本发明专利技术提供再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物及粘合片，其可以形成粘合力升高防止性、外观特性、对被粘物的低污染性优异、可再剥离的粘合剂层。本发明专利技术的再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物的特征在于，其包含：以(甲基)丙烯酸烷基酯和含羧基不饱和单体作为必需的原料单体构成的、原料单体总量中的(甲基)丙烯酸烷基酯的含量为70～99.5重量％且含羧基不饱和单体的含量为0.5～10重量％的丙烯酸乳液系聚合物(A)；非水溶性交联剂(B)；乙炔二醇系化合物(C)；以及由化学式[RaO-(PO)1-(EO)m-(PO)n-Rb]表示的化合物(D)，前述乙炔二醇系化合物(C)的HLB值小于13。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及可再剥离的水分散型丙烯酸系粘合剂组合物。更具体而言，本专利技术涉及ー种可形成凹陷等外观不良減少而外观特性优异、另外经时粘合力升高的防止性能优异的粘合剂层的再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物。另外，本专利技术还涉及设置有由该粘合剂组合物形成的粘合剂层的粘合片。
技术介绍
在以偏光板、相位差板、防反射板等光学薄膜为代表的光学构件(光学材料)的制造·加工エ序中，为了防止表面损伤、污染、提高切断加工性、抑制裂纹等，在光学构件的表面上贴附使用表面保护薄膜(參照专利文献1、2)。作为这些表面保护薄膜，一般使用在塑料薄膜基材的表面上设有再剥离性的粘合剂层的再剥离性的粘合片。以往，在这些表面保护薄膜用途中，作为粘合剂，使用溶剂型的丙烯酸系粘合剂(參照专利文献1、2)，由于这些溶剂型丙烯酸系粘合剂含有有机溶剤，因此，从涂覆时的操作环境性的观点考虑，试图将其转换为水分散型的丙烯酸系粘合剂(參照专利文献3 5)。要求这些表面保护薄膜在贴附于光学构件的过程中发挥充分的粘接性。进而，由于其在光学构件的制造エ序等中使用之后会被剥离，因此要求具有优异的剥离性(再剥离性)。此外，为了具有优异的再剥离性，不仅需要剥离カ小(轻剥离)，而且还需要具有在贴附于光学构件等被粘物上之后粘合力(剥离力)不经时升高的特性(粘合力升高防止性)。为了获得上述轻剥离、粘合力升高防止性等特性，在粘合剂(或粘合剂组合物)中使用非水溶性交联剂是有效的。作为使用非水溶性交联剂的粘合剂组合物，例如已知有含有油溶性交联剂的再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物(參照专利文献6、7)。然而，如上述粘合剂组合物那样，使用非水溶性交联剂的水分散型丙烯酸系粘合剂组合物中，非水溶性交联剂的大颗粒不充分分散而残留在粘合剂组合物中，由此，在形成粘合剂层时在粘合剂层表面容易产生“凹陷”等外观不良。因此，尤其是对表面保护薄膜的粘合剂层使用非水溶性交联剂时，有时会产生在贴附表面保护薄膜的状态下难以进行被粘物的检查等问题。因此，现状是还未能获得可形成粘接性与再剥离性(尤其是粘合力升高防止性)优异、“凹陷”等外观不良減少的外观特性优异的粘合剂层的再剥离性的水分散型丙烯酸系粘合剂组合物。另外，水分散型丙烯酸系粘合剂组合物为了得到稳定的水分散性而在粘合剂组合物中存在表面活性剂成分，由此，存在粘合剂组合物变得容易起泡的问题。尤其是在粘合剂组合物的搅拌エ序中，由于搅拌时容易吞入空气、另外吞入的气泡通过表面活性剂变得稳定，因此具有难以去除气泡的问题。这些气泡会在形成粘合剂层时残存在粘合剂层中，在粘合剂层表面形成“凹陷”等，产生外观不良。因此，尤其是在用作表面保护薄膜的粘合剂层等时，有时会产生在贴附表面保护薄膜的状态下难以进行被粘物的检查等问题。尤其，在表面保护薄膜用途(特别是光学构件的表面保护薄膜用途)等中，难以区分粘合剂层中残存的气泡、粘合剂层表面存在的“凹陷”是贴附的部件(作为被粘物的光学构件等)的缺陷、还是表面保护薄膜缺陷，有时会成为品质检查、品质管理的阻碍，因此迫切需要不存在这些源自气泡的缺陷的表面保护薄膜。作为改善这些源于气泡的的缺陷的手法，使用添加消泡剂的方法，出于其优异的消泡性，已知有有机硅系消泡剂、含有疏水性ニ氧化硅的消泡剂(參照专利文献8、9)。然而，有机硅系消泡剂存在如下问题在粘合剂组合物中的均匀分散性差，会局部性地形成疏水性高的部分,其会成为起点引发粘合剂组合物涂覆时的收缩变形(crawling).另外，还存在如下问题有机硅系消泡剂与丙烯酸乳液系聚合物的相容性差，在形成粘合剂层之后会滲出到粘合剂层表面，引发对被粘物的污染。尤其是在光学构件的表面保护薄膜用途中，污染物有可能对光学特性产生影响，因此会成为严重的问题。另ー方面，存在如下问题含有疏水性ニ氧化硅的消泡剂虽然在粘合剂组合物中的均匀分散性优异，但含有的疏水性ニ氧化硅会形成2次聚集物，产生源自ニ氧化硅颗粒的缺陷。另外，在光学构件的表面保护薄膜用途中，若粘合剂组合物中存在杂质则会形成光学缺陷，因此通常使用过滤器等对粘合剂组合物进行过滤。此时，还具有ニ氧化硅颗粒堵塞在过滤器上、降低生产效率的问题。