喷嘴清洗装置及基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种喷嘴清洗装置及基板处理装置，能够提高喷出喷嘴的清洗处理的清洗效果。在清洗细缝喷嘴（４１）的清洗部（７４）上，设置接近细缝喷嘴（４１）的喷出口（４１ａ）的下方的导向块（７４３）。此外，在设置喷出氮气的气体喷嘴（７１０）和喷出漂洗液（ＬＱ）的清洗喷嘴（７５０）的同时，利用吸引装置吸引细缝喷嘴（４１）的喷出口（４１ａ）的下方。通过设定导向块（７４３）的Ｘ轴方向的厚度为喷出口（４１ａ）的Ｘ轴方向的宽度或其以上的厚度，从而进行调整，使得吸引装置的吸引力不直接作用到喷出口（４１ａ）上。由此，可以使吸引装置的吸引力上升，提高清洗效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及对喷出规定的处理液的喷出喷嘴进行清洗的喷嘴清洗装置及基板处理装置。
技术介绍
对液晶用玻璃方形基板、半导体晶片、薄膜液晶用柔性基板、光掩模用基板、彩色滤光片用基板(下面简称为“基板”)等的表面上涂敷抗蚀剂等处理液的基板处理装置是公知的。通过利用这种基板处理装置，从喷出喷嘴喷出抗蚀剂液，在基板表面上形成抗蚀剂液的涂敷膜。图18至图20是分阶段地表示在将抗蚀剂液涂敷到基板上的基板处理装置中，通过反复进行涂敷处理，抗蚀剂液的附着物残留在喷出喷嘴上的状况的示意图。图18表示在初始状态，细缝喷嘴100的前端部处于正常状态。此外，图19表示对几十个基板进行涂敷处理后的状态，图20表示对几百个基板进行涂敷处理后的状态。即，在这样的基板处理装置中，当反复对基板进行涂敷处理时，在喷出口101的周边及细缝喷嘴100的前端部侧面逐渐残留抗蚀剂液R。特别是，在利用细缝喷嘴100进行涂敷处理的基板处理装置(细缝涂敷机)中，如图19及图20所示，当用附着有不均匀的抗蚀剂液R的状态的细缝喷嘴100进行涂敷处理时，发生条状的涂敷不匀。因此为了进行稳定的涂敷处理，有必要定期地清洗除去残留在喷出口10本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种喷嘴清洗装置，对从设于前端部的喷出口喷出规定的处理液的喷出喷嘴进行清洗，其特征在于，包括：清洗液供应装置，其从喷出口向前述喷出喷嘴的前端部附近供应规定的清洗液；　吸引装置，其通过吸引口吸引由前述清洗液供应装置供应的前述规 定的清洗液，调整前述吸引装置的吸引力，使得前述喷出口附近成为前述规定的处理液的大致停留点。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：高木善则，川口靖弘，
申请(专利权)人：大日本网目版制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]