水分散型丙烯酸类粘合剂组合物以及粘合片制造技术

本发明专利技术提供能够形成粘合性、防静电性、再剥离性、防经时剥离力（粘合力）上升性以及外观特性优良、并且对被粘物的低污染性、特别是在高湿度环境下在被粘物上产生白化污染的防止性（防白化污染性）优良的粘合剂层的水分散型丙烯酸类粘合剂组合物。本发明专利技术的水分散型丙烯酸类粘合剂组合物，其特征在于，含有以70～99.5重量%的（甲基）丙烯酸烷基酯以及0.5～10重量%的含羧基不饱和单体作为单体成分而构成的丙烯酸类乳液型聚合物、非水溶性离子液体、以及HLB值小于13的炔二醇类化合物和/或其衍生物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】水分散型丙烯酸类粘合剂组合物以及粘合片
本专利技术涉及能够形成可以再剥离的粘合剂层的水分散型丙烯酸类粘合剂组合物。具体而言，本专利技术涉及能够形成防静电性、再剥离性（轻剥离性）、对被粘物的低污染性以及防经时剥离力（粘合力）上升性优良的粘合剂层的水分散型丙烯酸类粘合剂组合物。另外，本专利技术涉及设置有包含所述粘合剂组合物的粘合剂层的粘合片。
技术介绍
以起偏振板、相位差板、防反射板等光学薄膜为代表的光学构件（光学材料）的制造、加工工序中，出于防止表面划痕、污渍、提高切割加工性、抑制破裂等目的，在光学构件的表面上粘贴使用表面保护薄膜（参见专利文献1、2）。作为这些表面保护薄膜，一般使用在塑料薄膜基材的表面设置有再剥离性的粘合剂层的再剥离性的粘合片。以往，这些表面保护薄膜用途中使用溶剂型丙烯酸类粘合剂作为粘合剂（参见专利文献1、2），但是这些溶剂型丙烯酸类粘合剂含有有机溶剂，因此从涂布时的作业环境性的观点考虑，转换为水分散型丙烯酸类粘合剂（参见专利文献3～5）。这些表面保护薄膜要求在粘贴到光学构件上的期间发挥充分的胶粘性。另外，在光学构件的制造工序等中使用后被剥离，因此要求优良的剥离性（再剥离性）。另外，为了具有优良的再剥离性，除了剥离力小（轻剥离）以外，还需要在粘贴到光学构件等被粘物上后，剥离力（粘合力）不会经时上升的特性（防剥离力（粘合力）上升性）。另外，一般而言，表面保护薄膜或光学构件由塑料材料构成，因此电绝缘性高，在摩擦或剥离时产生静电。因此，在从起偏振板等光学构件上将表面保护薄膜剥离时，产生静电，在此时产生的静电残留的状态下对液晶施加电压时，存在液晶分子的取向损失并且产生面板的缺损的问题。另外，静电的存在具有引起吸引尘埃或碎屑的问题、作业性下降的问题等的可能性。因此，为了解决上述问题，对表面保护薄膜实施各种防静电处理。作为抑制带静电的尝试，公开了在粘合剂中添加低分子量的表面活性剂，将表面活性剂从粘合剂中转印到被保护体上以防静电的方法（例如，参见专利文献6）。但是，所述方法中，添加的低分子量的表面活性剂容易渗出到粘合剂表面，在应用于表面保护薄膜时，担心会污染被粘物（被保护体）。如上所述，在这些任何一项现有技术中，均不能均衡地解决上述问题，在静电、污染成为特别严重的问题的电子设备相关的
，难以应对对防静电性表面保护薄膜的进一步改良的要求。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平11-961号公报专利文献2：日本特开2001-64607号公报专利文献3：日本特开2001-131512号公报专利文献4：日本特开2003-27026号公报专利文献5：日本专利第3810490号说明书专利文献6：日本特开平9-165460号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题但是，如上所述，在这些任意一项现有技术中，均不能均衡地解决上述问题，在静电、污染成为特别严重的问题的电子设备相关的
，现状是难以应对对具有防静电性等的表面保护薄膜的进一步改良的要求，尚未得到具有再剥离性等的水分散型丙烯酸类粘合剂。因此，本专利技术的目的在于提供能够形成粘合性（胶粘性）、防静电性、再剥离性、防经时剥离力（粘合力）上升性以及外观特性优良、并且对被粘物的低污染性、特别是在高湿度环境下在被粘物上产生白化污染的防止性（防白化污染性）优良的粘合剂层的水分散型丙烯酸类粘合剂组合物。另外，本专利技术的目的在于提供具有由所述粘合剂组合物形成的粘合剂层的粘合片。用于解决问题的手段本专利技术人为了实现上述目的进行了广泛深入的研究，结果发现，将由特定组成的原料单体得到的特定丙烯酸类乳液型聚合物、非水溶性（疏水性）离子液体、以及具有特定的HLB值的炔二醇类化合物和/或其衍生物作为构成成分，可以得到能够形成粘合性（胶粘性）、防静电性、再剥离性、防经时剥离力（粘合力）上升性、低污染性以及外观特性优良的粘合剂层的水分散型丙烯酸类粘合剂组合物，并且完成了本专利技术。即，本专利技术的水分散型丙烯酸类粘合剂组合物，其特征在于，含有以70～99.5重量%的（甲基）丙烯酸烷基酯以及0.5～10重量%的含羧基不饱和单体作为单体成分而构成的丙烯酸类乳液型聚合物、非水溶性（疏水性）离子液体、以及HLB值小于13的炔二醇类化合物和/或其衍生物。本专利技术的水分散型粘合剂组合物，相对于所述丙烯酸类乳液型聚合物的固体成分100重量份，优选含有0.01～10重量份所述炔二醇类化合物和/或其衍生物。