光源寿命监测系统及其监测方法技术方案

技术编号:8105181 阅读:197 留言:0更新日期:2012-12-21 03:10
本发明专利技术提出一种光源寿命监测系统及其监测方法,用于监测并预估光源的寿命。光源寿命监测系统包括反射率恒定的光反射板和检测单元。光源发出的光线被光反射板反射至检测单元,检测单元得到光强信号。在一定时间间隔内,周期性地将光反射板设置在同一位置,记录光强信号与初始光强信号的比值为光反射板响应参数。拟合光反射板响应参数与时间的曲线,以预估光反射板响应参数等于报废界限阈值的报废时间。本发明专利技术在光刻机的日常维护操作时期,对其光电测量系统的照明光源进行监测,根据光强信号的衰减速率,预测并验证其报废时间,提醒用户按时更换。这样,光源能发挥最大工作寿命,不影响光刻机的产率与性能,不增加任何操作复杂度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种监测系统,且特别涉及一种光源的寿命监测系统,利用该系统的监测方法也一并提出。
技术介绍
在光刻机中,除投影物镜系统曝光光源外,其余光电测量系统还用到各种照明光源,如卤素灯、LD灯、LED灯等,所有这些光源都是易损光源,使用一段时间后必须报废、更换,否则,就会影响测量精度与重复性。卤素灯、LD灯、LED灯等照明光源在相同的驱动电压条件下,其输出光强整体一般呈较为稳定的衰减趋势。对于光源光强的计量,大多采用光强计或者光功率计等设备进行离线测校,这对于光刻机光电测量系统来说,意味着要经常停机监测,不但操作复杂,而且 会严重影响光刻机产率。目前有技术中提供了一种利用光反射板对调焦调平系统老化后的光源进行调整以保证其测量精度与重复性的方法。该方法由监测流程实现对易损光源的调整,但未解决如何确定何时更换易损光源的问题。在光刻机实际生产过程中,各种易损光源存在着一个共同的问题不知何时更换最经济、最合理。如果过早更换则造成浪费,并影响光刻机的产率;过晚更换则影响光刻机工作性能,进而造成不应有的曝光质量问题。而通常凭生产经验时间进行一刀切式的更换在时间上有盲目性,一般总是少于易损光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光源寿命监测系统,用于监测并预估光源的寿命,其特征是,包括:光反射板,所述光反射板的反射率恒定;以及检测单元,所述光源发出的光线被所述光反射板反射至所述检测单元,所述检测单元得到光强信号,在一定时间间隔内,周期性地将所述光反射板设置在同一位置,记录所述光强信号与初始光强信号的比值为所述光反射板响应参数,拟合所述光反射板响应参数与时间的曲线,以预估所述光反射板响应参数等于报废界限阈值的报废时间。

【技术特征摘要】
1.一种光源寿命监测系统,用于监测并预估光源的寿命,其特征是,包括 光反射板,所述光反射板的反射率恒定;以及 检测单元,所述光源发出的光线被所述光反射板反射至所述检测单元,所述检测单元得到光强信号,在一定 时间间隔内,周期性地将所述光反射板设置在同一位置,记录所述光强信号与初始光强信号的比值为所述光反射板响应参数,拟合所述光反射板响应参数与时间的曲线,以预估所述光反射板响应参数等于报废界限阈值的报废时间。2.根据权利要求I所述的光源寿命监测系统,其特征是,所述初始光强信号和所述光强信号为电信号或灰度值。3.根据权利要求I所述的光源寿命监测系统,其特征是,报废界限阈值为75%。4.根据权利要求I所述的光源寿命监测系统,其特征是,所述光源被相同的最佳工作电压驱动。5.一种光源寿命监测方法,用于监测并预估光源的寿命,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:魏礼俊陈飞彪潘炼东徐兵
申请(专利权)人:上海微电子装备有限公司
类型:发明
国别省市:

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