取向处理方法及取向处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种取向处理方法及取向处理装置，其使涂敷了取向膜的基板与具有第一掩模图案组（6A）和第二掩模图案组（6B）的光掩模（7）靠近对置，将该基板（4）在与所述第一及第二掩模图案组（6A）、（6B）交叉的方向上移动，第一掩模图案组（6A）以一定的排列间距形成细长状的多个开口，第二掩模图案组（6B）与该第一掩模图案组（6A）平行地设置且以与所述多个开口的排列间距相同的间距形成细长状的多个开口，对所述光掩模（7）的第一及第二掩模图案组（6A）、（6B）分别照射入射角度（θ）为不同的P偏振光，在所述取向膜上交替地形成取向状态不同的条纹状的第一及第二取向区域。由此，通过一次取向处理来形成取向状态不同的二种条纹状的取向区域并缩短取向处理工序的节拍。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种一面将基板进行移动，一面交替地形成取向状态互不相同的二种条纹状的取向区域的取向处理方法，详细地为涉及想要缩短上述取向处理工序的节拍的取向处理方法及取向处理装置。
技术介绍
现有的这种取向处理方法是使用以一定的排列间距形成条纹状开口的光掩模，对涂敷了取向膜的基板自斜向进行了第一次紫外线照射之后，使基板或者基板和光掩模两者旋转180度，挪动光掩模的相对于基板的相对位置以对第一次紫外线未照射到的区域进行第二次紫外线照射(例如，参见专利文献I)。另外，其他的取向处理方法是透过以一定的排列间距形成条纹状开口的光掩模的 上述开口，自相对于基板垂直线45°方向对基板上的取向膜进行紫外线照射之后，挪动光掩模并自相对于基板垂直线逆45°方向进行偏振紫外线照射(例如，参见专利文献2)。还有别的取向处理方法是一边使滤色基板沿其面方向移动，一边通过在与该滤色基板的移动方向正交的方向上以一定的排列间距形成有多个开口的光掩模，对涂敷了取向膜的滤色基板自斜向进行紫外线照射，对滤色基板的各像素的一半区域进行曝光之后，将曝光位置挪动一半间距，改变紫外线的照射角度并对上述各像素的剩余一半区域进行曝光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：梶山康一，新井敏成，水村通伸，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：
国别省市：