触控面板与其制法、与其所组成的显示装置制造方法及图纸

技术编号:8386953 阅读:131 留言:0更新日期:2013-03-07 07:30
本发明专利技术提供一种触控面板与其制法、与其所组成的显示装置。触控面板包括:一基板,具有一可视区与一位于可视区边缘的边框区;一图案化透明导电层,形成于基板之上,其中位于可视区的图案化透明导电层具有触控感应功能;以及一图案化金属层,形成于图案化透明导电层上且形成于边框区,其中图案化金属层具有一接触区与连接接触区的一走线区,且至少部分的该接触区重叠于图案化透明导电层,且图案化金属层的接触区的形成位置与图案化透明导电层的形成位置之间的偏移量小于150μm。

【技术实现步骤摘要】
触控面板与其制法、与其所组成的显示装置
本专利技术是有关于一种触控面板,且特别是有关于一种触控面板与其制法,与其所组成的显示装置。
技术介绍
随着科技日新月异的进步,消费性电子产品的应用也越来越多样化,目前的许多电子产品中,除了以轻、薄、短、小为主外,许多可携式的电子产品(例如个人数字助理(personaldigitalassistant,PDA)或移动电话已广泛地使用触控面板(touchpanel)。传统的触控面板可分为电阻式(Resistive)、电容式(Capacitive)、超音波式(SurfaceAcousticWave)及光学式(Optics)等四种,其中电容式又可分为表面电容式(SurfaceCapacitive)与投射式电容(ProjectiveCapacitive)两种,而电容式触控面板由于具有较高的透光率,因此,目前受到许多研究的重视。请参见图1,此为已知电容触控面板10的俯视图,电容触控面板10可分成边框区(border)2a与可视区(viewregion)2b,其中边框区2a位于可视区2b的边缘。可视区2b主要由图案化透明导电层14a所组成,例如氧化铟锡(indiumtinoxide,ITO),图案化的方法为一般已知的光刻蚀刻工艺,边框区2a主要由导线(trace)16所组成,导线16一般由银浆网印工艺(Agscreenprintingprocess)而得。随着触控面板逐渐朝向窄边框的需求,图案化透明导电层14a与导线16重叠的宽度d1要求于0.3mm以下,而导线16与可视区2b之间的间距d2要求于0.5mm以下。然而,以目前工艺技术,是先形成图案化透明导电层14a,再借由银浆网印工艺形成导线16,这些工艺不但要考虑黄光曝光工艺的精度(precision),还要考虑银浆网印工艺精度,最后还要考量保护玻璃(coverglass)与感测元件(包括图案化透明导电层14a与导线16)组装的精度,因此,要达到上述d1与d2的要求并不容易。因此,业界亟需提出一种触控面板与制法,此制法可提升工艺精度,进而提升产能(productioncapacity)。
技术实现思路
本专利技术提供一种触控面板,包括:一基板,具有一可视区与一位于该可视区边缘的边框区;一图案化透明导电层,形成于该基板之上,其中位于该可视区的该图案化透明导电层具有触控感应功能;以及一图案化金属层,形成于该图案化透明导电层上且形成于该边框区,其中该图案化金属层具有一接触区与连接该接触区的一走线区(traceregion),且至少部分的该接触区重叠于该图案化透明导电层,且该图案化金属层的该接触区的形成位置与该图案化透明导电层的形成位置之间的偏移量(shiftrange)小于150μm。本专利技术另提供一种触控面板的制法,包括以下步骤:提供一基板;形成一透明导电层于该基板之上;形成一图案化金属层于该透明导电层之上;以及图案化该透明导电层,以形成一图案化透明导电层。本专利技术亦提供一种显示装置,包括:一显示单元;以及一如上所述的触控面板,形成于该显示单元之上。附图说明为让本专利技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂,以下结合附图对本专利技术的具体实施方式作详细说明,其中:图1为一俯视图,用以说明已知的电容触控面板的俯视图。图2A-2D为一系列示意图,用以说明本专利技术触控面板制法的流程。图3A-3B为一系列剖面图,用以说明本专利技术一实施例的触控面板。图4为一剖面图,用以说明本专利技术另一实施例的触控面板。图5为一剖面图,用以说明本专利技术的显示装置。主要元件符号说明:2a~边框区2b~可视区10~电容触控面板14a~图案化透明导电层16~导线d1~图案化透明导电层与导线重叠的宽度d2~导线与可视区之间的间距102~基板104~透明导电层104a~图案化透明导电层106a~图案化金属层I~图案化透明导电层的形成位置R~图案化金属层的接触区的形成位置C1、C2~接触区S1、S2~偏移量300~触控面板400~触控面板402~第一基板404a~图案化透明导电层406a~图案化金属层407~第一胶材412~第二基板414a~图案化透明导电层416a~图案化金属层417~第二胶材450~保护基板具体实施方式请参见图2A-2D,这些图显示本专利技术的触控面板的制法的流程图。首先,请参见图2A,提供基板102,其具有一可视区(图2A中未显示,实际位置如同图1中的1b)与一位于可视区边缘的边框区(图2A中未显示,如同图1中的1a)。基板102包括聚对苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate),PET)、聚碳酸酯(polycarbonate,PC)或聚甲基丙烯酸甲酯(polymethylmethacrylate),PMMA)。于一较佳实施例,基板102由聚对苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate),PET)所组成。接着,请参见图2B,形成透明导电层104于基板102之上,其中位于可视区的图案化透明导电层104具有触控感应功能。之后,形成图案化金属层106a于透明导电层104之上与形成于边框区,形成图案化金属层106a的方法可使用网印工艺。上述的透明导电层104包括氧化铟锡(indiumtinoxide,ITO)、氧化铟锌(indiumzincoxide,IZO)、氧化镉锡(cadmiumtinoxide,CTO)、氧化铝锌(aluminumzincoxide,AZO)、氧化铟锡锌(indiumtinzincoxide,ITZO)、氧化锌(zincoxide)、氧化镉(cadmiumoxide,CdO)、氧化铪(hafniumoxide,HfO)、氧化铟镓锌(indiumgalliumzincoxide,InGaZnO)、氧化铟镓锌镁(indiumgalliumzincmagnesiumoxide,InGaZnMgO)、氧化铟镓镁(indiumgalliummagnesiumoxide,InGaMgO)或氧化铟镓铝(indiumgalliumaluminumoxide,InGaAlO)。上述的图案化金属层106a包括铜、镍、铝、铬、银或金。于一较佳实施例中,可使用银浆网印工艺,于氧化铟锡(indiumtinoxide,ITO)之上形成图案化银层。之后,请参见图2C,于图案化金属层106a之上形成光阻层107。请参见图2D,借由曝光、显影(developing)、去膜(striping)与蚀刻(etching)的一连串的光刻蚀刻工艺,以得到图案化透明导电层104a。已知技术中,是先形成图案化透明导电层,之后才形成图案化金属层,由于一般银浆网印工艺的精度大约±150μm(0.15mm),因此,已知技术的图案化金属层至少会有150μm(0.15mm)的偏移。而本专利技术是先形成图案化金属层,再形成图案化透明导电层,因此,可将第一道工艺视为基准线(baseline),亦即将误差较大的网印工艺作为基准线,之后,仅需考量第二道工艺(光刻蚀刻工艺)的偏移即可(一般光刻蚀刻工艺的精度为约±10μm),因此,可大幅降低工艺偏移,进而提高工艺产能。请参见图3A,此图显示本专利技术触控面板300的剖面图,其中图案化透明导电层104a形成于基板102之上;以及图案本文档来自技高网
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触控面板与其制法、与其所组成的显示装置

