正型感射线性组合物、显示元件用层间绝缘膜及其形成方法技术

本发明专利技术公开了一种正型感射线性组合物，含有：[A]在同一或不同的聚合物分子中具有含下述式(1)所示的基团的结构单元(I)与含环氧基的结构单元(II)的聚合物、[B]硅氧烷聚合物及[C]光酸产生体。[B]硅氧烷聚合物优选为下述式(2)所示的水解性硅烷化合物的水解缩合物。[A]聚合物与[A]聚合物和[B]硅氧烷聚合物的合计量的质量比优选为5质量%以上95质量%以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。
技术介绍
在显示元件中，一般以将层状配置的配线之间绝缘为目的而设置有层间绝缘膜。作为层间绝缘膜的形成材料，广泛使用正型感射线性组合物，这是因为得到必要的图案形状的エ序数少，而且具有充分的平坦性是优选的。作为这样的显示元件,例如使用层间绝缘膜的TFT型液晶显示元件等的显示元件，是经过在层间绝缘膜上形成透明电极膜，再于其上形成液晶配向膜的エ序而制造。此时，层间绝缘膜由于在透明电极膜的形成エ序中暴露于高温条件下，故需有充分的耐热性。另外近年来，TFT型液晶显示元件正在进行大画面化、高亮度化、高精细化、高速响应化、薄型化等，配线图案的微细化也显著。除了透明性、折射率的提高，随之也希望提高抗蚀剂图案的微细化技术。在将抗蚀剂图案微细化时，在基于蚀刻气体的干蚀刻处理工序中，哪怕处理时间比最合适时间稍长，也容易发生抗蚀剂的削去或剥落。再者，由于具备显示元件的显示装置大型化，为了均匀处理被处理面的整个面，必须延长干蚀刻处理时间，或必须提高蚀刻气体的浓度，对如此严苛的干蚀刻条件，要求层间绝缘膜的耐干蚀刻性及表面硬度要提高。为实现上述高性能，有各种解决方案。例如，有提案使用能产生羧基的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：一户大吾，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：
国别省市：