一种整体浴室的底盘制造技术

本发明专利技术提供一种整体浴室的底盘，包括底盘主体，所述底盘主体的上表面内设有相邻的干区面和湿区面，所述湿区面和所述干区面的交界处设有排水槽，该排水槽的底部设有排水孔，所述干区面具有从其周边向所述排水槽延伸高度逐渐降低的排水坡度，所述湿区面的四周设有与所述排水槽相连通的凹槽。相较于现有技术，采用本发明专利技术整体浴室的底盘，当有浴室底盘上有大量的水需排出时，水流可通过所述湿区面的周边的凹槽流向排水槽而及时流出，可满足临时大量排水的要求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种整体浴室的底盘，尤其涉及ー种能满足临时大量排水要求的整体浴室的底盘。
技术介绍
现有技术中，整体浴室的底盘包括一体成型的防水型底盘主体，所述底盘主体的上表面内通常都设有相邻的干区面和湿区面，所述湿区面和所述干区面的交界处设有排水槽，该排水槽的底部设有排水孔，所述干区面具有从其周边向所述排水槽延伸高度逐渐降低的排水坡度，人们主要在湿面区进行洗浴，浴室内的水通过排水槽中排出浴室，洗浴时溅出至干区面的水以及人洗浴完毕走至干区面时流下的水，也会因排水坡度的作用流向湿区面并从排水槽中排出浴室，从而保持干区面的干净清爽状态。 但是，现有技术的整体浴室的底盘无法满足临时大量排水的要求，当浴室的底盘上有大量的水时，因为水没有固定的流向排水槽的通道，也没有临时储水的结构，无法及时排出干区面和湿区面上的水，当水不断积蓄时就使湿区面和干区面都完全浸没水中，多余的水甚至还会溢出至浴室外，影响了人们对整体浴室的使用感受。
技术实现思路
本专利技术的目的是克服现有技术的缺陷，提供一种能满足临时大量排水要求的整体浴室的底盘。为达到上述目的，本专利技术采用的技术方案是 一种整体浴室的底盘，包括底盘主体，所述底盘主体的上表面内设有相邻的干区面和湿区面，所述湿区面和所述干区面的交界处设有排水槽，该排水槽的底部设有排水孔，所述干区面具有从其周边向所述排水槽延伸高度逐渐降低的排水坡度，其特征在干所述湿区面的四周设有与所述排水槽相连通的凹槽。通过采用以上技术方案，当有浴室底盘上有大量的水需排出吋，水流可通过所述湿区面的周边的凹槽流向排水槽而及时流出，而且由于凹槽可以起到临时储水的作用，可满足临时大量排水的要求。较佳地，所述湿区面整体下沉，其高度低于所述干区面。采用此种下沉式结构设计的湿区面，可积蓄一定量的水，满足人们洗浴时的沉浸感，从而提高洗浴人的愉悦感。附图说明图I为本专利技术整体浴室的底盘的立体图。图2为本专利技术整体浴室的底盘的主视图。图3为图2中A-A向剖视示意图。具体实施方式下面结合附图对本专利技术的具体实施方式进行详细说明。请參阅图I至图3，本专利技术提供一种整体浴室的底盘，包括底盘主体10，所述底盘主体10的上表面内设有相邻的干区面11和湿区面12，所述湿区面12和所述干区面11的交界处设有排水槽13，该排水槽13的底部设有排水孔14，所述干区面11具有从其周边向所述排水槽13延伸高度逐渐降低的排水坡度，所述湿区面12的四周设有与所述排水槽13相连通的凹槽15。所述湿区面12整体下沉，其高度低于所述干区面11。 通过采用以上技术方案，当有浴室底盘上有大量的水需排出吋，水流可通过所述湿区面12的周边的凹槽15流向排水槽13而及时流出，而且由于凹槽15可以起到临时储水的作用，可满足临时大量排水的要求。采用下沉式结构设计的湿区面12，可积蓄一定量的水，满足人们洗浴时的沉浸感，从而提高洗浴人的愉悦感。上述实施例只为说明本专利技术的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本专利技术的内容并据以实施，并不能以此限制本专利技术的保护范围，凡根据本专利技术精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种整体浴室的底盘，包括底盘主体，所述底盘主体的上表面内设有相邻的干区面和湿区面，所述湿区面和所述干区面的交界处设有排水槽，该排水槽的底部设有落水孔，所述干区面具有从其周边向所述排水槽延伸高度逐渐降低的排水坡度，其特征在于：所述湿区面的四周设有与所述排水槽相连通的凹槽。

【技术特征摘要】
1.一种整体浴室的底盘,包括底盘主体,所述底盘主体的上表面内设有相邻的干区面和湿区面，所述湿区面和所述干区面的交界处设有排水槽，该排水槽的底部设有落水孔，所述干区面具有从其周边向所述排...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡福涛，
申请(专利权)人：苏州科逸住宅设备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：