当前位置: 首页 > 专利查询>首钢总公司专利>正文

采用EBSD定量评价钢中残余奥氏体的方法技术

技术编号:7896833 阅读:257 留言:0更新日期:2012-10-23 03:34
一种采用EBSD定量评价钢中残余奥氏体的方法,属于钢中组织测量技术领域。此方法是对去除应力的样品表面作面扫描获得背散射衍射信号,利用衍射信号区分各相,找出残余奥氏体并且勾勒出所有残余奥氏体晶粒。再经过数据处理和统计给出各种形态的残余奥氏体的含量。它利用EBSD信号代替光学信号显示组织,并且利用取向差定义晶界,能够准确的鉴别各相并且区分多个相邻晶粒,优点在于解决了TRIP钢中残余奥氏体形态的定量评价问题,克服了光学方法中组织混淆的问题,实现了残余奥氏体形态的准确定量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于钢中组织测量
,特别涉及一种采用EBSD (ElectronBackscattered Diffraction即背散射电子衍射)定量评价钢中残余奥氏体的方法。
技术介绍
TRIP (Transformation Induced Plasticity)钢即相变诱导塑性钢,利用钢中的残余奥氏体在应力作用下发生马氏体相变,从而诱发高的塑性。TRIP效应同残余奥氏体的含量有关,残余奥氏体的含量高,应变硬化率高,则强度高;但高含量的残余奥氏体并不一定对应着高的伸长率,因为TRIP效应还同残余奥氏体的稳定性有关,残余奥氏体中的碳含量决定残余奥氏体的化学稳定性,而残余奥氏体的形态与力学稳定性相关联。研究发现,不同形态的残余奥氏体,其稳定性也有差异。TRIP钢中的残余奥氏体主要以薄膜状、粗大块 状和细小粒状的形态存在,针对TRIP钢拉伸断口的组织观察发现,转变形成的马氏体束或者包的一般为大块多边形,表明粗大块状的残余奥氏体稳定性最差;而未转变的残余奥氏体都是细长的条形,表明薄膜状残余奥氏体的稳定性强于粗大块状;而细小粒状残余奥氏体由于不易引起应力集中,因而也不易发生转变。因此要评价TRIP钢的韧性,需要对残余奥氏体的形态进行定量。对于钢中残余奥氏体定量的传统方法是金相染色法,利用不同相的着色度不同来区分。目前能够在体视学基础上对残余奥氏体的量进行测量。但同一相的晶粒着色度完全相同,着色后不能区分晶粒,另外若存在MA岛,着色法也无法将残奥与MA岛区分开。EBSD (Electron Backscattered Diffraction)技术即背散射电子衍射技术,利用电子束打在样品表面形成的背散射衍射花样对晶态材料进行分析。背散射衍射遵循Bragg衍射公式,衍射花样反映材料的晶体结构、取向、应力状态等信息,是取向关系、织构分析的常用手段。但是EBSD信号对样品表面非常敏感,应力、几何起伏都会破坏背散射衍射花样质量。一般利用电解抛光方法消除应力,但是复相组织材料,特别是TRIP钢中残余奥氏体晶粒尺寸只有几个微米,但比铁素体基体硬且耐蚀,故而经过常规的电解抛光后,残余奥氏体晶粒凸起,残奥晶粒及其周围的铁素体的背散射信号会受到遮挡,面扫描的质量不高。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种采用EBSD定量评价钢中残余奥氏体的方法,主要利用背散射电子衍射技术对复相钢中各相的形态定量表征,尤其涉及残余奥氏体形态的定量 测量。能够准确测量TRIP钢中各种形态的残余奥氏体中所占含量。本专利技术在场发射扫描电镜下对复相钢样品中选定区域作面扫描,获得该区域的背散射衍射(EBSD)信号,衍射信号能够给出结构和取向信息。利用结构信息区分各相,准确筛选出残余奥氏体晶粒,在利用残余奥氏体的取向信息能够勾勒奥氏体晶粒的晶界,对各晶粒的外形参数(粒度、形态)进行统计计算,测定各个形态(主要是尺寸和长宽比)的残余奥氏体含量。具体工艺步骤如下(I)取样取待测样品小试样,试样为薄片状,厚度h 0. 25mm 2mm,表面积0. 25cm2 5cm2 ;上下表面平行,待测表面精抛光,使待测表面平整无应力;(2)设置扫描参数残余奥氏体晶粒尺寸很小,一般在零点几个微米到几微米,其中的位错密度较高,因此需要入射电子束直径尽可能小、能量尽可能高、扫描步长尽可能小。在场发射扫描电镜上使用3#物镜光阑(1# 4#直径依次减小)约束电子束直径,调整束流10 ii A 20 ii A。在上述条件下,电子束直径为50nm lOOnm,因此可以设定步长50nm IOOnm ;(3)扫描在1000 4000倍的放大倍数下作全视场的EBSD面扫描,记录标定数据; (4)数据处理去除扫描结果中的误标点(误标点是由于铁素体的伪对称性或者铁素体与奥氏体晶格某一取向的衍射花样近似而造成的错误解析,误标点与周围点有系统的取向差)和奇异点(奇异点是标定结果中与周围点不同且没有特定取向差的点)之后逐级去除噪点(噪点是扫描结果中无法解析的点),得到完整的面扫描结果;(5)统计分析统计所有残余奥氏体晶粒的长宽比r和晶粒尺寸d,列出长宽比r和晶粒尺寸d分布图。