一种中性高透低辐射镀膜玻璃制造技术

技术编号:8043618 阅读:176 留言:0更新日期:2012-12-05 23:27
本发明专利技术公开了一种中性高透低辐射镀膜玻璃,在玻璃原片的表面从下至上依次设置电介质层Ⅰ、金属银层、氧化锌铝或氧化钛陶瓷阻挡层和电介质层Ⅱ;其中,所述的电介质层Ⅰ为氧化钛层、氧化锌层、氮化硅层或其组合,电介质层Ⅱ为氧化钛层、氧化锌层、氮化硅层或其组合。本发明专利技术提供的中性高透低辐射镀膜玻璃,与现有技术相比具有以下优点:使用的玻璃膜层采用钛基层,同时采用氧化锌铝或氧化钛陶瓷材料作为阻挡层保护银层,从而具有高可见光透射率,中性颜色,辐射率低等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及玻璃领域,尤其涉及一种中性高透低辐射镀膜玻璃
技术介绍
目前,作为建筑用节能玻璃,低辐射中空玻璃已被广泛使用。但目前高透产品已经跟不上建筑镀膜的要求,特别是热学性能要求。其中影响玻璃热学性能的主要是镀膜玻璃的辐射率。同时大多数的建筑幕墙都会使用单片阳光膜作为窗间墙部分的外围护结构。在不同的观察角度条件下,窗间墙部分的镀膜玻璃颜色需要与中空低辐射镀膜玻璃颜色接近以保证建筑总体外观效果一致
技术实现思路
专利技术目的本专利技术的目的是为了解决现有技术的不足,提供一种具有中性颜色,高可见光透射率的中性高透低辐射镀膜玻璃。技术方案为了实现以上目的,本专利技术所述的一种中性高透低辐射镀膜玻璃,在玻璃原片的表面从下至上依次设置电介质层I、金属银层、氧化锌铝或氧化钛陶瓷阻挡层和电介质层II ;其中,所述的电介质层I为氧化钛层、氧化锌层、氮化硅层或其组合,电介质层II为氧化钛层、氧化锌层、氮化硅层或其组合。作为优选,所述的电介质层I的厚度为10 IOOnm ;金属银层Ag的厚度为2 50nm ;氧化锌招或氧化钛陶瓷阻挡层的厚度为I 50nm ;电介质层II的厚度为10 150nm。作为优选,所述玻璃原片的厚度为4mm、5mm、6mm、8mm、IOmm或12mm。有益效果本专利技术提供的中性高透低辐射镀膜玻璃,与现有技术相比具有以下优点使用的玻璃膜层采用钛基层,同时采用氧化锌铝或氧化钛陶瓷材料作为阻挡层保护银层,从而具有高可见光透射率,中性颜色,辐射率低等优点。附图说明图I为本专利技术的结构示意图。具体实施例方式下面结合附图和具体实施例,进一步阐明本专利技术。如图I所示的一种中性高透低辐射镀膜玻璃,在玻璃原片I的表面从下至上依次设置电介质层I 2、金属银层3、氧化钛陶瓷阻挡层4和电介质层II 5;其中,电介质层I 2为氧化钛层,电介质层II 5为氧化钛层。其中,所述的玻璃原片I的厚度为8mm,电介质层I 2的厚度为55nm (10 IOOnm范围内均可);金属银层3的厚度为25nm (2 50nm范围内均可);氧化钛陶瓷阻挡层4的厚度为25nm (I 50nm范围内均可);电介质层II 5的厚度为80nm (10 150nm范围内均可)。制作上述中性高透低辐射镀膜玻璃的参数如下上述实施例只为说明本专利技术的技术构思及特点,其目的是让熟悉该
的技术人员能够了解本专利技术的内容并据以实施,并不能以此来限制本专利技术的保护范围。凡根据本专利技术精神实质所作出的等同变换或修饰,都应涵盖在本专利技术的保护范围之内。权利要求1.一种中性高透低辐射镀膜玻璃,其特征在于在玻璃原片(I)的表面从下至上依次设置电介质层I (2)、金属银层(3)、氧化锌铝或氧化钛陶瓷阻挡层(4)和电介质层II (5);其中,所述的电介质层I (2)为氧化钛层、氧化锌层、氮化硅层中的一种或其组合,电介质层II(5)为氧化钛层、氧化锌层、氮化硅层中的一种或其组合。2.根据权利要求I所述的中性高透低辐射镀膜玻璃,其特征在于所述的电介质层I(2)的厚度为10 IOOnm ;金属银层(3)的厚度为2 50nm ;氧化锌铝或氧化钛陶瓷阻挡层(4)的厚度为I 50nm ;电介质层II (5)的厚度为10 150nm。3 .根据权利要求I所述的一种中性高透低辐射镀膜玻璃,其特征在于所述玻璃原片(I)的厚度为 4mm、5mm、6mm、8mm、10mm 或 12mm。全文摘要本专利技术公开了一种中性高透低辐射镀膜玻璃,在玻璃原片的表面从下至上依次设置电介质层Ⅰ、金属银层、氧化锌铝或氧化钛陶瓷阻挡层和电介质层Ⅱ;其中,所述的电介质层Ⅰ为氧化钛层、氧化锌层、氮化硅层或其组合,电介质层Ⅱ为氧化钛层、氧化锌层、氮化硅层或其组合。本专利技术提供的中性高透低辐射镀膜玻璃,与现有技术相比具有以下优点使用的玻璃膜层采用钛基层,同时采用氧化锌铝或氧化钛陶瓷材料作为阻挡层保护银层,从而具有高可见光透射率,中性颜色,辐射率低等优点。文档编号C03C17/36GK102806728SQ20121032427公开日2012年12月5日 申请日期2012年9月5日 优先权日2012年9月5日专利技术者王茂良, 顾黎明, 徐峰 申请人:太仓耀华玻璃有限公司本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一种中性高透低辐射镀膜玻璃,其特征在于:在玻璃原片(1)的表面从下至上依次设置电介质层Ⅰ(2)、金属银层(3)、氧化锌铝或氧化钛陶瓷阻挡层(4)和电介质层Ⅱ(5);其中,所述的电介质层Ⅰ(2)为氧化钛层、氧化锌层、氮化硅层中的一种或其组合,电介质层Ⅱ(5)为氧化钛层、氧化锌层、氮化硅层中的一种或其组合。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王茂良顾黎明徐峰
申请(专利权)人:太仓耀华玻璃有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1