【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及。
技术介绍
钼是一种具有高沸点及高熔点的难熔金属，在钢铁工业、有色冶金、电子、电光源、 化工、农业等领域有着广泛的用途。随着科学技术不断进步，钼应用领域不断扩大。钼粉 是各种钼制品的最重要的原料，对钼粉冶制品的质量性能有着至关重要的影响。电子领域 对钼粉的需求量越来越大，而且对钼粉的理化指标要求也有别于普通钼粉，特别是对钼粉 中的钾含量有较严的要求，要达到20ppm以下。目前，制备钼粉的方法普遍采用氢还原的方法，根据加工过程不同分别有一段氢还原 法、二段氢还原法、三段氢还原法等，但总体上制备的钼粉钾含量均在50ppm以上，难以 满足电子工业的要求。
技术实现思路
本专利技术的目的就是针对上述已有技术存在的不足，提供一种制备工艺简单、对原料的 要求低、能将钾含量控制在20ppm以的制取低钾钼粉的方法。 本专利技术的目的是通过以下技术方案实现的。，其特征在于采用钾含量小于160ppm的二氧化钼为原料，筛 分后经二段氢还原、真空破碎球磨，经筛分制得低钾钼粉。本专利技术的，其二氧化钼原料可以是采用钼酸铵一次还原制备 的二氧化钼，或钼酸铵经焙烧得到三氧化钼再...
【技术保护点】
一种制取低钾钼粉的方法，其特征在于采用钾含量小于１６０ｐｐｍ的二氧化钼为原料，筛分后经二段氢还原、真空破碎球磨，经筛分制得低钾钼粉。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：武洲，
申请(专利权)人：金堆城钼业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：87[中国|西安]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。