电子射线源产生装置及产生低剂量率电子射线的方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种电子射线源产生装置及产生低剂量率电子射线的方法。该电子射线源产生装置用于辐照一照射面，该电子射线源产生装置包括一用于输出一电子射线的电子射线发生器，在该电子射线的传输路径上设有一遮蔽板，用于遮挡该电子射线，该遮蔽板上开有用于漏射部分该电子射线的多个漏孔。本发明专利技术的电子射线源产生装置及产生低剂量率电子射线的方法能够输出低剂量率的电子射线，同时结构简单、成本低廉。

【技术实现步骤摘要】
电子射线源产生装置及产生低剂量率电子射线的方法
本专利技术涉及电子射线领域，特别是涉及一种低剂量率的电子射线源产生装置及产生低剂量率电子射线的方法。
技术介绍
电子射线可以广泛用于工业辐照加工和科研实验。一般通用的电子射线发生器为提高工业生产效率而设计，电子射线的输出设计偏向大功率，高剂量率。因此很难利用这些电子射线发生器获得低剂量率的电子射线。当需要使用通用的电子射线发生器进行低剂量率电子射线相关应用包括产品某些辐照考验试验时，需要的剂量率远远低于通用电子射线发生器所能产生的剂量率下限。通用的电子射线发生器很难满足要求，或需要大幅度的改装。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是为了克服现有技术中的电子射线源产生装置输出的电子射线功率大、剂量率高，在某些辐照试验或是有特殊要求的产品加工中，所需要的剂量率远远低于输出的电子射线的剂量率下限，只有大幅度改装设备才能满足要求的缺陷，提供一种无需增加额外控制设备且成本低廉，同时又能够产生低剂量率的电子射线的电子射线源产生装置及方法。本专利技术是通过下述技术方案来解决上述技术问题的：本专利技术提供了一种电子射线源产生装置，用于辐照一照射面，该本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子射线源产生装置，用于辐照一照射面，该电子射线源产生装置包括一用于输出一电子射线的电子射线发生器，其特征在于，在该电子射线的传输路径上设有一遮蔽板，用于遮挡该电子射线，该遮蔽板上开有用于漏射部分该电子射线的多个漏孔。

【技术特征摘要】
1.一种电子射线源产生装置，用于辐照一照射面，该电子射线源产生装置包括一用于输出一电子射线的电子射线发生器，其特征在于，在该电子射线的传输路径上设有一遮蔽板，用于遮挡该电子射线，该遮蔽板上开有用于漏射部分该电子射线的多个漏孔，该遮蔽板所用材料的元素的原子序数小于30，该遮蔽板的厚度大于该电子射线发生器发出的电子射线在该遮蔽板所用材料中的极限穿透深度，该电子射线源产生装置还包括一调节机构，用于调节该遮蔽板的位置。2.如权利要求1所述的电子射线源产生装置，其特征在于，该多个漏孔的总面积与该遮蔽板的面积之比为孔洞率，该孔洞率大于等...

【专利技术属性】
技术研发人员：李景烨，李林繁，王敏，张阔，沈蓉芳，蒋海青，张聪，
申请(专利权)人：中国科学院上海应用物理研究所，
类型：发明
国别省市：