【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种，尤其涉及一种具有耐腐蚀性能的。
技术介绍
真空镀膜技术(PVD)是一种非常环保的成膜技术。以真空镀膜的方式所形成的膜层具有高硬度、高耐磨性、良好的化学稳定性、与基体结合牢固以及亮丽的金属外观等优点，因此真空镀膜在铝、铝合金、镁、镁合金及不锈钢等金属基材表面装饰性处理领域的应用越来越广。 然而，由于铝、铝合金或镁合金基体的标准电极电位很低，且磁控溅射装饰性涂层本身不可避免的会存在微小的孔隙，使得铝、铝合金或镁合金基体会形成微电池腐蚀，形成很大的膜-基电位差，加快了微电池的腐蚀速率，因此，直接于铝、铝合金或镁合金基体表面镀覆膜层，则要求在外部膜层及基体之间加入过渡层，以阻挡原电池的形成，从而达到抗腐蚀的目的。稀土元素具有一系列优良的性能，其腐蚀电位大幅提高，电流密度减小，在膜层中添加纯铈可明显提高其抗腐蚀性能。但稀土成本高，且不易加工。
技术实现思路
有鉴于此，有必要提供一种耐腐蚀的壳体。另外，还有必要提供一种上述壳体的制备方法。一种壳体，包括一基体，依次形成于该基体表面的Al层和防腐蚀层，所述防腐蚀层为Al-Ce层或Al-Ce-O层。一种壳体的制备...
【技术保护点】
一种壳体，包括基体及依次形成于基体表面的Al层和防腐蚀层，其特征在于：所述防腐蚀层为Al？Ce层或Al？Ce？O层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈文荣，陈正士，张娟，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。