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一种太阳伞支撑底座制造技术

技术编号:8276104 阅读:188 留言:0更新日期:2013-01-31 17:50
本实用新型专利技术公开了一种太阳伞支撑底座,包括底座主体,其特征在于,所述底座主体中设置有固定太阳伞支撑架的预埋构件。本实用新型专利技术结构更加合理,无需现场电焊安装立柱,灵活、安装调整更加便捷,具有良好的推广价值。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及太阳伞底座

技术介绍
支撑底座使用在许多产品上,如太阳伞、桌椅、风扇等,现有的支撑底座如太阳伞支撑底座一般有铸铁、塑料、天然石等,其制造方式多采用机械冲压或胶合剂粘贴或注塑等制成。如中国专利申请号为CN200710026874. 4,技术名称为人造石太阳伞座及制造方法,包括底座、套管和固定器,其特征在于底座为人造石,主要由高性能树脂、增韧剂、硬化齐IJ、填料和颜料构成,在底座中央位置安装套管,在套管的顶端安装固定器。此专利结构机械强度高、稳定性好,但底座采用的是一体化结构,底座中央的套管管径大小决定着插入太阳伞的伞柄外径,具有一定的局限性,而且带套管的底座占用空间大,运输不便。
技术实现思路
·本技术的目的就是为了解决现有技术之不足而提供的一种结构简单,安装使用方便,而且成本低、装饰性能好的太阳伞支撑底座。本技术是采用如下技术解决方案来实现上述目的一种太阳伞支撑底座,包括底座主体,其特征在于,所述底座主体中设置有固定太阳伞支撑架的预埋构件。作为上述方案的进一步说明,所述预埋构件的上部凸出或与底座主体表面平齐,预埋构件上设置有螺孔。所述螺孔的端面设置有防止土建材料进入螺孔的密封盖。所述预埋构件为钢块、塑料块或铝合金块,预埋构件的数量为三件以上,沿底座表面周向分布。所述底座主体为混凝土或石膏土基座。所述底座主体表面的装饰层为花纹、字体、图案或浮雕层。所述预埋构件的背面设置有与建筑主体固连的网筋,网筋与预埋构件之间采用螺接或焊接方式固定。本技术采用上述技术解决方案所能达到的有益效果是本技术采用在底座主体中设置预埋构件与固定太阳伞的支撑架配合连接,使用安装方便,而且采用了无焊接技术,因此作为定位支撑的预埋构件除了采用传统的钢铁材料外,还可选用其它较为轻便的替代材料,如铝型材等,选材方便,节约整体成本,提高效率。附图说明图I为本技术的结构示意图;图2为本技术的局部剖视结构示意图。附图标记说明1、底座主体2、预埋构件3、螺孔4、密封盖5、网筋。具体实施方式如图I、图2所示,本技术一种太阳伞支撑底座,包括底座主体1,底座主体I中设置有固定太阳伞支撑架的预埋构件2。预埋构件2的上部凸出或与底座主体表面平齐,预埋构件2上设置有螺孔3。螺孔3的两端端面设置有防止土建材料进入螺孔的活动设置的密封盖4。一般情况下,预埋构件2为钢块、塑料块或铝合金块,预埋构件的数量为三件以上,沿底座表面周向分布。底座主体I为混凝土或石膏土基座,底座主体表面的装饰层为花纹、字体、图案或浮雕层,预埋构件的背面设置有与建筑主体固连的网筋5,网筋与预埋构件之间采用螺接或焊接方式固定。制造过程中,先在预埋构件背面装上网筋,在螺孔上套入密封盖,并将其预埋到底座主体中;安装时,先打开密封盖火密封胶,然后通过螺钉将太阳伞支撑架的固定于底座主体上。 以上所述的仅是本技术的优选实施方式,应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本技术创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本技术的保护范围。权利要求1.一种太阳伞支撑底座,包括底座主体,其特征在于,所述底座主体中设置有固定太阳伞支撑架的预埋构件。2.根据权利要求I所述的一种太阳伞支撑底座,其特征在于,所述预埋构件的上部凸出或与底座主体表面平齐,预埋构件上设置有螺孔。3.根据权利要求2所述的一种太阳伞支撑底座,其特征在于,所述螺孔的两端面设置有防止土建材料进入螺孔的密封盖。4.根据权利要求I所述的一种太阳伞支撑底座,其特征在于,所述预埋构件为钢块、塑料块或铝合金块,预埋构件的数量为三件以上,沿底座表面周向分布。5.根据权利要求I所述的一种太阳伞支撑底座,其特征在于,所述底座主体为混凝土或石膏土基座。6.根据权利要求I所述的一种太阳伞支撑底座,其特征在于,所述底座主体表面的装饰层为花纹、字体、图案或浮雕层。7.根据权利要求I所述的一种太阳伞支撑底座,其特征在于,所述预埋构件的背面设置有与建筑主体固连的网筋,网筋与预埋构件之间采用螺接或焊接方式固定。专利摘要本技术公开了一种太阳伞支撑底座,包括底座主体,其特征在于,所述底座主体中设置有固定太阳伞支撑架的预埋构件。本技术结构更加合理,无需现场电焊安装立柱,灵活、安装调整更加便捷,具有良好的推广价值。文档编号F16M11/20GK202698015SQ201220358659公开日2013年1月30日 申请日期2012年7月24日 优先权日2012年7月24日专利技术者黄伟校 申请人:黄伟校本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种太阳伞支撑底座,包括底座主体,其特征在于,所述底座主体中设置有固定太阳伞支撑架的预埋构件。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:黄伟校
申请(专利权)人:黄伟校
类型:实用新型
国别省市:

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