一种基于空间光调制器的椭偏测量装置及测量方法制造方法及图纸

一种基于空间光调制器的椭偏测量装置及测量方法，应用于对样品表面纳米尺度薄膜厚度分布进行观测的测量；其特点采用空间光调制器改变光束两垂直方向偏振的相位延迟，采用面阵探测器记录样品表面薄膜的椭偏图像，采用拟合算法和迭代算法对数据进行处理，精确测量样品表面薄膜形貌参数；本发明专利技术装置无旋转部件，消除了系统不稳定和方位角偏差，且对温度不敏感，有效克服了偏振器件旋转型及光弹调制型椭偏仪的缺点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种薄膜厚度的测量装置及测量方法，具体涉及。
技术介绍
椭圆偏振测量法是利用偏振光测量薄膜或界面参数的测量技术，通过测量经被测样品反射(或透射)光线的偏振态变化来获得样品的厚度和折射率等参数。椭偏仪广泛应用于薄膜厚度和光学常数的测定，能同时测量多层薄膜，膜厚测量范围大，可以从几纳米到 I微米。椭偏仪是一种快速、高精度、非接触式光学测量仪器，能够在各种复杂环境下应用， 可以对各种半导体及其氧化物成分、化合物半导体成分的梯度膜层和透明薄膜的折射率和厚度以及微结构等物理结构特性进行分析。 根据获取椭偏角(Ψ，Λ )方式的不同，目前应用比较广泛的椭偏仪可分为偏振器件旋转型和光弹调制型。偏振器件旋转型主要是指通过旋转调制椭偏仪中的某一/多个偏振器件来获取椭偏角的方法。根据旋转器件的不同，又可细分为旋转检偏器型、旋转起偏器型、旋转补偿器型等；光弹调制型主要是指利用光弹晶体调制光的偏振态从而获取椭偏角的方法，在整个测量过程中没有器件的机械运动。偏振器件旋转型椭偏仪由于旋转部件造成的系统不稳定和方位角偏差而降低了其测量精度；光弹调制型的缺点是调制器易受温度影响。设计一种基于空间光调制本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于空间光调制器的椭偏测量装置，包括带有偏振态和光斑尺寸控制部件的入射臂（1）、带有偏振态和光斑尺寸控制部件的接收臂（2）以及与带有偏振态和光斑尺寸控制部件的入射臂（1）和带有偏振态和光斑尺寸控制部件的接收臂（2）相连接的控制系统（3）；所述带有偏振态和光斑尺寸控制部件的入射臂（1）包括沿着入射光路依次设置的：激光器（4），用于发出照射待测对象的单频率光；准直扩束装置（5），用于对所述激光器（4）发出的光进行准直和扩束；起偏器（6），用于把所述准直扩束装置（5）输出的任意偏振态的光转变成线偏振光；所述起偏器（6）安装在使其光轴在与入射光路垂直的一个平面内转动起偏器旋转控制台（7）；入射光阑...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孟方方，张继涛，吴学健，李岩，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：发明
国别省市：