基板支承构件，具备：载置部(20)，载置基板(P)；以及多个支承部(20b)，是设于载置部(20)，支承载置于载置部(20)的基板(P)的一部分；多个支承部(20b)之中第1部分的支承部(20b)与第2部分的支承部(20b)，与载置有基板(P)的状态下的载置部(20)的弯曲量对应，相对于载置部(20)的高度彼此不同。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术是关于一种。本申请根据2009年12月16日在日本申请的日本特愿2009-285412号及日本特愿2009-285413号主张优先权，并将其内容援引于此。
技术介绍
、在平板显示器等的电子元件的工艺中，使用曝光装置或检查装置等大型基板的处理装置。在使用此等处理装置的曝光步骤、检查步骤，使用将大型基板(例如玻璃基板)搬送至处理装置的下述专利文献所揭示的搬送装置。专利文献I :日本特开2004-273702号公报
技术实现思路
例如在专利文献I所揭示的上述大型基板的搬送装置，在将基板载置于基板支承构件并借由基板支承构件支承基板后，借由搬送臂等保持并搬送基板支承构件。因此，依基板支承构件的支承方法会有在搬送时使基板支承构件因本身重量而向下方弯曲的情形。又，在借由基板支承构件支承基板时，会有基板与基板支承构件密合，成为在该等之间不易产生滑动的状态的情形。此情形，若基板支承构件向下方弯曲，则会有在基板产生应力而使基板变形的情形。例如在曝光装置，若将呈如上述变形状态的基板交接至曝光用的基板保持具，则会产生无法在基板上的适当位置进行既定曝光等的曝光不良的问题。本专利技术的形态的目的在于提供一种可抑制在基板交接时产生的基板的变形的。本专利技术第I形态的基板支承构件，用以支承基板，其特征在于，具备载置部，载置该基板；以及多个支承部，设于该载置部，支承载置于该载置部的该基板；该多个支承部之中第I部分的支承部与第2部分的支承部相对于该载置部的高度彼此不同。本专利技术第2形态的基板搬送装置，用以搬送基板，其特征在于，具备上述基板支承构件，用以支承该基板；以及搬送部，保持该基板支承构件并移动。本专利技术第3形态的基板搬送方法，包含支承上述基板支承构件的动作；使该基板载置于该基板支承构件的该载置部的动作；以及将该基板从该载置部交接至基板保持具的动作。本专利技术第4形态的曝光装置，对基板保持具保持的基板照射曝光用光以使该基板曝光，其特征在于具备将该基板搬送至该基板保持具的上述基板搬送装置。本专利技术第5形态的元件制造方法，包含使用上述曝光装置使该基板曝光的动作；以及根据曝光结果处理曝光后的该基板的动作。本专利技术第6形态的基板搬送方法，将载置于基板支承构件的基板与该基板支承构件一起搬送，其特征在于，包含支承该基板支承构件的既定被支承部的动作；将该基板载置于支承有该被支承部的该基板支承构件的动作；以及保持载置有该基板的该基板支承构件的该被支承部或该被支承部的附近并使该基板支承构件移动的动作。本专利技术第7形态的基板搬送装置，将载置于基板支承构件的基板与该基板支承构件一起搬送，其特征在于，具备支承机构，支承该基板支承构件的既定被支承部；载置机构，将该基板载置于支承有该被支承部的该基板支承构件；以及搬送机构，保持载置有该基板的该基板支承构件的该被支承部或该被支承部的附近并使该基板支承构件移动。本专利技术第8形态的曝光装置，对基板保持具保持的基板照射曝光用光以使该基板曝光，其特征在于具备将该基板搬送至该基板保持具的上述基板搬送装置。本专利技术第9形态的元件制造方法，包含使用上述曝光装置使该基板曝光的动作；以及根据曝光结果处理曝光后的该基板的动作。 本专利技术第10形态的元件制造方法，包含使用上述基板搬送方法搬送该基板的动作；使该基板曝光的动作；以及根据曝光结果处理曝光后的该基板的动作。根据本专利技术的形态，可抑制在基板交接时产生的基板的变形。附图说明图I是显示曝光装置的整体概略的剖面俯视图。图2是搬送机器手的外观立体图。图3是用以说明搬送机器手的动作的立体图。