一种反射式体全息布拉格光栅紫外曝光的方法技术

本发明专利技术公开了一种反射式体全息布拉格光栅紫外曝光的方法。包括以下步骤：（1）将待曝光的光栅材料的表面进行抛光；（2）在光栅出射面上镀有反射膜；（3）用一束平行的紫外光从光栅入射面照射光栅材料，反射的紫外光在光栅材料内部和入射的紫外光进行干涉，从而形成干涉条纹；（4）干涉条纹周期Λ=λ/(2nsinα)；（5）保持入射的紫外光和光栅材料的位置5分钟至1小时，至此紫外曝光过程结束。本发明专利技术的紫外曝光方法针对反射式体全息布拉格光栅而设计，通过在光栅材料的后表面镀高反射膜，从而只用一束紫外激光照射光栅材料就可以在光栅材料内部形成干涉条纹，不再需要将紫外激光分为两束然后再干涉，从而大大简化了紫外曝光装置。

【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种反射式体全息布拉格光栅紫外曝光的方法。
技术介绍
光栅作为一种重要的光学器件，按照光栅结构分类，可以将其分为平面光栅和体全息光栅两种，这主要是根据记录在介质中的光栅厚度与记录的干涉条纹间距相比较而言的。当两相干光束在介质内相互作用，形 成三维光栅状全息图，便将其称之为体全息光栅。体全息光栅有着很多平面光栅无法取代的优点，例如通过改变体全息光栅的厚度和光栅的空间频率的体全息布拉格光栅可以获得极高的光谱选择性和角度选择性。近年来研究的光热折变PTR(photo-thermo -refractive)玻璃,克服了以往的各种研究中采用的诸如光折变晶体LiNbO3、聚合物、重铬酸钾凝胶等多种光敏介质的缺点，具有在强激光辐照下仍然坚固耐用不损坏、变形小的极具使用意义的优越特性，从而使得体全息布拉格光栅的广泛应用成为可能。体全息布拉格光栅的刻写一般通过两个步骤完成，第一步是紫外曝光，即通过两束激光照射并相互干涉以后形成干涉条纹，将PTR玻璃放置在干涉条纹的位置，使得材料特性发生周期性变化，形成体光栅“潜相”;第二步是对紫外光照后的PTR玻璃进行微晶化热处理工艺，从而形成折射率永久调制的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种反射式体全息布拉格光栅紫外曝光的方法，其特征在于包括以下步骤：（1）将待曝光的光栅材料（3）的表面进行抛光，使光栅入射面（4）和光栅出射面（5）的表面粗糙度达到Ra？<？0.01μm，Ra为轮廓算术平均偏差，光栅入射面（4）与光栅出射面（5）平行或者光栅入射面（4）与光栅出射面（5）之间的夹角β为1～20度；（2）在光栅出射面（5）上镀有紫外光波段反射率大于90%的高反射膜；（3）用一束平行的紫外光（1）从光栅入射面（4）照射光栅材料（3），紫外光（1）入射至光栅材料（3）内部后到达光栅出射面（5），被光栅出射面（5）上的高反射膜反射，反射的紫外光（2）在光栅材料（3）内部和入射的紫外光（...

【技术特征摘要】
1.一种反射式体全息布拉格光栅紫外曝光的方法，其特征在于包括以下步骤 (1)将待曝光的光栅材料(3)的表面进行抛光，使光栅入射面(4)和光栅出射面(5)的表面粗糙度达到Ra < 0.01//m, Ra为轮廓算术平均偏差，光栅入射面(4)与光栅出射面(5)平行或者光栅入射面(4)与光栅出射面(5)之间的夹角^为I 20度； (2)在光栅出射面(5)上镀有紫外光波段反射率大于90%的高反射膜； (3)用一束平行的紫外光(I)从光栅入射面(4)照射光栅材料(3)，紫外光(I)入射至光栅材料(3)内部后到达光栅出射面(5)，被光栅出射面(5)上的高反射膜反射，反射的紫外光(2)在光栅材料(3)内部和入射的紫外光(I)进行干涉，从而形成了强度周期性变化的干涉条纹(6)； (4)干涉条纹(6)周期」-Λ/ (2...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘崇，叶志斌，葛剑虹，项震，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：