【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术关于半导体基板清洁的方法及设备，且更明确而言，是关于基板清 洁中所用的喷涂器(jet sprays)。
技术介绍
基板清洁是半导体器件制造过程的重要步骤。若基板未经适当清洁，基板 上形成的一或多个器件可能会遭受损坏。因此，半导体器件的良率会因未适当 清洁而有不良影响。故业界亟需要能可靠且有效率地在半导体器件制造期间清 洁基板的改良方法。
技术实现思路
于本专利技术一些实施方面中提供清洁基板的方法，包括调整喷嘴的操作参数 以产生均匀的流体喷雾图案；以及利用该均匀的流体喷雾图案来清洁基板。 于本专利技术其它实施方面中提供一种清洁基板的方法，其包括供应第一流体及第二流体至一喷嘴；调整第一流体及第二流体至该喷嘴的流率；调整喷嘴在 基板上方的高度；其中调整喷嘴的流率及高度可得均匀的流体喷雾图案，并且 该流体喷雾图案中具有预定百分比的微滴在预定尺寸范围内；于基板上方扫掠 均匀的流体喷雾图案以清洁基板；以及旋转该基板。在本专利技术又另一实施方面中系提供一种用于清洁基板的设备，其包括一控 制器及一耦接至该控制器的喷嘴。该控制器适于引导喷嘴，以将均匀流体喷雾 图案分配至基板...
【技术保护点】
一种用于清洁基板的设备，包含： 控制器；以及 喷嘴，耦接至该控制器， 其中该控制器适于引导该喷嘴将均匀流体喷雾图案分配至基板上，以及 其中该控制器适于通过调整该喷嘴的至少一个操作参数来形成该均匀流体喷雾图案。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：W陆，J唐，ASK郭，NA叶，B谢，JTC李，RR远藤，
申请(专利权)人：应用材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：US[]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。