图4A是显示搬出入部的概略构成的侧视图。图4B是显示搬出入部与搬送机器手的关系的立体图。图5A是显示托盘的平面构造的俯视图。图5B是载置部的载置面附近的放大剖面图。图6是显示托盘收容于基板保持具的槽部的状态的部分侧剖面图。图7A是说明第I实施形态的基板交接步骤的示意图。图7B是说明第I实施形态的基板交接步骤的示意图。图7C是说明第I实施形态的基板交接步骤的示意图。图8A是说明第I实施形态的基板交接步骤的示意图。图SB是说明第I实施形态的基板交接步骤的示意图。图9A是说明第I实施形态的基板交接步骤的示意图。图9B是说明第I实施形态的基板交接步骤的示意图。图9C是说明第I实施形态的基板交接步骤的示意图。图9D是说明第I实施形态的基板交接步骤的示意图。图10(a) (C)是说明现有习知基板交接步骤的示意图。图11(a) (C)是说明现有习知基板交接步骤的示意图。图12A是说明第2实施形态的基板交接步骤的示意图。图12B是说明第2实施形态的基板交接步骤的示意图。图12C是说明第2实施形态的基板交接步骤的示意图。图13A是说明第2实施形态的基板交接步骤的示意图。图13B是说明第2实施形态的基板交接步骤的示意图。图14是说明本专利技术实施形态的元件制造方法的流程图。主要元件符号说明 I 曝光装置4搬送机器手(搬送部、载置机构、搬送机构) 5，5 A搬出入部(搬送部)7，7A基板搬送装置 9 基板保持具 12 搬送手(保持臂) 12b缺口部 18 两侧部(被保持部、被支承部) 20载置部 20b支承部 21开口部(插通孔) 30槽部 31保持部 33 移动机构 51基板支承部(载置机构) 51b基板支承销(支承销) 52托盘支承部(支承机构) 52 b托盘支承销(第2支承销) 53连结构件(载置机构) 54驱动部(载置机构) 56导引部(支承机构) H高度 IL 曝光用光 P 基板 T 托盘(基板支承构件)具体实施例方式参照图式说明本专利技术的第I实施形态。又，本专利技术并不限于此。以下，针对具备本专利技术的基板搬送装置、对涂布有感光剂的基板进行使液晶显示元件用图案曝光的曝光处理的曝光装置进行说明，且针对本专利技术的基板支承构件、元件制造方法、及基板搬送方法的一实施形态亦进行说明。图I是显示本实施形态的曝光装置的概略构成的剖面俯视图。曝光装置I具备使液晶显示元件用图案曝光于基板的曝光装置本体3、搬送机器手(搬送部、搬送机构)4、搬出入部(搬送部)5、及具有托盘(基板支承构件)T的基板搬送装置7，该等是收纳于被高度洁净化、且调整至既定温度的腔室2内。本实施形态中，基板是大型玻璃板，其一边的尺寸为例如500mm以上。图2是曝光装置本体3、及将基板P搬送至此曝光装置本体3的搬送机器手4的外观立体图。曝光装置本体3具备以曝光用光IL照明光掩膜M的未图示的照明系统、保持形成有液晶显示元件用图案的光掩膜M的未图示的光掩膜载台、配置于此光掩膜载台下方的投影光学系统PL、设成可在配置于投影光学系统PL下方的基座8上二维移动的基板保持具 9、及保持基板保持具9且使该基板保持具9移动的移动机构33。亦即，曝光装置本体3，设有具备基板保持具9与移动机构33的载台装置。此外，以下说明中，设基板保持具9相对基座8的二维移动是在水平面内进行，在此水平面内彼此正交的方向设定X轴及Y轴。基板保持具9对基板P的保持面，在基准状态(例如，进行基板P的交接时的状态)下设与水平面平行。又，在与X轴及Y轴正交的方向设定Z轴，投影光学系统PL的光轴设与Z轴平行。此外，将绕X轴、Y轴及Z轴的各方向分别称为9 X方向、0Y方向及0Z方向。移动机构33具有移本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：加藤正纪，户口学，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：
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