本实用新型专利技术涉及应用电子技术领域，尤其涉及阵列测试设备的校验系统、位移检测装置以及移动装置，用于解决如何自动调整阵列测试设备中光学系统与检测底座之间位移的问题；校验系统包括阵列测试设备，阵列测试设备包括电耦合摄像机，光学系统以及检测底座；校验系统还包括：安装在光学系统上或检测底座上的位移检测装置；安装在检测底座上的移动装置；位移检测装置，用于检测光学系统与检测底座之间的位移；移动装置，用于在位移检测装置检测到光学系统与检测底座之间产生位移时，根据位移带动所述检测底座进行移动。采用该校验系统，能够实现自动调整阵列测试设备中光学系统与检测底座之间的位移。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及应用电子
，尤其涉及阵列测试设备的校验系统、位移检测装置以及移动装置。技术背景由于平板显示器的生产工艺非常复杂，因此生产出的平板显示器不可避免的会出现各种缺陷，例如，液晶面板上的线路断开，或者线路连接有误等；目前，通常使用阵列测试设备(Array Tester)对液晶面板进行检测，该阵列测试设备的结构如图I所示，其中包括电耦合摄像机((XD Camera) 11、光学系统12以及检测底座(Mount) 13 ;所述CXDCamerall中的像素与被检测产品中的像素——对应；所述Mountl3上还安装有调节器，所述调节器表面有一层液晶分子，正常情况下该液晶分子会将被检测产品发出的光线作为光信号反射给所述CXD CameralI，使所述CXD Camerall中的像素能够接收被检测产品中与CCD Camerall相对应的像素的光信号；当被检测产品存在缺陷时，调节器中的液晶分子会旋转一个角度，而这个角度将导致CCD Camerall中的像素无法接收被检测产品中与CCDCamerall相对应的像素的光信号。而阵列测试设备上主要部件为所述光学系统12，而所述光学系统12是否能够毫无偏差的接收到来自所述Mountl3的光信号，主要取决于所述光学系统12与所述Mountl3之间的光路是否会产生偏差。在实际使用中，由于在动力或其他外力的作用下所述光学系统12和所述Mount 13之间将会产生位移，直接导致所述光学系统12与所述Mount 13之间的光路产生偏差；当所述偏差轻微时，会对液晶面板的检测结果报出不准确的不良检测结果；当所述偏差严重时，将会报出大量的不准确的不良检测结果。现有技术中为了避免这种现象，需要经常对所述光学系统12和所述Mountl3之间的位置进行校正以保证光学系统光路的准确性。校正的方法是工作人员通过对所述Mount 13通过敲击的方式进行调整。但本专利技术人发现，在敲击的过程中还是很容易出现光路偏差或转角，且敲击产生的震动容易损坏所述光学系统12内的部件，因此在调整过程中需要轻、准、稳，这样就使得调整的难度增大、准确性降低。
技术实现思路
本技术涉及应用电子
，尤其涉及一种阵列测试设备的校验系统、位移检测装置以及移动装置，用于解决如何自动调整阵列测试设备中光学系统与检测底座之间位移的问题。—种阵列测试设备的校验系统，所述校验系统包括阵列测试设备，所述阵列测试设备包括电耦合摄像机，光学系统以及检测底座；所述校验系统还包括安装在所述光学系统上或所述检测底座上的位移检测装置；安装在所述检测底座上的移动装置；所述位移检测装置，用于检测所述光学系统与所述检测底座之间的位移；所述移动装置，用于在所述位移检测装置检测到所述光学系统与所述检测底座之间产生位移时，根据所述位移带动所述检测底座进行移动。一种位移检测装置，应用于阵列测试设备，安装在所述阵列测试设备的光学系统上或所述检测底座上；所述位移检测装置包括初级线圈、两个相同的次级线圈以及铁芯；所述铁芯放置在所述初级线圈和所述两个相同的次级线圈之间，还包括计算单元；所述次级线圈与所述计算单元相连，将所述铁芯发生移动时产生的直流电压传输给所述计算单元；所述计算单元根据接收到的所述直流电压计算出位移量并输出。一种移动装置，应用于阵列测试设备，安装在所述阵列测试设备的检测底座上；所 述移动装置包括马达、齿轮和齿条；所述马达与所述齿轮相连，所述齿轮位于所述齿条上，所述齿条嵌入在所述检测底座上，还包括计算单元；所述计算单元与所述马达相连；所述计算单元根据接收到的位移信号计算出位移量，并将该位移量传输给所述马达；所述马达根据接收到的位移量带动所述齿轮在所述齿条上移动。可见，采用本技术实施例提供的校验系统，当检测出光学系统与检测底座之间发生了位移后，可精确计算出光学系统与检测底座之间偏移的位移量，该位移量包括位移距离与位移方向；由于，移动装置安装在检测底座上，当移动装置接收到所述位移量后，带动检测底座按照位移量中所包含的位移距离与位移方向进行移动；可见，本技术实施例提供的系统能够实现自动调整阵列测试设备中光学系统与检测底座之间的位移。附图说明图I为现有技术中种阵列测试设备的结构示意图；图2为本技术实施例一提供的种阵列测试设备的检验系统结构示意图；图3为本技术实施例一提供的位移检测装置与运算装置的连接结构示意图；图4为本技术实施例一提供的运算装置与移动装置的连接结构示意图；图5为本技术实施例一提供的位移检测装置安装位置的俯视结构示意图；图6为现有技术中的位移检测装置结构示意图；图7为本技术实施例二提供的位移检测装置电压输出曲线图；图8为本技术实施例二提供的位移传感器与移动装置的连接结构示意图；图9为本技术实施例三提供的红外测距装置与移动装置的连接结构示意图；图10为本技术实施例四提供的位移检测装置结构示意图；图11为本技术实施例五提供的移动装置结构示意图。