化学品和特种气体监控及分析系统及方法技术方案

本发明专利技术提供了一种化学品和特种气体监控及分析系统及方法。根据本发明专利技术的化学品和特种气体监控及分析系统包括：监控服务器、数据库服务器、分析服务器以及客户端；其中，监控服务器与数据库服务器相连，数据库服务器、分析服务器和客户端相互连接；监控服务器用于对化学品和特种气体的供应数据进行监控，并将监控获取的数据写入所述的数据库服务器中；数据库服务器用于存储从所述监控服务器所采集的化学品和特种气体的供应数据；分析服务器用于从数据库服务器中提取数据进行统计分析；客户端用于查看所连接的数据库服务器中的实时化学品和特种气体的供应数据，并可查看所连接的分析服务器中根据化学品和特种气体的供应历史数据统计分析所得的报表。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造领域，具体地说，本专利技术涉及ー种化学品和特种气体监控及分析系统、以及化学品和特种气体监 控及分析方法，更具体地说，所述化学品和特种气体监控及分析系统以及化学品和特种气体监控及分析方法尤其适合于监控及分析半导体晶圆的制造エ艺过程中用到的化学品和/或特种气体。
技术介绍
化学品和特种气体在半导体晶圆的制造エ艺过程中是必不可少。由于化学品和特种气体的化学性能以及它们在半导体制造过程中的作用的原因，保持化学品和特种气体的稳定供应，对于保证半导体エ厂的正常运营有着非常重要的意义。其中，特种气体是指那些在特定领域中应用的，对气体有特殊要求的纯气、高纯气、或由高纯单质气体配制的ニ元或多元混合气。目前，在半导体晶圆的制造エ艺过程中，化学品和特种气体的供应管理缺乏系统支持；而且，化学品和特种气体的供应数据没有进行集成统ー的管理，管理人员无法监控化学品和特种气体的供应数据，并且缺失针对化学品和特种气体的供应数据的有效分析。因此，希望提供ー种能够为化学品和特种气体的供应情况提供系统支持、并且能够对化学品和特种气体的供应情况进行监控和分析的化学品和特种气体监控及分析系统和化学品和特种气体监控及分析方法。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是针对现有技术中存在上述缺陷，提供ー种能够为化学品和特种气体的供应情况提供系统支持、并且能够对化学品和特种气体的供应情况进行监控及分析的化学品和特种气体监控及分析系统和化学品和特种气体监控及分析方法。根据本专利技术的第一方面，提供了ー种化学品和特种气体监控及分析系统，其包括监控服务器、数据库服务器、分析服务器以及客户端；其中，监控服务器与数据库服务器相连，数据库服务器、分析服务器和客户端相互连接；所述监控服务器用于对化学品和特种气体的供应数据进行监控，并将监控获取的数据写入所述的数据库服务器中；所述数据库服务器用于存储从所述监控服务器所采集的化学品和特种气体的供应数据；所述分析服务器用于从数据库服务器中提取数据进行统计分析；所述客户端用于查看所连接的数据库服务器中的实时化学品和特种气体的供应数据，并可查看所连接的分析服务器中根据化学品和特种气体的供应历史数据统计分析所得的报表。优选地，所述化学品和特种气体监控及分析系统监控的供应数据包括化学品库存量、化学品使用量、特种气体库存量、特种气体使用量。优选地，所述化学品和特种气体监控系统分析的指标包括化学品历史平均使用量、化学品预测使用时间、特种气体历史平均使用量、特种气体预测使用时间。根据本专利技术的第二方面，提供了ー种化学品和特种气体监控及分析方法，其包括利用监控服务器监控化学品和特种气体的供应数据；采集所述监控服务器所监控的供应数据以发送至数据库服务器进行存储；根据不同的分析指标，利用分析服务器从所述数据库服务器提取相应的数据进行分析；通过客户端来连接数据库服务器以监控供应数据，并且通过客户端来连接分析服务器以查看分析指标。优选地，所述化学品和特种气体监控及分析方法监控的供应数据包括化学品库存量、化学品使用量、特种气体库存量、特种气体使用量。优选地，所述化学品和特种气体监控方法分析的指标包括化学品历史平均使用量、化学品预测使用时间、特种气体历史平均使用量、特种气体预测使用时间。