【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光致抗蚀剂组合物中所用的溶剂。本专利技术特别是 涉及适用于通过狭缝涂敷进行高速涂敷的光致抗蚀剂组合物中适 用的溶剂。
技术介绍
在例如平板显示器(以下也称为FPD)的制造过程中，要将 光敏性组合物涂敷于玻璃基板上。在该过程中，以前，对于小尺 寸玻璃基板的涂覆，采用的是旋涂法。但是，该旋涂法不适合用 于涂敷大尺寸的基板。因此，作为其替代方法，有的采用狭缝涂 敷法或缝模涂敷法。这些方法的特征是，由在基板表面上移动的 喷嘴供给所需量的抗蚀剂组合物形成覆膜。另外，也有根据需要 将喷嘴固定，而使玻璃基板移动的情况。如此涂敷的基板，继续 进行干燥和固化，除去组合物中的溶剂，再进一步进行加工处理。随着基板的大型化，为了进一步提高生产力和降低成本，需要更 高速的制造方法。即，需要进一步提高基板上移动喷嘴的速度， 以缩短涂lt所需的时间。另一方面，对于能够进行这种高速涂敷的涂敷液，需要有特 别的性能，特别是在涂敷过程中不发生覆膜脱落以及不产生涂敷 不均是很重要的。通常，近来的狭缝涂敷的涂敷速度最高能达到 200mm/s的水平。为提高制品的生产力，提高该涂敷速度是非常...
【技术保护点】
一种光致抗蚀剂用溶剂，为可以通过狭缝涂敷法涂敷于基板的光致抗蚀剂组合物中所用的光致抗蚀剂用溶剂，其特征在于，基于该溶剂的重量，１０重量％以上为在２０℃下粘度为１．１ｃｐ以下的低粘度溶剂。
【技术特征摘要】
JP 2006-9-12 2006-2472231. 一种光致抗蚀剂用溶剂，为可以通过狭缝涂敷法涂敷于基板 的光致抗蚀剂组合物中所用的光致抗蚀剂用溶剂，其特征在于，基于该溶剂的重量，10重量％以上为在2(TC下粘度为l.lcp以下 的低粘度溶剂。2. 权利要求1所述的光致抗蚀剂用溶剂，其中上述低粘度溶剂 其结构中含有羰基、羧酸酯基、碳酸酯基、氰基、或醚键、或芳 香族单元、或它们的组合。3. 权利要求1或2所述的光致抗蚀剂用溶剂，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：拉尔夫格罗滕穆勒，沃尔夫冈察恩，高桥修一，
申请(专利权)人：AZ电子材料日本株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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