一种交替射流扰动系统技术方案

技术编号:8002372 阅读:271 留言:0更新日期:2012-11-23 23:12
本实用新型专利技术公开了一种交替射流扰动系统,该系统包括通入容器内下部的母管、连接在所述母管上的支管以及分布在母管和支管上的朝向容器底部的喷射喷嘴,还包括设于容器外与母管连接的浆液管道,所述母管有两根及两根以上,每根母管上均设有阀门。本实用新型专利技术的这种交替射流扰动系统除不需连续运行,所需的启动负荷低,搅拌能量集中,使用寿命长等原有优点外,且可进一步降低能耗。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种交替射流扰动系统,适用于悬浊液、胶体等流体物质的搅拌。
技术介绍
如果不搅拌,悬浊液没有充分的流动,将在容器底部产生固体沉积并结垢。已有的一种解决方案是容器内采用单母管、单母管上布置支管,在支管上布置了喷嘴;悬浊液进入单母管、通过支管,最后通过喷嘴射流搅拌,以防止固体沉淀。悬浊液使用单管道进行喷射搅拌时,射流扰动浆液量大,需要消耗扰动泵的功率大。存在不够节能、造价高的问题。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种交替射流扰动系统,解决已有的喷射搅拌系统能耗较大、造价较高的问题。为解决上述技术问题,本技术采用如下技术方案一种交替射流扰动系统,该系统包括通入容器内下部的母管、连接在所述母管上的支管以及分布在母管和支管上的朝向容器底部的喷射喷嘴,还包括设于容器外与母管连接的浆液管道,其特征在于所述母管有两根或两根以上,每根母管上均设有阀门。在本技术中,由泵将流体物质通过浆液管道鼓入母管和支管,并从喷射喷嘴喷入容器底部,利用流体的冲击力形成强烈的紊流以搅拌沉积在容器底部的固体物质。而通过将母管设置为两根或两根以上,这样就可以根据实际需要控制阀门,使两根母管上以及与母管连接的支管上的喷射喷嘴交替进行工作,这样可以达到在取得与现有技术同等搅拌效果情况下能耗明显降低。可以看出,本技术的交替射流扰动系统除不需连续运行,所需的启动负荷低,搅拌能量集中,使用寿命长等原有优点外,且可进一步降低能耗及造价。以下结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细的说明图I为本技术的结构示意图;图2为图I的俯视图;图中10-容器,I-泵,2-浆液管道,3-母管,31-支管,5_喷射喷嘴,6-阀门。具体实施方式如图I所示,在本技术的交替射流扰动系统中,在容器10下部通有两根水平设置的母管3,每根母管3上连接有一根支管31,并且母管3和支管31上分布有数个喷射喷嘴5,在容器10外,每根母管3上安装有一个阀门6。上述布置结构使得数个喷射喷嘴5均匀分布在容器底部上方,喷射喷嘴5通常距离容器10底部I. 2m。在容器10外,浆液管道2 —端连接到容器10的上部,另一端连接到两根母管3上,浆液管道2上设有泵I。以上就是本技术的交替射流扰动系统,其工作方式为由泵I将高压液体或气体等流体物质通过浆液管道2鼓入母管3,再经过由阀门6控制开闭的各根母管3和其上的支管31,最后从喷射喷嘴5喷入容器10的底部,利用流体的冲击力形成强烈的紊流以搅拌沉积在容器10底部的固体物质。 鼓入浆液管道2的流体物质可以为容器10内流体的上层清液,也可以是其它种类的反应物质,即整个系统也可以作为化学反应的加料装置。本系统不仅可以对液体进行混合搅拌,也可对气体(气溶胶)或多种物理形态的物质进行混合搅拌。搅拌效果可以通过控制喷射搅拌系统的运行状态来进行调节。由于可交替使用单根母管及其上支管上的喷射喷嘴,因此在达到同等的搅拌效果情况下,该系统的能耗明显较低。与现有技术相比,本技术的有益效果在于I、本技术的交替射流扰动系统,对悬浊液的搅拌不需连续进行,从而降低系统总电耗。2、系统可以在任何情况下快速启动且启动负荷小,设备使用寿命长。3、由于双管道可交替使用,该系统中采用比单管道喷射搅拌系统中采用的功率较小的搅拌泵,有效地降低了投资成本。4、交替射流扰动系统的动力部分均设置于容器外部,因此检修方便。权利要求1.一种交替射流扰动系统,该系统包括通入容器内下部的母管、连接在所述母管上的支管以及分布在母管和支管上的朝向容器底部的喷射喷嘴,还包括设于容器外与母管连接的浆液管道,其特征在于所述母管有两根及两根以上,每根母管上均设有阀门。2.根据权利要求I的交替射流扰动系统,其特征在于所述阀门设于容器外。专利摘要本技术公开了一种交替射流扰动系统,该系统包括通入容器内下部的母管、连接在所述母管上的支管以及分布在母管和支管上的朝向容器底部的喷射喷嘴,还包括设于容器外与母管连接的浆液管道,所述母管有两根及两根以上,每根母管上均设有阀门。本技术的这种交替射流扰动系统除不需连续运行,所需的启动负荷低,搅拌能量集中,使用寿命长等原有优点外,且可进一步降低能耗。文档编号B01F5/02GK202538667SQ20122015161公开日2012年11月21日 申请日期2012年4月11日 优先权日2012年4月11日专利技术者刘上光, 刘细拾, 胡志峥, 陈飞 申请人:上海汉卓能源科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种交替射流扰动系统,该系统包括通入容器内下部的母管、连接在所述母管上的支管以及分布在母管和支管上的朝向容器底部的喷射喷嘴,还包括设于容器外与母管连接的浆液管道,其特征在于:所述母管有两根及两根以上,每根母管上均设有阀门。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘上光刘细拾陈飞胡志峥
申请(专利权)人:上海汉卓能源科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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