本专利技术的水分散型粘合剂组合物，优选所述离子液体含有氟。本专利技术的水分散型粘合剂组合物，优选所述离子液体为酰亚胺盐。本专利技术的水分散型粘合剂组合物，优选所述离子液体含有选自由下式（A）～（E）表示的阳离子组成的组中的至少一种阳离子，式（A）中的Ra表示碳原子数4～20的烃基，可以为所述烃基的一部分由杂原子取代的官能团，Rb和Rc相同或不同，表示氢或碳原子数1～16的烃基，可以为所述烃基的一部分由杂原子取代的官能团，其中，氮原子具有双键时，不存在Rc；式（B）中的Rd表示碳原子数2～20的烃基，可以为所述烃基的一部分由杂原子取代的官能团，Re、Rf和Rg相同或不同，表示氢或碳原子数1～16的烃基，可以为所述烃基的一部分由杂原子取代的官能团；式（C）中的Rh表示碳原子数2～20的烃基，可以为所述烃基的一部分由杂原子取代的官能团，Ri、Rj和Rk相同或不同，表示氢或碳原子数1～16的烃基，可以为所述烃基的一部分由杂原子取代的官能团；式（D）中的Z表示氮原子、硫原子或磷原子，Rl、Rm、Rn和Ro相同或不同，表示碳原子数1～20的烃基，可以为所述烃基的一部分由杂原子取代的官能团，其中，Z为硫原子时，不存在Ro；式（E）中的Rp表示碳原子数1～18的烃基，可以为所述烃基的一部分由杂原子取代的官能团。本专利技术的水分散型粘合剂组合物，优选所述离子液体含有下列通式（a）～（d）表示的一种以上的阳离子，式（a）中的R1表示氢或碳原子数1～3的烃基，R2表示氢或碳原子数1～5的烃基，式（b）中的R3表示氢或碳原子数1～3的烃基，R4表示氢或碳原子数1～5的烃基，式（c）中的R5表示氢或碳原子数1～3的烃基，R6表示氢或碳原子数1～5的烃基，式（d）中的R7表示氢或碳原子数1～3的烃基，R8表示氢或碳原子数1～5的烃基。本专利技术的水分散型粘合剂组合物，相对于所述丙烯酸类乳液型聚合物的固体成分100重量份，优选含有4.9重量份以下所述离子液体。本专利技术的水分散型粘合剂组合物，优选所述丙烯酸类乳液型聚合物为使用分子中含有可自由基聚合官能团的反应性乳化剂进行聚合而得到的聚合物。本专利技术的水分散型粘合剂组合物，优选还含有分子中具有两个以上能够与羧基反应的官能团的非水溶性交联剂。本专利技术的粘合片，优选在基材的至少单面侧具有由前述的水分散型丙烯酸类粘合剂组合物形成的粘合剂层。本专利技术的粘合片，优选为光学构件用的表面保护薄膜。专利技术效果本专利技术的水分散型丙烯酸类粘合剂组合物含有特定的丙烯酸类乳液型聚合物、非水溶性（疏水性）离子液体以及特定的炔二醇类化合物和/或其衍生物，因此由前述粘合剂组合物形成的粘合剂层具有优良的粘合性（胶粘性）、防静电性和再剥离性（轻剥离性）。特别是，防经时与被粘物的剥离力（粘合力）上升性、低污染性、高湿度环境下保存时的防白化污染性以及外观特性优良。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种水分散型丙烯酸类粘合剂组合物，其特征在于，含有以70～99.5重量%的（甲基）丙烯酸烷基酯以及0.5～10重量%的含羧基不饱和单体作为单体成分而构成的丙烯酸类乳液型聚合物、非水溶性离子液体、以及HLB值小于13的炔二醇类化合物和/或其衍生物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.10.19 JP 2011-2301091.一种粘合剂层，其使用水分散型丙烯酸类粘合剂组合物而形成，其特征在于，所述水分散型丙烯酸类粘合剂组合物含有以70～99.5重量％的(甲基)丙烯酸烷基酯以及0.5～10重量％的含羧基不饱和单体作为单体成分而构成的丙烯酸类乳液型聚合物、非水溶性离子液体、以及HLB值小于13的炔二醇类化合物和/或其衍生物，所述粘合剂层的凝胶分数为90重量％以上。2.如权利要求1所述的粘合剂层，其特征在于，相对于所述丙烯酸类乳液型聚合物的固体成分100重量份，含有0.01～10重量份所述炔二醇类化合物和/或其衍生物。3.如权利要求1所述的粘合剂层，其特征在于，所述离子液体含有氟。4.如权利要求1所述的粘合剂层，其特征在于，所述离子液体为酰亚胺盐。5.如权利要求1所述的粘合剂层，其特征在于，所述离子液体含有选自由下式(A)～(E)表示的阳离子组成的组中的至少一种阳离子，式(A)中的Ra表示碳原子数4～20的烃基，可以为所述烃基的一部分由杂原子取代的官能团，Rb和Rc相同或不同，表示氢或碳原子数1～16的烃基，可以为所述烃基的一部分由杂原子取代的官能团，其中，氮原子具有双键时，不存在Rc；式(B)中的Rd表示碳原子数2～20的烃基，可以为所述烃基的一部分由杂原子取代的官能团，Re、Rf和Rg相同或不同，表示氢或碳原子数1～16的烃基，可以为所述烃基的一部分由杂原子取代的官能团；式(C)中的Rh表示碳原子数2～20的烃基，可以为所述烃基的一部分由杂原子取代的...

【专利技术属性】
技术研发人员：天野立巳，森本有，三井数马，米崎幸介，高岛杏子，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP