一种具有纹理的抗污染中空纤维膜制造技术

技术编号:8169582 阅读:156 留言:0更新日期:2013-01-08 17:49
本实用新型专利技术涉及一种具有纹理的抗污染中空纤维膜,包括中空纤维膜丝,所述中空纤维膜丝的外壁上印刻有规则纹理凹槽,规则纹理凹槽的深度为0.02-0.5mm。本实用新型专利技术的具有纹理的抗污染中空纤维膜结构简单,通过在中空纤维膜丝的外壁上设置规则纹理凹槽可以增加膜丝外壁的粗糙度,增强膜丝的抗污染性能,延长了中空纤维膜使用寿命。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及ー种具有纹理的抗污染中空纤维膜
技术介绍
随着膜分离技术的广泛应用,膜污染成为亟待解决的问题。膜污染是由处理物料中的粒子吸附沉积在膜表面堵塞膜孔造成的。研究人员在改善有机高分子分离膜的抗污染性能方面做了大量的工作。其中绝大部分工作的研究方向是改善膜材料的亲水性,而通过改变膜表面形态增强抗污染性能的研究很少,在实际研究过程中专家发现通过增大膜丝 的粗糙度,可以增强物料在膜表面的扰动,粒子不易发生吸附沉积,从而可以增强膜丝的抗污染性能。基于上述研究成果,本技术提供ー种具有纹理的中空纤维膜,通过规则纹理増加膜丝外壁的粗糙度,从而达到抗污染的目的。
技术实现思路
为解决上述技术问题,本技术提供ー种结构简单、使用方便的具有纹理的抗污染中空纤维膜,具有很好的抗污染性能。本技术的具有纹理的抗污染中空纤维膜,包括中空纤维膜丝,所述中空纤维膜丝的外壁上印刻有规则纹理凹槽,规则纹理凹槽的深度为O. 02-0. 5mm。本技术的具有纹理的抗污染中空纤维膜,所述中空纤维膜丝为聚砜、聚醚砜、聚偏氟こ烯、聚氯こ烯或聚丙烯腈中空纤维膜丝。本技术的具有纹理的抗污染中空纤维膜,所述规则纹理凹槽为左旋或右旋的单向本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有纹理的抗污染中空纤维膜,包括中空纤维膜丝(1),其特征在于:所述中空纤维膜丝(1)的外壁上印刻有规则纹理凹槽(2),规则纹理凹槽(2)的深度为0.02?0.5mm,。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈亦力孟莎莎薛涛代攀李锁定胡海霞
申请(专利权)人:北京碧水源膜科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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