光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，由其形成的光化射线敏感或辐射敏感膜以及使用该组合物形成图案的方法技术

本发明专利技术提供一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，其包含(A)当与酸作用时分解从而增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂，(B)盐，所述盐在其阳离子部分中含有氮原子，所述盐当曝光于光化射线或辐射时分解从而产生酸，和(C)当曝光于光化射线或辐射时产生酸的化合物，所述化合物为下面通式(1-1)和(1-2)的化合物中的任一种。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，由该组合物形成的膜，以及使用该组合物形成图案的方法。更具体地，本专利技术涉及在例如IC等半导体制造工艺、液晶电路板制造工艺、热敏头等或其他光加工光刻工艺中使用的组合物，并涉及由该组合物形成的膜以及使用该组合物形成图案的方法。特别地，本专利技术涉及适合使用以波长为300nm或更短的远紫外线作为光源的投影曝光装置进行曝光的光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，并涉及由该组合物形成的膜以及使用该组合物形成图案的方法。
技术介绍
迄今为止，在半导体制造工艺等中，传统实践是使用抗蚀剂组合物。这样的组合物的一个实例是化学放大型抗蚀剂组合物。所述化学放大型抗蚀剂组合物通常包含当与酸作用时分解从而增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂，以及当曝光于光化射线或辐射时分解从而产生酸的化合物。为了应付例如半导体的微型化，对于这种树脂和化合物已经进行了多种开发(参见例如专利参考文献I和2)。然而，对于这种组合物，仍然有进一步改善的余地。特别地，在最近几年，需要其能同时实现在更高尺寸具有优异的粗糙度特性和优异的图案形状。日本专利申请公开公告号(在下文中称为JP-A-)2007_230913，和 JP-A-2OO9-I22623。
技术实现思路
本专利技术的一个目的是提供一种具有优异粗糙度特性并且可以形成没有膜细化(thinning)和拖尾(trailing)的良好图案形状的光化射线敏感或福射敏感树脂组合物。本专利技术进一步的目的是提供一种由该组合物形成的光化射线敏感或辐射敏感膜，以及一种使用该组合物形成图案的方法。例如，本专利技术被定义如下。 一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，其包含(A)当与酸作用时分解从而增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂，(B)鐵盐,所述鐵盐在其阳离子部分中含有氮原子,所述鐵盐当曝光于光化射线或辐射时分解从而产生酸，和(C)当曝光于光化射线或辐射时产生酸的化合物，所述化合物为下面通式(1-1)和(1-2)的化合物中的任一种，权利要求1.一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，其包含 (A)当与酸作用时分解从而增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂， (B)锊I盐，所述鑛盐在其阳离子部分中含有氮原子，所述锫1盐当曝光于光化射线或辐射时分解从而产生酸，和 (C)当曝光于光化射线或辐射时产生酸的化合物，所述化合物为下面通式(1-1)和(1-2)的化合物中的任一种，2.根据权利要求I所述的组合物，其中所述鐵盐是锍盐。3.根据权利要求I所述的组合物，其中所述阳离子部分包含含有氮原子的碱性部分。4.根据权利要求I所述的组合物，其中所述阳离子部分包含由下面通式(N-I)表示的部分结构，5.根据权利要求I所述的组合物，其中所述锋I盐由下面通式(N-II)表示，6.根据权利要求5所述的组合物，其中通式(N-II)中出现的4是4(1^)(Rb)，其中Ra和Rb中的每一个独立地表示氢原子或有机基团，条件是&4、1 、义和Rb中的至少两个可以彼此连接从而形成环。7.根据权利要求5所述的组合物，其中在通式(N-II)中，R或多个R中的至少一个是芳环基，并且X或多个X中的至少一个是具有连接至由R表示的芳环基的碳原子的连接基团，并且其中由R1表示的有机基团是烷基、烯基、脂环基、芳族烃基或杂环烃基。8.根据权利要求5所述的组合物，其中通式(N-II)中出现的X或多个X中的至少一个由下面通式(N-III)表示，9.根据权利要求5所述的组合物，其中通式(N-II)中出现的X或多个X中的至少一个由下面通式(N-IV)表示，10.根据权利要求I所述的组合物，所述组合物还包含至少含有氟原子或硅原子的树脂作为与所述树脂(A)不同的第二树脂。11.一种由根据权利要求I所述的组合物形成的光化射线敏感或辐射敏感膜。12.—种形成图案的方法，所述方法包括 将根据权利要求I所述的组合物形成膜， 将所述膜曝光，和 将所曝光的膜显影。13.根据权利要求12的方法，其中所述曝光通过浸溃液体进行。14.一种用于制造半导体器件的方法，所述方法包括权利要求12所述的图案形成方法。15.一种通过权利要求14所述的方法制造的半导体器件。全文摘要本专利技术提供一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，其包含(A)当与酸作用时分解从而增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂，(B)盐，所述盐在其阳离子部分中含有氮原子，所述盐当曝光于光化射线或辐射时分解从而产生酸，和(C)当曝光于光化射线或辐射时产生酸的化合物，所述化合物为下面通式(1-1)和(1-2)的化合物中的任一种。文档编号G03F7/039GK102870046SQ20118002181公开日2013年1月9日 申请日期2011年12月22日 优先权日2010年12月24日专利技术者山本庆, 藤田光宏, 松田知树 申请人:富士胶片株式会社本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：山本庆，藤田光宏，松田知树，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：
国别省市：