一种曲面复眼的制备方法技术

技术编号:8270722 阅读:272 留言:0更新日期:2013-01-31 02:40
本发明专利技术公开了一种曲面仿生复眼的制备方法,具体为:在衬底上制备微凹透镜阵列;在凹透镜阵列表面沉积聚二甲基硅氧烷,固化处理后将其与凹透镜阵列分离得到聚二甲基硅氧烷的微凸透镜阵列;将SU-8光刻胶滴在曲面基底的下表面,待SU-8冷却固化后,将聚二甲基硅氧烷微透凸镜阵列四周固定在曲面基底的上表面;对曲面基底上表面进行紫外曝光,再对SU-8胶后烘得到自对准的波导阵列。本发明专利技术放弃了直接在曲面基底上制作微凸透镜阵列的方法,先制作出平面微凸透镜阵列后再利用材料的弹性制作出曲面微透镜阵列,同时采用自对准方法制作晶锥波导,该方法能够制备出微米级的曲面透镜阵列,有效减少了透镜和波导对准时带来的误差,同时精确的控制曲面曲率,具有良好的可重复性。

【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学仿生领域,具体涉及一种曲面仿生复眼的制备方法。
技术介绍
仿生复眼具有体积小、视场角大、灵敏度高等优点,是探测器中极佳的模型,在军事、医学等领域有着重要的应用。由于仿生复眼的每个小眼包括聚光透镜和晶锥波导两个部分,因此仿生曲面复眼的制作主要包括曲面微透镜阵列的制作和对应的波导制作两部 分。通常曲面复眼的制作方法是采用曲面光刻技术或者滴液法在曲面基底上制作出微透镜阵列,再将其与光阑阵列或者波导阵列对准耦合。其中最关键的步骤就是曲面微透镜阵列的制作,以及微透镜与波导或光阑阵列的对准。目前国内微透镜阵列的制作工艺停留在平面阶段。曲面微透镜阵列的制作,一般采用滴液法或曲面光刻法。中国科学技术大学的王浩通过在曲面金属基底上逐点滴液制作出曲面微透镜阵列;该方法虽然可以制作出形貌良好的透镜阵列,但是由于滴液工艺精度的限制,单个透镜的尺寸很难达到I毫米以下。长春光机所张红鑫等正在尝试以曲面光栅作为掩模板,在曲面基底上进行两次正交的曝光显影,热熔后进行离子束刻蚀得到曲面微透镜阵列;该方法理论上可以制作出小尺寸透镜,但是其直接在曲面基底上光刻,同时涉及到曲面光栅掩模板的制作,对于设备要求高,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曲面仿生复眼的制备方法,具体为:步骤1在衬底上制备微凹透镜阵列;步骤2在凹透镜阵列表面沉积聚二甲基硅氧烷,固化处理后将其与凹透镜阵列分离得到聚二甲基硅氧烷的微凸透镜阵列;步骤3将前烘过的SU?8光刻胶填充在预先定制的曲面基底的下表面,待SU?8冷却固化后,将聚二甲基硅氧烷微透凸镜阵列固定在曲面基底的上表面;步骤4对曲面基底上表面进行紫外曝光,再对SU?8胶后烘得到自对准的波导阵列。

【技术特征摘要】
1.一种曲面仿生复眼的制备方法,具体为 步骤I在衬底上制备微凹透镜阵列; 步骤2在凹透镜阵列表面沉积聚二甲基硅氧烷,固化处理后将其与凹透镜阵列分离得到聚二甲基硅氧烷的微凸透镜阵列; 步骤3将前烘过的SU-8光刻胶填充在预先定制的曲面基底的下表面,待SU-8冷却固化后,将聚二甲基硅氧烷微透凸镜阵列固定在曲面基底的上表面; 步骤4对曲面基底上表面进行紫外曝光,再对SU-8胶后烘得到自对准的波导阵列。2.根据权利要求I所述的曲面仿生复眼的制...

【专利技术属性】
技术研发人员:罗欢陈四海周一帆李凤
申请(专利权)人:华中科技大学
类型:发明
国别省市:

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