质量流控制器监视制造技术

本发明专利技术涉及一种监视连接到压力腔室的用于向处于不受抽吸状态的所述腔室供气的质量流控制器（MFC）的方法，包括周期地切换所述MFC以为测试时段创建连续的填充周期以及在所述测试时段期间间隔地测量所述腔室压力，其特征在于，所述MFC的总切换时间为所述填充周期的至少10%，以及所述方法包括获得压力测量结果的平均值并把它们与历史数据比较以判断所述MFC是否正常运转。

【技术实现步骤摘要】
质量流控制器监视
本专利技术涉及一种用于监视连接到压力腔室的用于向所述腔室供气的质量流控制器（MFC）的方法。
技术介绍
质量流控制器用于向压力腔室提供测量的气流，用于一系列过程，包括蚀刻半导体基底和在其上沉积薄膜。精确的流速在过程的再现性中可能极为重要，同样，流速的不精确可能导致由于腔室内化学品的比例改变而执行不同的过程。因此，已经开发了用于监视质量流控制器以识别其运行中的问题的系统。典型情况下，这包括在MFC安排所期望的流速、让气流稳定、让固定容积的腔室某固定时间内或直到达到某设定压力进行填充气体、以及确定气体填充腔室的速率。在这项测试期间，腔室不受抽吸。这个速率值可以与已知的良好值比较以验证MFC是否正确运行。US7822570、6955072和5684245表明了试图运行质量流控制器的多种方法。这样的系统对历史上的相对长的过程时间非常实用。然而，当使用众所周知的切换Bosch过程时，期望缩短周期过程时间，结果如果MFC的打开或关闭时间与其设计长度不同，则此偏离可能变为周期时间的显著部分，由于以上阐述的原因导致过程的畸变。换句话说，对于要持续许多分钟的过程或周期，如果在向腔室供本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种监视连接到压力腔室的用于向处于不受抽吸状态的所述腔室供气的质量流控制器（MFC）的方法，包括：周期地切换所述MFC以为测试时段创建连续填充周期；以及在所述测试时段期间，间隔地测量腔室压力；其特征在于，所述MFC的总切换时间为所述填充周期的至少10%，以及所述方法包括获得压力测量结果的平均值并把它们与历史数据比较以判断所述MFC是否正常运转。

【技术特征摘要】
2011.05.26 GB 1108854.91.一种监视连接到压力腔室的用于向处于不受抽吸状态的所述腔室供气的质量流控制器的方法，包括：周期地切换所述质量流控制器以为测试时段创建连续填充周期；以及在所述测试时段期间，间隔地测量腔室压力；其特征在于，所述质量流控制器的总切换时间为所述填充周期时间的至少10％，以及所述方法包括获得压力测量结果的平均值并把它们与历史数据比较以判断所述质量流控制器是否正常运转。2.根据权利要求1的方法，其中，当所述腔室达到预定压力时，所述测试时段终止。3.根据权利要求1的方法，其中，在预定数量的周期之后，所述测试时段终止。4.根据任何一个前面的权利要求的方法，其中，每个周期都包括填充步骤和不进行填充的延迟步骤。5.根据权利要求4的方法，其中，所述填充步骤和/或所述延迟步骤的...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·琼斯，宋一平，
申请(专利权)人：SPTS技术有限公司，
类型：发明
国别省市：