【技术实现步骤摘要】
本技术涉及气氛管式炉
，具体属于可相对滑动的真空气氛管式炉箱体。
技术介绍
在ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器(MLCC)气氛烧结等，烧结主要采用管式炉。现有的管式炉加热元件和耐火材料主要安装于上箱体上，与箱体为一体式结构，不便于炉管的安装和热工结构的维修，操作不方便。本
技术实现思路
本技术的目的是提供了可相对滑动的真空气氛管式炉箱体，克服了现有技术的不足，设计简单，结构合理，上箱体可翻转结构，便于炉管的安装、更换，和热工结构的维修。本技术采用的技术方案如下可相对滑动的真空气氛管式炉箱体，包括上箱体和下箱体，所述的上箱体滑动安装于下箱体上端面上，下箱体上端面设有两条导轨，导轨上安装有滑块。所述的上箱体为上盖和箱体，上盖与箱体为翻盖结构，上盖和箱体中设有炉管放置槽。与已有技术相比，本技术的有益效果如下本技术设计上箱体可在下箱体上活动，便于将对需要将热部件进行均匀加热，操作方便，上箱体可翻转结构，便于炉管的安装、更换，和热工结构的维修。附图说明图I为本技术的结构示意图。具体实施方式参见附图，可相对滑动的真空气氛管式炉箱体，包括上箱...
【技术保护点】
可相对滑动的真空气氛管式炉箱体，包括上箱体和下箱体，其特征在于：所述的上箱体滑动安装于下箱体上端面上，下箱体上端面设有两条导轨，导轨上安装有滑块。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王继海，仇恒祥，
申请(专利权)人：合肥荣业新材料设备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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