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本发明提供一种取向处理方法及取向处理装置，其使涂敷了取向膜的基板与具有第一掩模图案组（6A）和第二掩模图案组（6B）的光掩模（7）靠近对置，将该基板（4）在与所述第一及第二掩模图案组（6A）、（6B）交叉的方向上移动，第一掩模图案组（6A）...
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