光谱分析试块模具制造技术

本实用新型专利技术公开了一种铸造模具结构，提供了一种结构简单，定位准确光谱分析试块模具，解决了现有技术中存在的冷铁易出现跑位现象，并因此导致冷铁偏离工艺要求的位置而起不到冷却作用等的技术问题，它包括模具及设在模具表面的冷铁，在所述模具上设有磁铁，冷铁通过磁铁磁性吸附固定在模具的表面。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种铸造模具结构，尤其涉及一种成型质量好，脱模方便快捷的光谱分析试块模具。
技术介绍
为了鉴别铸件的化学组成和相对含量，通常需要对铸件进行光谱分析，为此需在同等条件下浇注制作分析试块，但现有的光谱分析试块模具结构复杂，分析试块成型质量差，由此分析试块无法准确反映铸件的组份及含量，影响了光谱分析的准确性。中国专利公开了一种制作光谱分析样品的模具(CN201965047U)，它包括底板、转轴、左半模和右半模，转轴垂直设在底板上，左、右半模的同一端铰接在转轴上，其中左半模和右半模的型腔中相应设有凹入的台阶，台阶的位置位于各自型腔侧壁的上部。此装置中的左、右半模是通过转轴铰接在底板上，虽然结构相对简单，但浇注时，左、右半模极易向两 侧胀开，从而无法确保分析试块的成型质量，且脱模时需解开左、右半模上的锁紧结构并同时向外展开，费时费力，工人劳动强度高，工作效率低。
技术实现思路
本技术主要是提供了一种定位准确，分析试块成型质量好，且脱模方便快捷的光谱分析试块模具，解决了现有技术中存在的分析试块成型质量差，脱模费时费力，工作效率低等的技术问题。本技术的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的一种光谱分析试块模具，包括底板及设于底板上的左半模和右半模，左半模、右半模和底板共同围合成试块型腔，在所述底板的上表面设有水平滑槽，对接后的左半模和右半模通过水平滑槽夹紧固定在底板上。通过在底板上设置水平滑槽，并将对接后的左、右半模对称夹持在水平滑槽内，即水平滑槽限定了左、右半模的位置，这样在浇注时，左、右半模即无法向外胀开，从而保证了分析试块的成型质量，脱模时使左、右半模沿水平滑槽向外滑出即可，方便快捷，省时省力。作为优选，在所述左半模上对应于右半模的配合面的一端设有前纵向开口槽，在右半模上设有与前纵向开口槽互配的前纵向凸台，在左半模上对应于右半模的配合面的另一端设有后纵向凸台，在右半模上设有与后纵向凸台互配的后纵向开口槽。通过在左、右半模的配合面上设置互配的纵向凸台和纵向开口槽，避免左、右半模出现前后错位现象，保证了分析试块的成型质量。左半模与右半模对接后可以是圆柱形、多棱柱等各种形状，作为优选，所述左半模与右半模对接后为长方体结构，且左半模和右半模相对水平滑槽的中心面呈中心对称分布。长方体结构易加工，且方便在水平滑槽内定位夹紧，左、右半模呈中心对称分布时，通用性好，节约制作成本。作为优选，所述水平滑槽为水平通槽。水平通槽便于左、右半模自两侧滑出后进行脱模。作为优选，所述试块型腔的轴心线与水平滑槽的底面垂直，且试块型腔在左半模和右半模上呈对称分布。确保试块完全白口化，且化学成分分布均匀，提高检测结果准确性。因此，本技术的光谱分析试块模具具有下述优点通过在底板上设置水平滑槽夹持左、右半模，浇注时，水平滑槽即限定了左、右半模向外胀开，从而保证了分析试块的成型质量，且左、右半模沿水平滑槽向两侧滑出即可脱模，方便快捷，省时省力；通过在左、右半模的配合面上设置互配的纵向凸台和纵向开口槽，避免左、右半模出现前后错位现象，进一步保证了分析试块的成型质量。附图说明图I是本技术光谱分析试块模具的结构示意图。具体实施方式下面通过实施例，并结合附图，对本技术的技术方案作进一步具体的说明。