与现有技术相比，本专利技术提出的ー种可用于半导体晶圆制造的化学品和特种气体的监控分析的系统和方法，通过监控服务器监控供应数据，并将数据发送至数据库服务器，分析服务器根据分析指标提取数据进行分析，供应数据和分析指标可通过客户端进行查看。由此，本专利技术具有为化学品和特种气体的供应情况提供系统支持、对化学品和特种气体的供应情况进行监控和分析的优点。 附图说明结合附图，并通过參考下面的详细描述，将会更容易地对本专利技术有更完整的理解并且更容易地理解其伴随的优点和特征，其中图I是根据本专利技术第一实施例的化学品和特种气体监控及分析系统的系统结构图。图2是根据本专利技术第二实施例的化学品和特种气体监控及分析方法的流程图。需要说明的是，附图用于说明本专利技术，而非限制本专利技术。注意，表示结构的附图可能并非按比例绘制。并且，附图中，相同或者类似的元件标有相同或者类似的标号。具体实施例方式为了使本专利技术的内容更加清楚和易懂，下面结合具体实施例和附图对本专利技术的内容进行详细描述。〈第一实施例〉图I是根据本专利技术第一实施例的化学品和特种气体监控及分析系统的系统结构图。如图I所示，根据本专利技术第一实施例的化学品和特种气体监控及分析系统包括监控服务器a、数据库服务器b、分析服务器c以及客户端d。其中，监控服务器a与数据库服务器b相连，所述的数据库服务器b、分析服务器c和客户端d相互连接。需要说明的是，上述服务器以及客户端之间的连接关系可以通过有线或者无线的方式进行连接，并且可以通过各种介质进行连接，例如通过局域网LAN进行连接，或者通过因特网进行连接。具体地说，所述监控服务器a用于对化学品和特种气体的供应数据进行监控，并将监控获取的数据写入所述的数据库服务器中；所述数据库服务器b用于存储从所述监控服务器a所采集的化学品和特种气体的供应数据；所述分析服务器c用于根据需求从数据库服务器中提取数据进行统计分析；所述客户端d用于查看所连接的数据库服务器b中的实时化学品和特种气体的供应数据，并可查看所连接的分析服务器c中根据化学品和特种气体的供应历史数据统计分析所得的报表。更具体地说，上述化学品和特种气体监控及分析系统监控的供应数据包括但不限于化学品库存量、化学品使用量、特种气体库存量、特种气体使用量。上述化学品和特种气体监控系统分析的指标包括但不限干化学品历史平均使用量、化学品预测使用时间、特种气体历史平均使用量、特种气体预测使用时间。所述化学品和特种气体监控及分析系统尤其适合于监控及分析半导体晶圆的制造エ艺过程中用到的化学品和/或特种气体。<第二实施例>图2是根据本专利技术第二实施例的化学品和特种气体监控及分析方法的流程图。图2所示的本专利技术第二实施例的化学品和特种气体监控及分析方法例如可以基于图I所示的根据本专利技术第一实施例的化学品和特种气体监控及分析系统的系统结构。如图I和图2所示，本专利技术第二实施例的化学品和特种气体监控及分析方法包括如下步骤步骤201，利用监控服务器a监控化学品和特种气体的供应数据；优选地，在步骤201，还使监控服务器a将监控获取的数据写入所述的数据库服务器中；步骤202，采集监控服务器a所监控的供应数据以发送至数据库服务器b进行存储；步骤203，根据不同的分析指标，利用分析服务器c从所述数据库服务器b提取相应的数据进行分析；步骤204，通过客户端d来连接数据库服务器b以监控供应数据，并且通过客户端d来连接分析服务器c以查看分析指标。同样地，更具体地说，上述化学品和特种气体监控及分析方法监控的供应数据包括但不限于化学品库存量、化学品使用量、特种气体库存量、特种气体使用量。上述化学品和特种气体监控方法分析的指标包括但不限于化学品历史平均使用量、化学品预测使用时间、特种气体历史平均使用量、特种气体预测使用时间。化学品和特种气体监控及分析方法适合于监控及分析半导体晶圆的制造エ艺过程中用到的化学品和/或特种气体。与现有技术相比，本专利技术提出的ー种可用于半导体晶圆制造的化学品和特种气体的监控分本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张怀，柯陈宾，刘惠然，胡秀梅，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：