一种热解吸与电子轰击相结合的离子源制造技术

技术编号:8272322 阅读:219 留言:0更新日期:2013-01-31 04:47
本发明专利技术涉及一种热解吸与电子轰击相结合的离子源,本发明专利技术的离子源装置包括有内部装有钨丝的取样器,和用于对样品离子化后的正离子进行聚焦加速的离子透镜组,其特征在于,所述的离子源还包括有对吸附在钨丝上样品进行电子轰击的电子发射器。本发明专利技术的离子源采用热解吸与电子轰击相结合的离子化方式,针对不同物质可以设定不同的加热电流范围,以降低背景干扰。该离子化方式产生的主要是单电荷离子,能量发散少,谱线简单,适用于水质中金属元素快速离子化。

【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于离子源仪器设备
,具体涉及一种热解吸与电子轰击相结合的离子源,适用于水质中金属元素的快速离子化。
技术介绍
离子源是质谱仪的最重要组成部分之一,离子源的第一个任务就是将样品分子转变成带电粒子(正离子或负离子);第二个任务就是将带电离子引出、聚焦、加速,形成具有一定几何形状和一定能量的离子束。离子源的性能决定了离子化效率,很大程度上决定了质谱仪的灵敏度,可以称之为质谱仪器的心脏。不同的待测样品离子化方式不同,为了获得一个化合物的质谱图,首先应将样品变成带电的正离子或负离子。目前,常见的几种离子源有电子轰击型离子源(Electron·Impact, EI)、电感稱合等离子体离子源(Inductively Coupled Plasma Ionization,ICP)、化学电离源(Chemical Ionization, Cl)、快原子轰击源(Fast Atom Bombardment,FAB)、大气压电离源(Atmospheric Pressure Ionization, API)、场致电离源(FieldIonization, FI)和场解吸电离源(Field Desorpt本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种热解吸与电子轰击相结合的离子源,包括有内部装有钨丝(2)的取样器(1),和用于对样品离子化后的正离子进行聚焦加速的离子透镜组,其特征在于,所述的离子源还包括有对吸附在钨丝(2)上的样品进行离子化的电子发射器。

【技术特征摘要】
1.一种热解吸与电子轰击相结合的离子源,包括有内部装有钨丝(2)的取样器(1),和用于对样品离子化后的正离子进行聚焦加速的离子透镜组,其特征在于,所述的离子源还包括有对吸附在钨丝(2)上的样品进行离子化的电子发射器。2.如权利要求I所述的离子源,其特征在于所述的离子透镜组包括有前后平行排列的离子引出极(7)、离子聚焦极(8)和离子加速极(9)。3.如权利要求2所述的离子源,其特征在于所述的离子引出极(7)、离子聚焦极(8)和离子加速极(9)分别为直径为30. O mm,厚度为2.0 mm的圆孔金属膜片电极,且孔径大小为4. O mm。4.如权利要求2或3所述的离子源,其特征在于所述的离子引出极(7)和离子聚焦极(8),以及离子聚焦极(8)和离子加速极(9)之间的间距分别为2. O mm。5.如权利要求I所述的离子源,其特征在于所述的电子...

【专利技术属性】
技术研发人员:程永强崔晓杨立惠力高杨杨英赵杰郭翠莲刘孟德
申请(专利权)人:山东省科学院海洋仪器仪表研究所
类型:发明
国别省市:

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