本发明专利技术公开一种反射罩、应用该反射罩的照明装置、测量装置、检测装置，及测量方法及检测方法。该反射罩包括两个或者两个以上连续的反射面，所述反射面具有一共同焦点，所述反射罩由经过该共同焦点的直线为旋转轴旋转形成所述反射罩。所述相较于现有技术，本发明专利技术的反射罩包括至少二反射面；所述反射面具有共同焦点，所述反射罩将位于焦点发出的光线投射于待测物体上并形成一光点，提高了光的强度，增加了光的利用率。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种反射罩，尤其涉及一种提高光的利用率的反射罩，应用该反射罩的检测装置或测量装置及检测方法或测量方法。
技术介绍
测量及检测技术广泛应用于现代加工制造业，以确定元件、半成品或者成品是否符合要求。一种检测系统包括圆顶灯、棱镜及成像模块。所述圆顶灯发出的光线照射到待测物体表面，光线从待测物体表面反射至棱镜以便成像模块拍摄成像。上述的检测系统，虽 然能实现非接触式在线测量；但，需要较高功率的圆顶灯才能提供清晰成像所需要的亮度，光的利用率不高。
技术实现思路
鉴于以上所述，有必要提供一种提高光的利用率的反射罩。此外，还有必要提供一种应用该反射罩的测量和/或检测装置。进一步地，还有必要提供一种利用上述测量装置的测量方法。进一步地，还有必要提供一种利用上述检测装置的检测方法。进一步地，还有必要提供一种利用上述反射罩的照明装置。一种反射罩包括两个或者两个以上连续的反射面，所述反射面具有一共同焦点，所述反射罩由经过该共同焦点的直线为旋转轴旋转形成所述反射罩。其中，所述反射面的个数为二、三或者四个。其中，该反射罩还包括第一侧面、第二侧面及第三侧面，第一侧面与第二侧面相互平行，第三侧面分别与第一侧面及第二侧面垂直连接。一种测量和/或检测装置，用于测量和/或检测待测物体，该装置包括光源、反射罩及成像模块，所述反射罩用于接收光源发出的光并投射于待测量和/或检测物体上，从而为成像模块提供成像光线，该反射罩包括两个或者两个以上连续的反射面，所述反射面具有一共同焦点，所述反射罩由经过该共同焦点的直线为旋转轴旋转形成所述反射罩，所述反射罩用于接收光源发出的光投射于待测量和/或检测物体上形成光点。其中，所述光源包括两个或者两个以上，第i个光源的安装位置为第i段椭圆长 { h I轴与待测量和/或检测物体的待检测面的夹角为ayQr, = arcsin—，其中，该反射面所2 f -Ij在椭圆方程为+ + A = I，hi为第i个光源距离待检面的垂直距离，f1； f2，...，fi;... fn Ai Bi为第i段椭圆弧所在的椭圆的焦距，Ai为第i段反射面所在椭圆的长轴长度，Bi为第i段反射面所在椭圆的短轴长度，A2=Ai2-Bi2, A^Bi0其中，所述装置还进一步包括控制芯片，所述控制芯片与电源及成像模块信号连接，所述控制芯片用于处理成像模块所拍摄的图像。其中，所述光源为LED光源，每个LED光源为LED环状光源；所述环状的宽度越小，越有利于提闻光照效果。 其中，所述反射罩至少两个，所述反射罩间隔地安装于该装置上，每一反射罩上光源的数量与反射罩的反射面数量相同。其中，所述装置对称安装有所述反射罩及光源。其中，所述反射面的个数为二、三或者四个。一种检测装置，用于检测待测物体，该装置包括成像模块及线光源、反射罩，所述反射罩成对设置，所述反射罩用于接收线光源发出的光并投射于待检测物体上，从而为成像模块提供成像光线，该反射罩包括两个或者两个以上连续的反射面，所述反射面具有一共同焦点，所述反射罩由经过该共同焦点的直线为旋转轴旋转形成所述反射罩。一种应用上述的测量装置的测量方法，包括以下步骤将待测量物质放置于预定位置；光源的光线将经所述反射罩后投射于待测量物体表面上并形成反射光；所述反射光进入成像模块成像。一种应用上述检测装置的检测方法，包括以下步骤将待测量物质放置于预定位置；光源的光线将经所述反射罩后投射于待测量物体表面上并形成反射光；所述反射光进入成像模块成像；将得图像与基准图像比较，判断是否满足要求或者所属等级。一种照明装置，该照明装置包括光源及反射罩，该反射罩包括两个或者两个以上连续的反射面，所述反射面具有一共同焦点，所述反射罩由经过该共同焦点的直线为旋转轴旋转形成所述反射罩，所述反射面将安装于另一焦点上的光源发出的光线集中于所述各共同焦点上以形成光点。