透明导电性薄膜及其制造方法技术

本发明专利技术提供透明导电性薄膜及其制造方法。挠性透明基材上具有结晶性的透明导体层的透明导电性薄膜中，即使透明导体层被图案化，在组装到了触摸屏等中时，也能抑制由看到图案开口部与图案形成部的边界导致的美观性降低。一种在挠性透明基材的一个面上形成有由结晶性导电性金属氧化物形成的透明导体层的透明导电性薄膜，挠性透明基材的厚度为80μm以下。本发明专利技术的透明导电性薄膜在140℃下加热30分钟时的尺寸变化率H1与将通过蚀刻去除了透明导体层的透明导电性薄膜在140℃下加热30分钟时的尺寸变化率H2之差H1-H2为-0.02%~0.043%。因此，可减小组装到了触摸屏等中时图案边界处的台阶差，抑制美观性降低。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在挠性透明基材的ー个面上具有透明导体层的。
技术介绍
迄今，作为触摸屏等中使用的透明导电性薄膜，已知有在透明薄膜等挠性透明基材上层叠有由ITO等导电性金属氧化物形成的透明导体层的薄膜。近年来，可多点输入(多点触摸)的投影型静电容量方式的触摸屏、矩阵型的电阻膜方式触摸屏受到注目，在这些触摸屏中，透明导电性薄膜的透明导体层被图案化为规定形状(例如条纹状)。这种透明导电性薄膜包括在挠性透明基材上具有透明导体层的图案形成部和在挠性透明基材上不具有透明导体层的图案开ロ部。透明导体层被图案化的情况下，有时起因于形成有透明导体层的部分(图案形成部)与未形成透明导体层的部分(图案开ロ部)之间的反射率差，可看到图案，作为显示元件的美观性变差。从抑制这种由透明导体层的有无导致的视觉识别性的差异的角度出发，提出了 在薄膜基材与透明导体层之间设置多个电介质层作为底涂层，将电介质层的折射率等调整至规定范围(例如专利文献广4)。现有技术文献_5] 专利文献专利文献I :日本特开2010-15861号公报专利文献2 :日本特开2008-98169号公报专利文献3 :日本特许第4364938号说明本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透明导电性薄膜，其具有挠性透明基材和形成在所述挠性透明基材的一个面的由结晶性导电性金属氧化物形成的透明导体层，所述挠性透明基材的厚度为80μm以下，将该透明导电性薄膜在140℃下加热30分钟时的尺寸变化率H1与将通过蚀刻去除了透明导体层的该透明导电性薄膜在140℃下加热30分钟时的尺寸变化率H2之差H1?H2为?0.02%~0.043%。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：山崎由佳，梨木智刚，菅原英男，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：