硬涂膜、偏光板、图像显示装置、以及硬涂膜的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供可确实地防止干涉条纹的产生的硬涂膜。本发明专利技术的硬涂膜（1）具有透明薄膜（2）和设置在所述透明薄膜（2）上的硬涂层（3），所述透明薄膜（2）和硬涂层（3）之间存在可通过反射光谱的分析而检测出的界面（5），在从所述界面（5）到硬涂层（3）的厚度方向中途部为止的区域（31）中，折射率沿厚度方向连续变化，所述区域（31）中，没有由所述反射光谱分析出的界面。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及硬涂膜、具有其的偏光板和图像显示装置、以及硬涂膜的制造方法。
技术介绍
以往，为了防止图像显示装置的画面、触摸面板之类的部件的损伤、光反射，有时在这些部件上设置硬涂膜。前述硬涂膜具有透明薄膜和设置在该透明薄膜上的硬涂层。前述硬涂层通常由将硬涂层形成材料制膜成2 10 μ m左右的薄的涂膜来构成，所述硬涂层形成材料包含热固化型树脂或紫外线固化型树脂这样的电离辐射线固化型树脂等。 以往的硬涂膜中，透明薄膜与硬涂层之间存在折射率差。因此，硬涂层的表面若有轻微的凹凸，则有产生干涉条纹这样的问题。其中，干涉条纹为起因于来自荧光灯等三波长光源的光照射在硬涂层的表面等并反射的、条纹状的外观。这种干涉条纹成为使硬涂膜的表面的可视性降低的原因。为了防止前述干涉条纹的产生，已知通过利用硬涂层形成材料使透明薄膜的表面溶胀，从而使硬涂层与透明薄膜的界面消失、使前述界面附近的折射率连续变化的硬涂膜(专利文献I和2)。另外，为了防止干涉条纹的产生，已知通过在透明薄膜与硬涂层之间设置光学调节层，从而使透明薄膜与硬涂层的界面消失的硬涂膜(专利文献3)。然而，上述以往的硬涂膜不能充分防止干涉条纹的产生。进而，对于专利文献3的硬涂膜，其制造时还需要设置光学调节层的工序。另一方面，对于硬涂膜，出于防止损伤的目的，需要硬涂层为高硬度，而且也需要硬涂层与透明薄膜充分地密合。现有技术文献专利文献专利文献I :日本特开2004-263082号公报专利文献2 :日本特开2003-131007号公报专利文献3 W02006/098363号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术的目的为，提供可更加抑制干涉条纹的产生、进而高硬度且密合性优异的硬涂膜。本专利技术的另一目的为，提供使用前述硬涂膜的偏光板和图像显示装置。本专利技术的再一目的为，提供抑制了干涉条纹的产生的硬涂膜的制造方法。用于解决问题的方案认为在上述专利文献I和2的硬涂膜中，可抑制起因于将透明薄膜与硬涂层划分开的界面的干涉条纹。然而，该硬涂膜若视为整体，依然会产生干涉条纹。作为其原因，本专利技术人等推测原因为，除了将前述透明薄膜与硬涂层划分开的界面以外，还存在新的其他界面。具体而言，推测原因如下专利文献I和2的硬涂膜通过在透明薄膜上涂覆包含固化型树脂和溶剂的硬涂层形成材料并且使涂膜固化而得到。该溶剂使透明薄膜的表面溶胀，因此形成透明薄膜的成分溶出到前述涂膜中。然后，扩散并且渗透到前述涂膜中的、形成前述透明薄膜的成分产生前述新的其他界面。由于该新的其他界面的存在，以往的硬涂膜实际上无法充分抑制干涉条纹的产生。特别是在硬涂层的厚度小的情况下，容易产生起因于前述其他界面的干涉条纹。在硬涂层的表面设置有防反射层时，该干涉条纹从在外观上可尤其显著地视认。基于这种见解，本专利技术人等通过以下的手段解决了本专利技术的问题。 本专利技术的第一硬涂膜具有透明薄膜和设置在前述透明薄膜上的硬涂层，前述透明薄膜和硬涂层之间存在可通过反射光谱的分析而检测出的界面，在从前述界面到硬涂层的厚度方向中途部为止的区域中，折射率沿厚度方向连续变化，而未产生由前述反射光谱分析出的界面。本专利技术的第二硬涂膜具有透明薄膜和设置在所述透明薄膜上的硬涂层，前述透明薄膜与硬涂层之间存在可通过反射光谱的分析而检测出的界面，在从前述界面到硬涂层的厚度方向中途部为止的区域中，混杂有形成透明薄膜的成分和形成硬涂层的成分，前述区域中的形成透明薄膜的成分沿着朝向前述硬涂层的表面的方向而减少，而未产生由反射光谱分析出的界面。本专利技术的优选的硬涂膜的前述硬涂层的厚度为3 μ πΓ15 μ m。本专利技术的优选的硬涂膜的前述硬涂层的表面上还设置有防反射层。本专利技术的优选的硬涂膜的从前述界面到透明薄膜的厚度方向中途部为止的区域中，混杂有形成透明薄膜的成分和形成硬涂层的成分，前述区域中的形成透明薄膜的成分沿着朝向前述硬涂层的表面的方向而减少。根据本专利技术的另一方案，提供偏光板。该偏光板具有上述硬涂膜。