实施例如图I所示，本技术的一种光谱分析试块模具，包括一块方形的底板1，在底板I的中部横向开有一条水平滑槽4，水平滑槽4的两端与底板I的端面相导通，在水平滑槽4的底面上垂直放置了一个左半模2和一个右半模3，左半模2和右半模3对接，两者对接后为长方体结构，且左半模2和右半模3相对水平滑槽4的中心面呈中心对称分布，其中左半模2、右半模3和底板I共同围合成试块型腔9，试块型腔9的轴心线与水平滑槽4的底面垂直，且试块型腔9在左半模2和右半模3上呈对称分布，在左半模2上对应于右半模3的配合面的前端开有一个前纵向开口槽5，在右半模3上开有一个与前纵向开口槽5互配的前纵向凸台6，在左半模2上对应于右半模3的配合面的后端开有一个后纵向凸台7，在右半模3上开有一个与后纵向凸台7互配的后纵向开口槽8，左半模2的外侧平行抵接在水平滑槽4的左边沿上，右半模3的外侧平行抵接在水平滑槽4的右边沿上，使对接后的左半模2和右半模3夹紧固定在底板I上的水平滑槽4内。本文中所描述的具体实施例仅仅是对本技术的构思作举例说明。本技术所属
的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本技术的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。权利要求1.一种光谱分析试块模具，包括底板(I)及设于底板(I)上的左半模(2)和右半模(3),左半模(2)、右半模(3)和底板(I)共同围合成试块型腔(9)，其特征在于在所述底板(I)的上表面设有水平滑槽(4)，对接后的左半模(2)和右半模(3)通过水平滑槽(4)夹紧固定在底板(I)上。2.根据权利要求I所述的光谱分析试块模具，其特征在于在所述左半模(2)上对应于右半模(3)的配合面的一端设有前纵向开口槽(5)，在右半模(3)上设有与前纵向开口槽(5)互配的前纵向凸台(6)，在左半模(2)上对应于右半模(3)的配合面的另一端设有后纵向凸台(7)，在右半模(3)上设有与后纵向凸台(7)互配的后纵向开口槽(8)。3.根据权利要求I或2所述的光谱分析试块模具，其特征在于所述左半模(2)与右半模(3)对接后为长方体结构，且左半模(2)和右半模(3)相对水平滑槽(4)的中心面呈中心对称分布。4.根据权利要求I或2所述的光谱分析试块模具，其特征在于所述水平滑槽(4)为水平通槽。5.根据权利要求I或2所述的光谱分析试块模具，其特征在于所述试块型腔(9)的轴心线与水平滑槽(4)的底面垂直，且试块型腔(9)在左半模(2)和右半模(3)上呈对称分布。专利摘要本技术公开了一种铸造模具结构，提供了一种结构简单，定位准确光谱分析试块模具，解决了现有技术中存在的冷铁易出现跑位现象，并因此导致冷铁偏离工艺要求的位置而起不到冷却作用等的技术问题，它包括模具及设在模具表面的冷铁，在所述模具上设有磁铁，冷铁通过磁铁磁性吸附固定在模具的表面。文档编号G01N1/28GK202715773SQ20122043480公开日2013年2月6日 申请日期2012年8月30日 优先权日2012年8月30日专利技术者孙袁 申请人:桐乡合德机械有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光谱分析试块模具，包括底板（1）及设于底板（1）上的左半模（2）和右半模（3），左半模（2）、右半模（3）和底板（1）共同围合成试块型腔（9），其特征在于：在所述底板（1）的上表面设有水平滑槽（4），对接后的左半模（2）和右半模（3）通过水平滑槽（4）夹紧固定在底板（1）上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孙袁，
申请(专利权)人：桐乡合德机械有限公司，
类型：实用新型
国别省市：