一种线宽量测装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种线宽量测装置，用于撷取待测图案的影像，所述线宽量测装置至少包括：第一背向光源和第二背向光源，所述第一背向光源和所述第二背向光源分别装设在待测图案底侧的下方，并投射背向照明在所述待测图案上；取像装置，装设在待测图案顶侧的上方，用以撷取所述待测图案的影像。实施本发明专利技术的线宽量测装置，在有效避免阴影产生，提高取像装置对待测图案取像精准性的基础上，进一步减少了使用光源的台数，降低线宽量测装置的改装及维护成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种线宽量测装置，尤其涉及一种投射背向照明在待测图案上，以避免待测图案的边缘产生阴影而影响取像的线宽量测装置。
技术介绍
随着半导体制程的发展，积体电路元件越来越精密。因此在半导体制程中，光罩或晶圆的细微线路图案的线宽、线距等关键尺寸(Critical Dimension,⑶)的控制是一个很重要的环节。一般而言，制造商会使用线宽量测装置对线路图案进行关键尺寸的检测，其可以用来量测线宽、线距是否准确而没有偏移。请参考图I所示，图I为现有技术进行线宽量测的示意图。现有技术是使用一取像 装置91 (如CXD镜头)对一待测图案92进行撷取影像，再通过计算机处理进行线宽量测。而所述取像装置通常会跟一光源装置90组装在一起，由所述光源装置90于所述待测图案92的正上方提供正向照明光源，让所述取像装置得以撷取出清晰的影像。然而随着半导体尺寸缩小时，其制程上所能容忍的线宽误差也越来越小。因此，所述线宽量测技术在实际使用上仍具有下列问题由于所述光源装置90是以放射状的方式垂直投射于所述待测图案上，故所述待测图案92的边缘可能会因为厚度关系而无法被所述光源装置90照射到，进而产生阴影。请本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种线宽量测装置，用于撷取待测图案的影像，其特征在于，所述线宽量测装置至少包括：第一背向光源和第二背向光源，所述第一背向光源和所述第二背向光源分别装设在待测图案底侧的下方，并投射背向照明在所述待测图案上；取像装置，装设在待测图案顶侧的上方，用以撷取所述待测图案的影像。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林勇佑，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：