移载装置制造方法及图纸

过去，混入有因进行切块、ＣＭＰ等机械加工而产生的研磨屑、磨削屑的排放水通过凝聚沉淀法或者过滤器过滤与离心分离相接合等两种方法进行处理。但是，前者中，或者由于药品与磨削屑发生反应，或者由于滤过水中混有药品，因而无法进行再利用；而后者中，作为一个系统过于庞大，存在着原始成本、运行成本高的问题。而且不能实现再循环。而本发明专利技术中，首先，使用过滤装置１０２使原水罐１０１的原水１０５成为高浓度。并且，使移载装置１２０位于原水罐附近，并使用经由管子进行安装的过滤装置１２１对原水１０５进行过滤。过滤装置１２１以目较粗的过滤器进行过滤，将其滤液送回原水罐１０１。于是，可使原水罐１０１的浓度降低，并且能够通过过滤装置１２１使被除去物成为滤饼状物而进行回收。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及移载装置、固态物回收方法、被除去物的再利用方法以及回收机构，特别是，从混入有固态物的排放水中高效率地回收固态物的移载装置、固态物回收方法、被除去物的再利用方法以及回收机构。现有技术当前，减少工业垃圾、对工业垃圾进行分类并加以再利用、以及不向自然界排放工业垃圾等已成为保护生态的重要主题，是面向21世纪的企业课题。该工业垃圾中，包括含有被除去物的各种各样的流体。对于这些流体，使用污水、排放水、废液等多种词汇进行表述，而在下面，将水或药品等流体中含有被除去物的物质称作排放水而进行说明。对于这些排放水，是以价格昂贵的过滤处理装置等去除所说被除去物，将排放水变成干净的流体加以再利用，将分类后的被除去物或者不能过滤的残留物作为工业垃圾进行处理。特别是，对于水，使之经过过滤变成符合环境标准的洁净的状态后，或者送回河海等自然界中，或者进行再利用。但是，由于过滤处理等的设备费用、运行成本等方面的原因，要采用这些装置非常困难，成为一个环境问题。由以上所述可知，排放水处理技术无论从防止环境污染的意义还是实现再循环的角度来说，都是重要的问题，人们急切希望原始成本低、运行成本低的系统早日出现。作为一个例子，就半导体行业中的排放水的处理进行说明。一般来说，对金属、半导体、陶瓷等片状体进行磨削或研磨时，从防止摩擦导致研磨(磨削)夹具等温度升高、提高润滑性、防止磨屑或切屑附着在片状体上等考虑，要向研磨(磨削)夹具或片状体上喷洒水等流体。具体地说，对作为半导体材料的片状体的半导体晶片进行切块或者后级磨削时，采用将纯水浇在切块刀片或晶片上的方法。即，如附图说明图12所示，进行后级磨削时，对设置在回转台200上的晶片201，以磨具202进行磨削，从喷嘴204喷洒纯水进行清洗。而排出的排放水通过安装在接收盘BL上的管子向外部输送。而在切块装置中，如图13所示，为防止切块刀片DB温度升高、或者为了防止切块屑附着在晶片W上，使纯水在半导体晶片W上流动，或者以纯水能够浇到刀片DB的状态安装浇水用的喷嘴SW进行喷水。并且，将排放水通过安装在接收盘BL上的管子向外部输送。前述切块装置或后级磨削装置所排放的、混入有磨削屑或研磨屑的排放水，经过过滤变成干净的水之后，或者送回自然界，或者进行再利用，而将经过浓缩的排放水回收。在目前的半导体制造中，对于混入有以Si为主体的被除去物(屑)的排放水的处理有凝聚沉淀法、以及过滤器过滤与离心分离机相结合这样两种方法。在前者的凝聚沉淀法中，作为凝聚剂将PAC(氯化铝)或者Al2(SO4)3(硫酸半德)等混入排放水中，使之与Si产生反应物，通过将该反应物去除而实现对排放水的过滤。作为后者的过滤器过滤与离心分离相结合的方法，对排放水进行过滤，将浓缩后的排放水送入离心分离机，将Si屑作为淤渣进行回收的同时，使排放水经过过滤而变成干净的水之后，或者放回自然界，或者进行再利用。例如，如图15所示，将进行切块时产生的排放水集中在原水罐301中，通过泵302送向过滤装置303。由于过滤装置303中安装有陶瓷系或有机物系的过滤器F，因此，经过过滤的水通过配管304送向回收水罐305，进行再利用，或者放回自然界。另一方面，对于过滤装置303，由于过滤器F会发生堵塞，要定期进行清洗。例如，关闭原水罐301一侧的阀B1，打开阀B3和用来从回收水罐送出清洗用水的阀B2，利用回收水罐305的水反向清洗过滤器F。由此而产生的高浓度的混入有Si屑的排放水返回原水罐301。