【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】正型感射线性组合物、显示元件用层间绝缘膜及其形成方法
本专利技术涉及正型感射线性组合物、显示元件用层间绝缘膜及其形成方法。
技术介绍
在显示元件中,一般以将层状配置的配线之间绝缘为目的设置层间绝缘膜。作为层间绝缘膜的形成材料,广泛使用正型感射线性组合物,这是因为优选下述材料,即得到必要的图案形状的工序数少,而且具有充分的平坦性。对形成这样的层间绝缘膜时所使用的正型感射线性组合物,要求良好的射线敏感度和保存稳定性,对所得的层间绝缘膜要求优异的耐热性或透明性等。作为上述正型感射线性组合物,广泛采用丙烯酸类树脂,例如提案使用一种正型感光性树脂组合物(参照JP特开2009-98673号公报),其含有:具有含酸解离性基团的结构单元,在该酸解离性基团解离时变成碱可溶性的树脂,具有含有能与羧基反应而生成共价键的官能基(环氧基等)的结构单元的树脂,以及含有酸产生剂。在该组合物中,混合上述两种类的特定树脂,在使用上述组合物所形成的涂膜中,由具有含酸解离性基团的结构单元的树脂经由酸的作用而生成的羧基,与具有含环氧基等的结构单元的树脂的交联反应,由此进行固化反应。然而,因为交联反应的进 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.04.27 JP 2010-1027711.一种正型感射线性组合物,其含有:[A]在同一或不同的聚合物分子中包含具有下述式(1)所示的基团的结构单元(I)与含环氧基的结构单元(II)的聚合物,[B]酸产生体,及[C]下述式(3)所示的含氮化合物,其含量相对于[A]聚合物100质量份为2质量份以上30质量份以下,式(1)中,R1及R2各自独立,为氢原子、烷基、环烷基或芳基,其中,上述烷基、环烷基或芳基的一部分或全部氢原子可被取代,但不存在R1及R2同时为氢原子的情况;R3是烷基、环烷基、芳烷基、芳基或-M(R3m)3所示的基团,该M是Si、Ge或Sn,R3m各自独立,为烷基,另外,R1与R3可连接而形成环状醚,其中R3所示的这些基团所具有的一部分或全部氢原子可被取代;式(3)中,R7及R8各自独立,为氢原子、氨基、碳原子数为1~20的烷基或碳原子数为6...
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