具体实施方式本技术实施例提供一种阵列测试设备的校验系统、位移检测装置以及移动装置，采用本技术实施例提供的校验系统，当检测出光学系统与检测底座之间发生了位移后，可精确计算出光学系统与检测底座之间偏移的位移量，该位移量包括位移距离与位移方向；由于，移动装置安装在检测底座上，当移动装置接收到所述位移量后，带动检测底座按照位移量中所包含的位移距离与位移方向进行移动；可见，本技术实施例提供的系统能够实现自动调整阵列测试设备中光学系统与检测底座之间的位移。以下以具体实施例进行介绍。实施例一参见图2，本技术实施例一提供一种阵列测试设备的校验系统，该校验系统用于在检测出光学系统12与检测底座(Mount) 13之间发生位移时，调整检测底座(Mount) 13的位置，以达到纠正光路偏差的目的。该阵列测试设备包括电耦合摄像机((XD Camera) 11、光学系统12以及检测底座(Mount) 13 ;所述电耦合摄像机11连接在所述光学系统12的上端，所述光学系统12的底端安装在所述检测底座13的凹槽内；所述校验系统还包括位移检测装置14，所述位移检测装置14安装在所述光学系统12上，如图2所示；或安装在所述检测底座13上；在检测到所述光学系统12与所述检测底座13之间产生位移时，如图3所示，所述位移检测装置14通过自身的信号输出端口 31向与其相连的运算装置32的接入端口 33发送位移信号；如图4所示，所述运算装置32的输出端口 34与移动装置41的位移接入端口 44相连；在接收到所述位移信号后通过所述计算单元101计算出所述光学系统12(如图2所示)与所述检测底座13 (如图2所示)之间的位移量，并将所述位移量发送给所述移动装置41的位移接入端口 44 ;所述位移量包括位移方向和位移距离；如图2和图4所示，所述移动装置41安装在所述检测底座13上，根据接收到的所述位移量通过自身马达43带动自身齿轮16在齿条15上进行移动，以此带动所述检测底座按照所述位移量所指示的位移方向和位移距离进行移动，所述齿条15嵌入在所述检测底座13上；具体的，为了保证校验系统对所述检测底座13与所述光学系统12之间位移的检测结果的准确性，所述校验系统可包括三个或本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种阵列测试设备的校验系统，所述校验系统包括阵列测试设备，所述阵列测试设备包括电耦合摄像机，光学系统以及检测底座；其特征在于，所述校验系统还包括 安装在所述光学系统上或所述检测底座上的位移检测装置；安装在所述检测底座上的移动装置； 所述位移检测装置，用于检测所述光学系统与所述检测底座之间的位移；所述移动装置，用于在所述位移检测装置检测到所述光学系统与所述检测底座之间产生位移时，根据所述位移带动所述检测底座进行移动。2.如权利要求I所述的校验系统，其特征在于，所述校验系统还包括运算装置； 所述移动装置通过所述运算装置与所述位移检测装置相连； 当所述位移检测装置检测到所述光学系统与所述检测底座之间产生位移时，向所述运算装置发送位移信号； 所述运算装置在接收到所述位移信号后计算出所述光学系统与所述检测底座之间的位移量，并将所述位移量发送给所述移动装置； 所述移动装置根据接收到的所述位移量带动所述检测底座进行移动。3.如权利要求I所述的校验系统，其特征在于，所述位移检测装置与所述移动装置相连； 所述位移检测装置检测到所述光学系统与所述检测底座之间产生位移后，计算出所述光学系统与所述检测底座之间的位移量，并将所述位移量发送给所述移动装置； 所述移动装置根据接收到的所述位移量带动所述检测底座进行移动。4.如权利要求I所述的校验系统，其特征在于，所述位移检测装置与所述移动装置相连； 所述位移检测装置在检测到所述光学系统与所述检测底座之间产生位移后，向所述移动装置发送位移信号； 所述移动装置根据接收到的所述位移信号计算出所述光学系统与所述检测底座之间的位移量，并根据所述位移量带动所述检测底座进行移动。5.如权利要求I所述的校验系统，其特征在于，所述校验系统包括三个或三个以上所述位移检测装置，且分散设置在所述光学系统外罩的四周或分散设置在所述检测底座的凹槽的槽壁上。6.如权利要求5所述的校验系统，其特征在于，当所述位移检测装置设置在所述光学系统外罩底端的四周时，安装位置不高于所述凹槽的深度。7.如权利要求1-6任意一项所述的校验系统，其特征在于，所述校验系统包括至少两个安装在所述检测底座上任意位置的移动装置；位于所述检测底座上的移动装置带动所述检测底座在横向方向及纵向方向上移动。8.如权利要求7所...
【专利技术属性】
技术研发人员：林金升，赵海生，马海涛，高原，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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