应剂,当达到一定的PH值液状碱性反应剂加注结束,在制备器内的反应物中加注按一定比例配伍的氢氟酸和硅本文档来自技高网...

【技术保护点】
纳米级四方体形氧化镧铈稀土抛光粉的生产工艺,其特征在于:对原料氯化稀土原料用工业纯水溶解的同时加入酸性助反应剂并调整REO浓度,达到一定浓度的稀土液体经过滤后置入母体化合物制备器内加温,同时加注液状碱性反应剂,当达到一定的PH值液状碱性反应剂加注结束,在制备器内的反应物中加注按一定比例配伍的氢氟酸和硅氟酸混合液体,待母体化合物制备器内的反应物中的F含量达到REO含量的一定百分比时氢氟酸和硅氟酸混合液加注结束,氟化晶格转变一定时间后,送入压滤机脱水、烧干、煅烧、冷却后过筛粉碎、包装成品。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张海水
申请(专利权)人:安阳金石研磨材料有限公司
类型:发明
国别省市:

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