一种平凸形微透镜及其阵列的制造方法技术

一种平凸形微透镜及其阵列的制造方法，在溅射有金属导电层硅片上，利用光刻工艺得到开口为圆形的盲孔或具有不同孔间距和排列方式的盲孔阵列，利用微电铸工艺在孔中电沉积金属，在孔口平面的过电铸过程中，控制电沉积时间得到不同直径和矢高、形状为球面面形或非球面面形的金属质微结构，或得到由金属质微结构构成的阵列充填因子可控调节的金属微结构阵列，以金属微结构及其阵列为模具，浇注聚二甲基硅氧烷（PDMS）后加热固化，获得凹面结构的微结构及其阵列，再在PDMS材质凹腔微结构上浇注光刻胶后用紫外光固化，获得平凸形的球面面形或非球面面形的微透镜及其阵列；本发明专利技术具有面形可控、尺度可控、充填因子可控、工艺集成可操作性好以及批量化的多件复制等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于微细制造技术和微光学
，涉及ー种平凸形微透镜及其阵列制造方法。
技术介绍
据中国科学技术大学出版社2010年出版的《微机电系统工程基础》一书第3-16页介绍，微型机电系统自20世纪80年代以来得到了世界科学和技术界、エ业产业界的广泛重视，其中的微细制造技术作为其核心技术更是研究和创新的重点和热点。该书在第21 —92针对微细加工エ艺技术，分别介绍了基于硅材料的ICエ艺的原理和方法，基于传统加工方法和特种加工方法的非硅材料制造的原理和方法。但是，相关微细制造技术在微光学元件制造
的应用没有予以说明，同时，未见对相关微细制造技术是否可应用于微透镜及其阵列制造领域的介绍。 据中国的科学出版社2001年出版的《先进光学制造技木》ー书第139-168页介绍，微光学元件有衍射型和折射型两种，其中微透镜及其阵列有着广泛的应用前景，主要エ艺技术为激光直写光刻、刻蚀技术。但是，相关的微透镜的面形控制和阵列制造技术未有分析和探讨。据国际光学工程学会(TheInternational Society for Optical Engineering,SPIE)2004 年出版的“本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种平凸形微透镜及其阵列的制造方法，其特征在于实现步骤如下：第一步，在溅射有金属导电层的硅片上，利用光刻工艺，得到开口为圆形的盲孔或具有不同的孔间间距和排列方式的盲孔，通过微细电铸工艺在所述盲孔中电沉积金属，在沉积至盲孔孔口所在平面的过电铸（Over？plating）过程中控制持续电沉积时间为1～8个小时，得到轮廓形状为球面面形或非球面面形的不同直径和矢高的金属质微结构，或得到轮廓形状为球面面形或非球面面形的不同直径和矢高的金属质微结构构成的阵列充填因子可控调节的金属微结构阵列；第二步，以所得的球面面形或非球面面形的金属微结构或金属微结构阵列作为模具，将聚二甲基硅氧烷（PDMS）浇注在所述模具...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王翔，孙浩，翟中平，
申请(专利权)人：中国科学技术大学，
类型：发明
国别省市：