根据本专利技术的另一方案，提供图像显示装置。 该图像显示装置具有上述硬涂膜。根据本专利技术的另一方案，提供硬涂膜的制造方法。本专利技术的硬涂膜的制造方法具有如下工序将包含固化型化合物和溶剂的硬涂层形成材料涂覆在透明薄膜上而形成规定厚度涂膜的涂膜形成工序，所述固化型化合物包含分子量800以下的低分子量成分，所述溶剂包含对透明薄膜的良溶剂，使前述涂膜固化而在前述透明薄膜上形成硬涂层的固化工序，前述硬涂层形成材料中所含的低分子量成分和良溶剂以及前述涂膜的厚度满足式I =Y彡-4. 2741η (X)+ll. 311、以及式2 Υ ( _4· 9491η(X) +15. 474的关系。其中，前述Y表示b X t,前述X表示aX t,前述a表示在前述固化型化合物的总量为I的情况下的前述低分子量成分的含有比率，前述b表示在前述硬涂层形成材料的总量为I的情况下的前述良溶剂的含有比率，前述t表示前述涂膜的厚度μπι。本专利技术的硬涂膜的优选的制造方法的前述a大于O. 3且为I以下，前述b为O. 05以上且O. 5以下。本专利技术的硬涂膜的优选的制造方法的前述低分子量成分为紫外线固化型树脂单体或低聚物。专利技术的效果本专利技术的硬涂膜不易受损伤，进而可更加抑制干涉条纹的产生。进而，本专利技术的硬涂膜的透明薄膜与硬涂层的密合性也优异，因此耐久性也优异。具有该硬涂膜的偏光板和图像显示装置的耐伤性、耐久性、以及可视性优异。根据本专利技术的制造方法，可简易地制造抑制了干涉条纹产生的硬涂膜。附图说明图I为表示本专利技术的硬涂膜的一个实施方式的截面图。 图2为表示本专利技术的硬涂膜的另一实施方式的截面图。图3的(a)和(b)为表不实施例I的反射光谱的测定结果的图表。图4的(a)和(b)为表不实施例2的反射光谱的测定结果的图表。图5的(a)和(b)为表示比较例I的反射光谱的测定结果的图表。图6的(a)和(b)为表示比较例2的反射光谱的测定结果的图表。图7的(a)和(b)为表示比较例3的反射光谱的测定结果的图表。图8的(a)和(b)为表示比较例4的反射光谱的测定结果的图表。图9的(a)和(b)为表示比较例5的反射光谱的测定结果的图表。图10的(a)和(b)为表示比较例6的反射光谱的测定结果的图表。图11的(a)和(b)为表示比较例9的反射光谱的测定结果的图表。图12为示意性表示比较例1、2、5、7以及8的各硬涂膜的参考截面图。图13为示意性表示比较例3、4以及6的各硬涂膜的参考截面图。图14为示意性表示比较例9和10的各硬涂膜的的参考截面图。图15的(a) (g)为实施例f 2和比较例广4、9的各硬涂膜的截面照片图。图16为对在实施例I飞和比较例f 10中使用的各硬涂层形成材料的、良溶剂的含有比率X膜厚以及低分子量成分的含有比率X膜厚作图而得的图表。具体实施例方式<硬涂膜>图I为将本专利技术的一个实施方式的硬涂膜在厚度方向上切断的截面图。图2为将本专利技术的另一实施方式的硬涂膜在厚度方向上切断的截面图。其中，要注意的是，各图所示的硬涂膜、透明薄膜、以及硬涂层的各自的厚度、长度与实际的物体不同。图I中，一个实施方式的硬涂膜I具有透明薄膜2和设置在前述透明薄膜2上的硬涂层3，前述透明薄膜2和硬涂层3之间存在界面5。图2中，另一个实施方式的硬涂膜I具有透明本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.04.15 JP 2010-0937121.一种硬涂膜，其具有透明薄膜和设置在所述透明薄膜上的硬涂层， 所述透明薄膜和硬涂层之间存在可通过反射光谱的分析而检测出的界面， 在从所述界面到硬涂层的厚度方向中途部为止的区域中，折射率沿厚度方向连续变化，而未产生由所述反射光谱分析出的界面。2.一种硬涂膜，其具有透明薄膜和设置在所述透明薄膜上的硬涂层， 所述透明薄膜与硬涂层之间存在可通过反射光谱的分析而检测出的界面， 在从所述界面到硬涂层的厚度方向中途部为止的区域中，混杂有形成透明薄膜的成分和形成硬涂层的成分， 所述区域中的形成透明薄膜的成分沿着朝向所述硬涂层的表面的方向而减少，而未产生由反射光谱分析出的界面。3.根据权利要求I或2所述的硬涂膜，其中，所述硬涂层的厚度为3μ πΓ15 μ m。4.根据权利要求广3中的任一项所述的硬涂膜，其中，所述硬涂层的表面上还设置有防反射层。5.根据权利要求广4中的任一项所述的硬涂膜，其中，在从所述界面到透明薄膜的厚度方向中途部为止的区域中，混杂有形成透明薄膜的成分和形成硬涂层的成分， 所述区域中的形成透明薄膜的成分沿着朝向所述硬涂层的表...

【专利技术属性】
技术研发人员：岸敦史，武本博之，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：
国别省市：