【技术保护点】
一种触控面板,包括:一基板,具有一可视区与一位于该可视区边缘的边框区;一图案化透明导电层,形成于该基板之上,其中位于该可视区的该图案化透明导电层具有触控感应功能;以及一图案化金属层,形成于该图案化透明导电层上且形成于该边框区,其中该图案化金属层具有一接触区与连接该接触区的一走线区,且至少部分的该接触区重叠于该图案化透明导电层,且该图案化金属层的该接触区的形成位置与该图案化透明导电层的形成位置之间的偏移量小于150μm。

【技术特征摘要】
1.一种触控面板,包括:一基板,具有一可视区与一位于该可视区边缘的边框区;一图案化透明导电层,形成于该基板之上,其中位于该可视区的该图案化透明导电层具有触控感应功能;以及一图案化金属层,形成于该图案化透明导电层上且形成于该边框区,其中该图案化金属层具有一接触区与连接该接触区的一走线区,且至少部分的该接触区重叠于该图案化透明导电层,且该图案化金属层的该接触区的形成位置与该图案化透明导电层的形成位置之间的偏移量小于150μm,其中该图案化金属层的该接触区的形成位置短于该图案化透明导电层的形成位置。2.如权利要求1所述的触控面板,其特征在于,该图案化金属层的该接触区的形成位置与该图案化透明导电层的形成位置之间的偏移量为10~150μm。3.如权利要求1所述的触控面板,其特征在于,该基板包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯。4.如权利要求1所述的触控面板,其特征在于,该透明导电层包括氧化铟锡、氧化铟锌、氧化镉锡、氧化铝锌、氧化铟锡锌、氧化锌、氧化镉、氧化铪、氧化铟镓锌、氧化铟镓锌镁、氧化铟镓镁或氧化铟镓铝。5.如权利要求1所述的触控面板,其特征在于,该图案化金属层包括铜、镍、铝、...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵倢妤陈冠豪谢嘉铭廖维仑
申请(专利权)人:奇美电子股份有限公司群康科技深圳有限公司
类型:发明
国别省市:

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