【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光栅测量系统，特别涉及一种双频光栅干涉仪测量系统。
技术介绍
光栅测量系统作为一种典型的位移传感器广泛应用于众多机电设备。光栅测量系统的测量原理主要基于莫尔条纹原理和衍射干涉原理。基于莫尔条纹原理的光栅测量系统作为一种发展成熟的位移传感器以其高分辨率、高精度、成本低、易于装调等众多优点成为众多机电设备位移测量的首选。半导体制造装备中的光刻机是半导体芯片制作中的关键设备。超精密工件台是光刻机的核心子系统，用于承载掩模板和硅片完成高速超精密步进扫描运动。超精密工件台以其闻速、闻加速、大行程、超精密、多自由度等运动特点成为超精密运动系统中最具代表性的一类系统。为实现上述运动，超精密工件台通常采用双频激光干涉仪测量系统测量超精密工件台多自由度位移。然而随着测量精度、测量距离、测量速度等运动指标的不断提高，双频激光干涉仪以环境敏感性、测量速度难以提高、占用空间、价格昂贵、测量目标工件台难以设计制造控制等一系列问题难以满足测量需求。针对上述问题，世界上超精密测量领域的各大公司及研究机构展开了一系列的研究，研究主要集中于基于衍射干涉原理的光栅测量系统，研究成...
【技术保护点】
一种双频光栅干涉仪位移测量系统，特征在于：包括双频激光器（1）、干涉仪（2）、测量光栅（3）和电子信号处理部件（4）；所述干涉仪（2）包括偏振分光镜（21）、波片、折光元件（23）、反射器（24）、检偏器（25）和光电探测器；所述双频激光器（1）出射的双频激光经光纤传输至偏振分光镜（21）后分为参考光和测量光，参考光经参考臂四分之一波片（22’）、反射器（24）反射后产生两束平行参考光，两束平行参考光经参考臂四分之一波片（22’）、偏振分光镜（21）、检偏器（25）后分别入射至第一光电探测器（26）、第二光电探测器（27）；测量光经测量臂四分之一波片（22）、折光元件（23...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：朱煜，张鸣，王磊杰，胡金春，陈龙敏，杨开明，徐登峰，尹文生，穆海华，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：发明
国别省市：
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