光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物制造技术

本发明专利技术提供一种光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物。在制造光致抗蚀剂时，所述光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物对灵敏度高的肟酯类光聚合引发剂的溶解性良好，且不会损害电子材料用途的浆料组合物的特性。所述光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物用于溶解肟酯类光聚合引发剂，其包含溶剂A，所述溶剂A具有选自下述式(A)所示的化合物中的至少一种化合物。下述式(A)中，R1～R4相同或不同，分别为C1-2的烷基，R1和R3、或R2和R4任选相互键合而分别形成环。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光聚合引发剂溶解性优异的光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物、以及包含该光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物的光致抗蚀剂制造用组合物。
技术介绍
为了实现液晶显示器等显示装置的彩色化，通常需要在两张基板之间设置由红(R)、绿(G)、蓝(B)、黄(Y)等像素区域构成的滤色器。但是，滤色器的各像素区域之间被无间隙地填埋时，则在其边界会引起对比度降低等。为了防止该问题，通常，形成利用黒色的隔片将各顔色的像素区域分割开的黑色矩阵。为了形成黑色矩阵及滤色器，通常可使用光致抗蚀剂。对于黒色矩阵而言，有使用 金属的遮光材料的黒色矩阵、及使用非金属的遮光材料的黒色矩阵。近年来，出于环境方面的考虑，作为非金属的黒色矩阵，树脂黒色矩阵正在増加。树脂黑色矩阵浆料由遮光材料、粘合剂树脂、多官能単体、光聚合引发剂、溶剂等构成。黑色矩阵经过以下⑴ (6)的エ序来制造。(I)配制黒色矩阵浆料。(2)将上述黒色矩阵浆料涂布在基板上后进行薄层化。(3)在100°C左右的温度下蒸发溶剂并进行干燥。(4)照射100mJ/cm2左右强度的UV来进行光固化。(5)喷雾碳酸钠水溶液，清洗不需要的树脂成分。(6)在200°C左右的温度下加热以进行热固化。在黒色矩阵的光固化中，由于配合有浆料组合物中所含的遮光剂，因此，到达深处的光变弱。因此，需要在浆料组合物中大量含有灵敏度高的光聚合引发剂。作为灵敏度高的光聚合引发剂，可以举出具有咔唑骨架的肟酯类光聚合引发剂(专利文献I)。但这些光聚合弓I发剂的溶解性差，难以大量溶解在溶剂中。因此，在专利文献2中公开了如下内容从对光聚合引发剂的溶解性方面考虑，可使用环己酮及包含环己酮的混合溶剂作为黑色矩阵的浆料用溶剂(专利文献2)。但是，环己酮有生态毒性的担心，并且作为VOC限制对象化合物，存在需要在操作中设定有机溶剂操作负责人等的限制，因此，正在寻求其代替溶剤。在滤色器及黒色矩阵用途中，从涂布性及顔料分散性方面考虑，其它的通常使用的溶剂包括丙ニ醇单甲醚こ酸酷、3-甲氧基丁醇こ酸酷、1，6_己ニ醇ニこ酸酷、1，3_ 丁ニ醇ニこ酸酷、ニ丙ニ醇单甲醚こ酸酷、ニ丙ニ醇ニ甲醚、ニこニ醇ニ甲醚、ニこニ醇ニこ醚、こ酸环己醇酷、丙ニ醇ニこ酸酷、ニ丙ニ醇ニこ酸酷、ニこニ醇单こ醚こ酸酷、ニこニ醇单丁醚こ酸酯等(专利文献3、专利文献4)。现有技术文献专利文献专利文献I :日本专利第4448381号公报专利文献2 :日本特开2009-173560号公报专利文献3 :日本特开2009-271502号公报专利文献4 :日本特开2010-249869号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题因此，本专利技术的目的在于提供一种光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物，在制造光致抗蚀剂时，所述光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物对灵敏度高的肟酯类光聚合引发剂的溶解性良好，并且不会损害电子材料用途的浆料组合物的特性。另外，本专利技术的目的在于提供一种光致抗蚀剂制造用组合物，该光致抗蚀剂制造用组合物包含所述光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物，并且涂布性、顔料分散性、染料溶解性、环氧树脂/丙烯酸树脂溶解性、干燥性、安全性等优异。解决问题的方法本专利技术人等为了解决上述课题进行了深入研究，结果发现，通过使用特定的溶剤，可以实现对肟酯类光聚合引发剂的高溶解性。此外还发现，根据需要将上述溶剂与通常用于电子材料用途的溶剂混合，能够进一歩提高涂布性、顔料分散性、染料溶解性、环氧树脂/丙烯酸树脂溶解性、干燥性、安全性等。本专利技术就是基于以上见解而完成的。S卩，本专利技术提供一种光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物，其用于溶解肟酯类光聚合引发剂，该光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物包含溶剂A，所述溶剂A具有选自下述式(A)所示的化合物中的至少ー种化合物。[化学式I]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
2011.03.08 JP 2011-050789;2011.03.08 JP 2011-050781.一种光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物，其用于溶解肟酯类光聚合引发剂，该光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物包含溶剂A，所述溶剂A具有选自下述式(A)所示的化合物中的至少ー种化合物，2.根据权利要求I所述的光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物，其中，还包含至少ー种与所述溶剂A相溶的溶剂B。3.根据权利要求2所述的光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物，其中，包含30重量％以上的所述溶剂A。4.根据权利要求3所述的光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物，其中，包含50重量％以上的所述溶剂A。5.根据权利要求I 4中任一项所述的光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物，其中，肟酯类光聚合引发剂为下述式(PD所示的化合物(P1)，6.根据权利要求5所述的光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物，其中，肟酯类光聚合引发剂为下述式⑴所示的化合物⑴7.根据权利要求5所述的光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物，其中，肟酯类光聚合弓I发剂为下述式⑵所示的化合物⑵，且溶剂A为I，3-ニ甲基-3，4，5，6-四氢-2 (IH)-...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木阳二，赤井泰之，
申请(专利权)人：株式会社大赛璐，
类型：发明
国别省市：