【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种新型的常压介质阻挡型活性自由基清洗设备，包括高压电极、介质阻挡层、接地电极、电源、移动机械手、加热装置以及进气和排气系统。该设备的特性在于高压电极由介质阻挡层包裹，在常压下即可在高压电极和接地电极的间隙中发生放电，产生等离子体，在一定压力的气流带动下，放电区所产生的高活性自由基由喷口喷射出来，在喷射到需要处理的物体表面时，去除物体表面的有机物质。本专利技术产生的活性自由基可用于硅片无损伤去胶和有机物清洗。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王守国，赵玲利，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：
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