相较于现有技术，本专利技术的反射罩包括至少二反射面，所述反射罩装有多个光源，所述光源的光线聚集于一点，提高了光照的强度。附图说明图I是本专利技术第一较佳实施例的反射罩的沿着旋转轴的剖面示意图。图2是本专利技术第二较佳实施例的反射罩的沿着旋转轴的剖面示意图。图3是本专利技术第三较佳实施例的反射罩的沿着旋转轴的剖面示意图。图4是本专利技术第四较佳实施例的反射罩的沿着旋转轴的剖面示意图。图5是本专利技术第五较佳实施例的反射罩的沿着旋转轴的剖面示意6是本专利技术较佳实施例的测量装置模块示意图。图7是本专利技术较佳实施例的测量装置结构示意图。具体实施例方式为详细说明本专利技术的
技术实现思路
、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图详予说明。本专利技术的反射罩应用于光学领域测量或者检测领域，以下以其应用于测量领域为例加以说明。请参阅图1，本专利技术第一较佳实施例的反射罩102为旋转体，包括第一反射面11、第二反射面13。所述第一反射面11及第二反射面13为经过旋转轴的平面所获得的截面的内边缘为两段椭圆弧，所述椭圆弧具有一共条焦点A，所述旋转轴经过该共同焦点。所述椭圆弧的长度可以分别为内周总长的五分之一，四分之一，三分之一，或者其他需要的长度。请参考图2，本专利技术第二较佳实施例的反射罩101与第一较佳实施例大致相似，惟所述旋转体的厚度不均匀。从焦点All发出的光线经第一反射面11反射后照投射待测物体上的a点(图未示)。从焦点A12发出的光线经第二反射面13反射后投射到待测物体上的b点(图未示),所述a点与b点重合。请参阅图3，本专利技术第二较佳实施例的反射罩103包括第一反射面11、第二反射面13以及第三反射面15。所述椭圆圆弧的长度分别可以分别为椭圆总圆周长的五分之一，四分之一，三分之一，或者其他需要的长度。所述第一反射面11、第二反射面13及第三反射面15在平行于长轴面的切面的椭圆上在旋转轴Z轴上具有共同的焦点，所述光线反射后投射 于所述共同焦点上。从焦点A21发出的光线经第一反射面11反射后照射到待测物体上的点与从焦点A22发出的光线a22经第二反射面13反射后照射到待测物体上的点，及从焦点A23发出的光线a23经第一反射面11反射后照射到待测物体上的点相重合。请参阅图4，类似地，本专利技术第三较佳实施例的反射罩105包括若干个反射面11、13···，η，每一反射面11、13···，η均为椭圆弧经旋转形成。从每一焦点上发出的光线经对应的反射面反射后，投射到待测物体上重合的位置。请参阅图5，本专利技术第四较佳实施例的反射罩107与第一较佳实施例的反射罩101结构相似，惟，该反射罩107还包括第一侧面12、第二侧面14及第三侧面16。所述第一侧面12与第二侧面14大致相互平行，所述第三侧面16分别第一侧面12及第二侧面14大致相互垂直。本第四较佳实施例的第一至第三侧面12、14及16的平面设置更便于安装于定位。请参阅图6及7，本专利技术较佳实施例的测量装置100以应用第二较佳实施例的反射罩103为例加以说明。所述测量装置100还包括光源30、成像模块70及控制芯片90。所述反射罩103将光源30所发出的光聚集于待测物体200上。所述光源30的发光位置设置于反射罩103各焦点所在位置上。所述控制芯片90用于控制光源30的发光及成像模块70的成像。在本专利技术的较佳实施例中，所述的光源30为LED光源30，所述LED光源30包括多颗LE本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种反射罩，其特征在于：该反射罩包括两个或者两个以上连续的反射面，所述反射面具有一共同焦点，所述反射罩由经过该共同焦点的直线为旋转轴旋转形成所述反射罩。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴身健，李波，张梁，王秀秀，樊思民，温晔，
申请(专利权)人：肇庆中导光电设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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