【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及表面加工技术，具体地说是一种保护层处理方法及其装置，尤其涉及触控面板保护层处理方法及其装置。
技术介绍
近年来，随着触控技术的不断发展，触控面板已广泛应用于诸如手机、个人数字助理(PDA)、游戏机输入接口、电脑触控屏等各种电子产品中。触控面板与显示面板集成一体，通常包括透明基板及布设于其上的电极层，导电边缘电极及导电线路形成于面板周边的电极层上。所述保护层敷设于电极层及透明基板上。因边缘电极和导电线路的厚度造成保护层的不平坦，在面板边缘高出，造成美感缺陷。而且，触控面板在使用时需与外接电路相贴合，需要将边缘电极和周边的导电线路上的保护层蚀穿，使外接电路与面板上保护层下方的电极层建立电接触。现有的去除导电边缘电极及导电线路上方的保护层的方法有两种光蚀刻微影和网印。光蚀刻微影，即光刻，是一种图形复印和化学腐蚀相结合的精密表面加工技术，其目的就是在二氧化硅或金属薄膜上面蚀刻出与掩膜版完全对应的几何图形。光刻是一个复杂的工艺流程，通过一系列生产步骤将表面薄膜的特定部分去除，最终形成一定的图案。如图I所示，一般的光刻工艺的生产步骤包括清洗、涂布光阻层、曝光、...
【技术保护点】
一种保护层处理方法，其特征在于：包括以下步骤：S1：在基体上形成一保护层；S2：通过一定位系统预先设定一预定图案，存储于该定位系统中；及S3：通过一涂布装置在该保护层的表面按所述预定图案涂布蚀刻剂，以形成该保护层所需的图案。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈猷仁，林坤荣，
申请(专利权)人：宸鸿科技厦门有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。