钼粉钾杂质的除去方法技术

技术编号:833475 阅读:266 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种钼粉钾杂质的除去方法,它包括将钼酸铵一次氢气还原生成二氧化钼,然后对二氧化钼进行筛分,再进行二次氢气还原生成钼粉,对所述二次氢气还原生成的钼粉,进行水洗或酸洗,并经固液分离和烘干,再进行筛分即得成品钼粉。在固液分离和/或烘干后,对钼粉还可进行三次氢气还原。该工艺方法具有工艺简单,除杂效果显著,能有效地去除钼粉中的钾杂质。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及金属钼的制备方法,尤其涉及去除钼粉中钾杂质的工艺方法。
技术介绍
金属钼因其具有高熔点、高耐磨性、良好的导热导电性能及低膨胀系数等优异的物理和化学性能,在电子、电光源、冶金及金属加工行业等工业生产上有着广泛的应用。而钼粉又是制取各种钼制品的材料,大多使用条件下,对钼及钼粉在应用上要求其具有较高的纯度。传统的钼粉制备工艺是以钼酸铵为原料,经一次低温氢气还原生成二氧化钼,筛分后进行二次高温氢还原,再经筛分、混合组批出成品钼粉。上述传统工艺方法生产出的钼粉质量,在很大程度上依赖于钼酸铵的原料质量,而钾恰是钼酸铵产品中含量最高的杂质元素,现有的钼粉生产工艺并不能有效去除钼粉中的钾杂质,其钾残留比例很高。由于钾系低熔点碱金属元素,其熔点只有63℃,沸点774℃;钾能与氧气化合成氧化钾,很容易溶解于水里,在空气中极易吸潮生成具有很强腐蚀性的氢氧化钾,是最强的碱之一。因而,在钼的高温烧结(烧结温度在1900℃以上)过程中或作为电光源材料时,钾会以气态挥发出来,粘在高温加热元件或发热发光元件等器件上;或是吸潮后影响电器的绝缘性能,或以强碱形式腐蚀发热元件、耐火材料和保温材料,污染产本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种钼粉钾杂质的除去方法,包括将钼酸铵一次氢气还原生成二氧化钼,然后对二氧化钼进行筛分,再进行二次氢气还原生成钼粉,其特征在于:对所述二次氢气还原生成的钼粉,进行水洗或酸洗,并经固液分离和烘干,再进行筛分即得成品钼粉。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吴勇本徐志贤
申请(专利权)人:江苏峰峰钨钼制品股份有限公司
类型:发明
国别省市:32[中国|江苏]

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