光刻掩模板清洁方法技术

本发明专利技术公开了一种用于清洁ＴＦＴ－ＬＣＤ（薄膜晶体管－液晶显示器）工业用大型光刻掩模板的方法，利用高压空气枪，辅助聚合物清洁棒和工业用棉棒的方法，并适时利用辅助试剂丙酮和纯水，达到有效清除光刻掩模板表面的微小异物颗粒和污渍的效果。本清洁方法适用于在工业用洁净室里现场进行操作，配合利用内置于曝光装置内部的灰尘检查装置，实时地监控掩模板表面的异物颗粒附着情况，有效及时防止由于光刻掩模板表面异物引起曝光图案转写后产生的产品共通缺陷。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于清洁TFT-LCD(薄膜晶体管-液晶显示器)工业用大型光刻掩模版的方法。
技术介绍
TFT-LCD制造行业中，特别是大尺寸液晶面板制造业中，光刻掩模版是在光刻工艺的关键部件。利用紫外光和光刻掩模版对涂布有光刻胶(感光树脂)的按照设计图形进行曝光，可以将光刻掩模版上的电子器件图案按照1∶1或者其他比例转写到基板上，并经过显影、刻蚀、剥离等工艺形成电子器件。由于光刻掩模版的缺陷会引起曝光转写后产品图案的缺陷，从而引起产品的可靠性低下或者良率低下。光刻掩模版的缺陷分为两种，一种是由于制作、搬送或者使用不当造成的掩模版自身的固有缺陷。这种缺陷只能通过掩模版出厂检验严格化、搬送或使用时规范化等方法进行防止，但是一旦发生了基本上不可挽回。另一种缺陷是由于生产环境或者生产过程中产生的异物颗粒附着于光刻掩模版的表面，或者由于人为或其他原因引起掩模版表面的污渍等。这种缺陷通过一定的清洁方法可以去除。大尺寸的光刻掩模版制造工艺复杂、难度大，价格昂贵。而且掩模版上有着微米级的电子器件图案，所以很容易被造成损害。由于以上原因，一般的制造厂商都只是定期地对掩模版表面进行简单的异物情况本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻掩模板清洁方法，其特征在于，在曝光装置内的灰尘检查装置报警后，将掩模板取出，利用强光光源查看灰尘分布，然后利用压缩气枪将异物去除。

【技术特征摘要】
1.一种光刻掩模板清洁方法，其特征在于，在曝光装置内的灰尘检查装置报警后，将掩模板取出，利用强光光源查看灰尘分布，然后利用压缩气枪将异物去除。2.根据权利要求1所述的光刻掩模板清洁方法，其特征在于，气体来源必须是纯净的压缩空气或者氮气，气枪是塑料材料，内部无润滑油。3.根据权利要求2所述的光刻掩模板清洁方法，其特征在于，所述强光光源与掩模板的表面呈30度。4.根据权利要求3所述的光刻掩模板清洁方法，其特征在于，依据灰尘检查装置提供的异物颗粒分布图来查看灰尘分布。5.根据权利要求4所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：谭智敏，
申请(专利权)人：上海广电NEC液晶显示器有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]