此外，在表面保护薄膜用途(尤其是光学构件的表面保护薄膜用途)等中，粘合片剥离时粘合剂残留在被粘物(光学构件等)表面上(所谓的“残胶”)、由粘合剂层中所含的成分转印到被粘物表面上等而引起的被粘物表面的污染导致了对光学构件的光学特性产生不良影响等问题。因此，強烈要求粘合剂、粘合剂层具有对被粘物的低污染性。现有技术文献专利文献专利文献I :日本特开平11-961号公报专利文献2 :日本特开2001-64607号公报专利文献3 :日本特开2001-131512号公报专利文献4 :日本特开2003-27026号公报专利文献5 :日本特许第3810490号说明书专利文献6 :日本特开2004-91563号公报专利文献7 日本特开2006-169496号公报专利文献8 日本特开平8-34963号公报专利文献9 日本特开2005-279565号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术的目的在于提供ー种水分散型丙烯酸系粘合剂组合物，其能形成可再剥离的的粘合力升高防止性和外观特性(凹陷等外观不良減少)以及低污染性优异。另外，本专利技术的目的还在于提供具有由该粘合剂组合物形成的粘合剂层的粘合片。用于解决问题的方案本专利技术人等为达成上述目的进行了深入研究，结果发现，通过将由特定组成的原料单体得到的丙烯酸乳液系聚合物、非水溶性交联剂、特定的こ炔ニ醇系化合物以及特定、结构的聚醚化合物作为构成成分，可以得到能形成粘合力升高防止性和外观特性以及低污染性优异的粘合剂层的水分散型丙烯酸系粘合剂组合物，从而完成了本专利技术。S卩，本专利技术提供ー种再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物，其特征在于，其包含以(甲基)丙烯酸烷基酯和含羧基不饱和单体作为必需的原料单体构成的、原料単体总量中的(甲基)丙烯酸烷基酯的含量为70 99. 5重量％、含羧基不饱和单体的含量为O.5 10重量％的丙烯酸乳液系聚合物(A);非水溶性交联剂(B);こ炔ニ醇系化合物(C)；以及下述式(I)表示的化合物(D)，こ炔ニ醇系化合物(C)的HLB值小于13。RaO-(PO)1-(EO)m-(PO)n-Rb ⑴(式中，Ra和Rb表示直链状或支链状的烷基、或氢原子。PO表示氧亚丙基、EO表示氧亚こ基。l、m和η分别为正整数。EO与PO的加成方式为嵌段型。) 进而，本专利技术提供如前所述的再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物，其中，丙烯酸乳液系聚合物(A)为使用分子中包含自由基聚合性官能团的反应性乳化剂进行聚合而成的聚合物。进而，本专利技术提供如前所述的再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物，其中，相对于前述含羧基不饱和单体的羧基I摩尔，非水溶性交联剂(B)的能够与羧基反应的官能团的摩尔数为O. 3 I. 3摩尔。另外，本专利技术提供ー种粘合片，其特征在于，在基材的至少ー个面侧具有由前述的再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物形成的粘合剂层。进而，本专利技术提供如前所述的粘合片，其中，前述粘合剂层的不溶于溶剂的成分为90重量％以上、断裂点伸长率为200%以下。进而，本专利技术提供如前所述的粘合片，其中，其为光学构件用的表面保护薄膜。发本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物，其特征在于，其包含：以(甲基)丙烯酸烷基酯和含羧基不饱和单体作为必需的原料单体构成的、原料单体总量中的(甲基)丙烯酸烷基酯的含量为70～99.5重量％且含羧基不饱和单体的含量为0.5～10重量％的丙烯酸乳液系聚合物(A)；非水溶性交联剂(B)；乙炔二醇系化合物(C)；以及下述式(I)表示的化合物(D)，乙炔二醇系化合物(C)的HLB值小于13，RaO？(PO)1？(EO)m？(PO)n？Rb？？？？(I)式中，Ra和Rb表示直链状或支链状的烷基、或氢原子，PO表示氧亚丙基、EO表示氧亚乙基，l、m和n分别为正整数，EO与PO的加成方式为嵌段型。
【技术特征摘要】
2011.04.13 JP 2011-0895541.一种再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物，其特征在于，其包含以(甲基)丙烯酸烷基酯和含羧基不饱和单体作为必需的原料单体构成的、原料单体总量中的(甲基)丙烯酸烷基酯的含量为70 99. 5重量％且含羧基不饱和单体的含量为O. 5 10重量％的丙烯酸乳液系聚合物㈧；非水溶性交联剂⑶；乙炔二醇系化合物(C);以及下述式(I)表示的化合物(D)，乙炔二醇系化合物(C)的HLB值小于13，RaO-(PO)1-(EO)m-(PO)n-Rb (I) 式中，Ra和Rb表示直链状或支链状的烷基、或氢原子，PO表示氧亚丙基、EO表示氧亚乙基，l、m和η分别为正整数，EO与PO的加成方式为...
【专利技术属性】
技术研发人员：天野立巳，森本有，三井数马，高岛杏子，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：
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