此外，浓缩水罐306的浓缩水经由泵308向离心分离器309输送，通过离心分离器309分离为污泥(淤渣)和分离液。由Si屑形成的污泥集中在回收罐310内，分离液集中在分离液罐311中。进而，将集中有分离液的分离液罐311的排放水通过泵312向原水罐301输送。以上的方法在例如对Cu、Fe、Al等金属材料为主要材料的固态物或者片状体、陶瓷等无机物构成的固态物或片状体等磨削、研磨时所产生的屑进行回收时也得到采用。但是，前者的凝聚沉淀法，作为凝聚剂要投入化学药品。但要确定投多大量才能够使药品完全反应是非常困难的，药品总是投得多一些，从而会残留未反应的药品。反之，若药量较少，则不能够使所有的被除去物凝聚沉降，有一部分被除去物未得到分离而残留下来。特别是，药量较多的场合，药品将残留在上部清澄液中。在欲进行再利用的场合，由于滤过液体中残留有药品，因此，有些不允许发生化学反应的被除去物，将无法进行再利用。例如，在进行切块的场合，排放水由硅屑和蒸馏水构成，由于凝聚沉淀后的滤过水中残留有药品，若从晶片上流过，将发生不希望发生的反应，因此，无法作为用于切块的水而加以再利用。此外，作为药品与被除去物的反应物的絮聚物，呈类似藻类那样的漂浮物生成。形成该絮聚物的条件，对pH条件要求非常严格，还需要搅拌机、pH检测装置、凝聚剂注入装置以及对它们进行控制的控制设备等。此外，要使絮聚物稳定地沉降，需要有很大的沉淀槽。例如，如果排放水处理能力为3m3/小时，则需要直径3米、深4米的罐(约15吨的沉降罐)，而整个系统为需要占地约11米×11米的大型系统。而且，沉淀槽中还飘浮有未沉淀的絮聚物，它们有可能流到罐外，要全部回收是困难的。即，存在着设备过大、该系统原始成本高、水难以再利用、因使用药品而运行成本高等问题。而图15所示的、5m3/小时的过滤器过滤与离心分离机相结合的方法中，由于过滤装置303中使用过滤器F(称作UF组件，由聚砜系纤维构成，或者是陶瓷过滤器)，因此，能够实现水的再利用。但是，过滤装置303中安装有4根过滤器F，由于过滤器F的寿命，约50万日元一根的昂贵的过滤器至少需要一年换一次。而且，作为过滤装置303前面的泵302，由于过滤器F为加压过滤型，因此马达的负荷大，泵302为大容量泵。此外，从过滤器F中通过的排放水中2/3左右是返回回收罐301的。另外，混入有被除去物的排放水以泵302进行输送，因此，泵302的内壁会受到磨损，泵302的寿命非常短。综上所述，马达的电费非常高，泵P和过滤器F的更新费用高，因此，运行成本非常昂贵。而作为对排放水中含有的被除去物(切块屑、研磨屑或磨粒)实施凝聚沉淀的方法，由于被除去物进行了化学反应，故难以进行再利用。而且，以现有的过滤，原水罐的排放水充其量不过30～300ppm。因此，混入原水罐中的屑的量也自然受到限定，屑的回收效率非常低。从以上说明也可获知，为了尽可能去除对地球环境有害的物质，或者对滤过流体和分离出来的被除去物进行再利用，使得排放水过滤装置，随着增添各种装置而成为大规模的系统，其结果，导致原始成本、运行成本增加。因此，迄今为止的污水处理装置终究不是可采用的系统。此外，在半导体的制造过程中，包括对硅晶锭直到半导体芯片的多个机械加工工序(后级磨削、切块工序等)，将产生Si屑。而令人惊奇的是，在从晶锭一直到制造出半导体芯片的工序中，晶锭的2/3成为硅屑而被作为垃圾进行处理。此外，最近，随着晶片尺寸的大型化，晶片的厚度增大，而半导体芯片则随着轻薄短小的趋势而变薄。考虑到这种情况，晶锭的4/5将变成硅屑。
技术实现思路
本专利技术是为解决上述课题而进行创造的，第1，是一种具有接受并过滤混入有固态物的排放水而将其分离为滤饼状的所说固态物和低浓度排放水本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种移载装置，其特征是，具有，接受并过滤混入有固态物的排放水而将其分离为滤饼状的所说固态物和低浓度排放水的过滤装置、以及贮留所说低浓度排放水的滤液罐。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：対比地元幸，饭沼宏文，
申请(专利权)人：三洋电机株式会社，三洋埃科技术株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]