本专利技术的效果是在组织均匀的前提下可以准确给出TRIP钢等复相组织钢中残余奥氏体的含量、晶粒尺寸分布、形态分布的定量结果。避免物相混淆和多个晶粒相连带来的误差。附图说明图I为实施实例I扫描原始数据结果相图,灰色代表铁素体,黑色代表奥氏体,白色为噪点。图2为实施实例I扫描数据处理后结果相图,灰色代表铁素体,黑色代表奥氏体。图3为实施实例I中全部奥氏体的反极图。图4为奥氏体晶粒的形态和分布,I〈 r〈 2。图5为奥氏体晶粒的形态和分布,2〈 r〈 3。图6为奥氏体晶粒的形态和分布,3〈 r〈 4。图7为奥氏体晶粒的形态和分布,4〈 r〈 5。图8为奥氏体晶粒的形态和分布,r >5。图9为TRIP780样品原始组织中块状和条状的残余奥氏体。图10为TRIP780拉伸断口附近的组织中由TRIP效应形成的马氏体。图11为TRIP780拉伸断口附近的组织中未转变的残余奥氏体。具体实施例方式实施例I :TRIP780中残余奥氏体晶粒的形态分布(I)取样。取厚度为Imm的TRIP780冷轧连退薄钢板样品,尺寸I X 2cm。用砂纸将样品表面打磨,去除表面大约60 y m的脱碳层。磨平、机械抛光至无划痕后用超声波酒精清洗。再用电解抛光,选用面积为l/2cm2的抛光罩,设置电压22 23V,利用液氮降低电解液温度至疒10°C,抛光时间控制在1(T15s。电解抛光后能够轻微显示组织。(2)设置扫描参数。该样品中铁素体的晶粒尺寸在IOiim左右,大部分残余奥氏体晶粒小于U m,选用2000倍的放大倍数,此时视场中大约有300 400个铁素体晶粒,具有统计意义。设定束流为10 ii A,扫描步长为80nm,做全视场扫描。(3)数据处理。扫描完成后经过系 统自动标定得到的结果如图I所示。94. 4%的数据能够被自动识别标定,5. 6%的零解数据大多位于晶界、相界等位置。这个结果显示有13. 36%的面积为残余奥氏体,但另有若干晶粒中红蓝相间,此处出现的奥氏体为系统误标的结果,须将这些误标结果去除。此外由于bcc晶格的伪对称性,在铁素体晶粒中还会发现一些奇异点,即只有1、2个数据点的小晶粒,取向与周围完全不同,这些数据也需要在后处理中清理。后处理分为三步I)去除误标点。实验中扫描步长为0. 08 U m,因此一个数据所占区域的直径不到0.09 u m,假定少于3个步长的奥氏体标定结果为误标,即以直径〈O. 3 y m为判据,符合此判据的数据清空。再用零解数据周围的6个铁素体数据的平均值填补,即zero reductionlevel选6。此时奥氏体的量将为11. 24%,零解尚有4. 83%。可见初始标定的奥氏体中有2%左右为误标。2)去除奇异点。与第一步类似的,选出直径〈O. 3 的铁素体晶粒,将数据清空,用铁素体数据填补。3)填补零解。这一步同时选择用奥氏体和铁素体填补剩余的也就是晶界、相界处的零解点,填补依据为零解点周围2个数据的平均值。至此,所有误标和零解都被清除,标定结果如图2所示,残余奥氏体的量为12.19%,其余为铁素体。(4)统计分本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一种采用EBSD定量评价钢中残余奥氏体的方法,其特征在于,具体工艺步骤如下:(1)取样:取待测样品小试样,试样为薄片状,厚度h?0.25mm~2mm,表面积0.25?cm2~5cm2;上下表面平行,待测表面精抛光,使待测表面平整无应力;(2)设置扫描参数:在场发射扫描电镜上使用3#物镜光阑约束电子束直径,调整束流10μA~20μA;在上述条件下,电子束直径为50nm~100nm,设定步长50nm~100nm;(3)扫描:在1000~4000倍的放大倍数下作全视场的EBSD面扫描,记录标定数据;(4)数据处理:去除扫描结果中的误标点和奇异点之后逐级去除噪点,得到完整的面扫描结果;(5)统计分析:统计所有残余奥氏体晶粒的长宽比r和晶粒尺寸d,列出长宽比r和晶粒尺寸d分布图。

【技术特征摘要】
1.一种采用EBSD定量评价钢中残余奥氏体的方法,其特征在于,具体エ艺步骤如下 (1)取样取待测样品小试样,试样为薄片状,厚度hO. 25mm 2mm,表面积O. 25 cm2 5cm2 ;上下表面平行,待测表面精抛光,使待测表面平整无应カ; (2)设置扫描參数在场发射扫描电镜上使用3#物镜光阑约束电子束直径,调整束流10 μ A 20 μ A ;在上述条件下,电子束直径为50nm IOOnm,设定步长50nm IOOnm ; (3)扫描在1000 4000倍的放大倍...

【专利技术属性】
技术研发人员:孟杨崔桂彬郝京丽鞠新华
申请(专利权)人:首钢总公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1