硅锭铸造用层压坩埚及其制造方法技术

提供能够抑制氧向硅锭中溶解的硅锭铸造用层压坩埚及其制造方法。选择硅锭铸造用层压坩埚（1），该层压坩埚是用于熔解硅原料并进行铸造硅锭的硅锭铸造用层压坩埚，其特征在于，具备：设置在铸模（2）的内侧的二氧化硅层（3），和设置在二氧化硅层（3）的表面的钡涂布层（4）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及的改进。本申请基于2010年3月31日在日本申请的日本特愿2010-080973号主张优先权，在此引用其内容。
技术介绍
专利文献I中公开了用于制作光电转换效率优异的太阳光发电用电池的硅基板的硅锭制造用坩埚。 专利文献I公开的硅锭制造用坩埚如图2的截面图所示，具有通过在石英玻璃或石墨构成的铸模102的内侧用二氧化硅结合5(Γ300μπι的微细熔融硅砂161而成的内层103被覆的结构。上述内层103，若更具体地表示，则如图2的部分放大图A所示，通过用二氧化硅107结合微细熔融硅砂161而成的内层103被覆。含有该微细熔融硅砂161的内层103易从铸模102的内壁剥离。因此，将硅熔融液体注入硅锭铸造用坩埚101并使其凝固时，当硅锭的外周在铸模内壁面拉伸时，产生剥离而不会在硅锭残留内部应力。因此，不会产生硅锭制造时的内部应力裂纹。由此，合格率提高，进而组装使用该内部应力残留少的硅锭制作的硅基板的太阳光发电用电池的光电转换效率得到大幅改善。专利文献I :日本特开平11-244988号公报然而，在石英玻璃或石墨构成的铸模102的内侧形成有以上述二氧化硅107和熔融硅砂161为主本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：胁田三郎，续桥浩司，池田洋，金井昌弘，
申请(专利权)人：三菱综合材料株式会社，三菱材料电子化成株式会社，
类型：
国别省市：