流体调节器、流体阀体、用于流体调节器的阀体制造技术

本公开涉及流体调节器、流体阀体以及用于流体调节器的阀体。示例性的流体调节器包括一具有主通道的主体，该主通道限制限定流体地耦接入口和出口的出孔腔以连接入口和出口，其中该主通道限定在入口和孔腔之间限制出的入口体积容积边界，以及在孔腔和出口之间限制出的出口容积边界。该出口容积边界的一部分包括一邻近孔腔的内壁。一阀塞设置于该通道的第二部分内，从而该内壁大体上实质上围绕阀塞的外表面以大体上实质上限制流体在该内壁和阀塞的外表面之间朝向喉部流动。阀体具有位于出口容积边界内的第二流体通道以在流体流过孔腔时增加朝向阀体的喉部的流体流动。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本公开大体上涉及流体调节器，更具体地，涉及一种具有集成的升压减小能力的阀体。 
技术介绍
流体调节器通常用来降低流体压强和将压强调节至大体上恒定值。具体来说，流体调节器具有接收相对高压强的供给流体的入口并且在出口处提供相对低的设定控制压强。通过限制流经孔腔来将入口压强降低为相对较低的出口压强以实质上匹配波动的下游需求。例如，与一设备(例如，锅炉)相结合的的气体调节器可以从气体分配源接收具有相对高和有些变化的压强的气体，并可以将气体调节至具有较低的、实质上恒定或适合由设备安全、有效地利用的控制压强。 当将流体调节器设置于一系列不同的压差时，流体调节器往往基于流体调节器将出口压强保持在设定控制压强的能力分级。当将流体调节器设置于特定的压差中时，流体调节器偏离于设定控制压强不能接受的量，该流体调节器被视为调节器的该等级或该精度等级之外。偏离设定控制压强往往由流体调节器的降压和/或升压流动特性造成。升压流动特性可以显著降低流体调节器的精度和/或能力等级。 
技术实现思路
现有技术存在由于流体调节器的降压和/或升压流动特性造成偏离设定控制压强的问题。 在一个实施例中，流体调节器包括具有主通道的主体，所述主 通道限定流体地耦接入口与出口的孔腔，其中所述主通道限定在所述入口和孔腔之间的入口容积边界以及在所述孔腔和所述出口之间的出口容积边界。所述出口容积边界的一部分包括邻近所述孔腔的内壁。阀塞设置于所述通道的第二部分内，这样内壁实质上围绕所述阀塞的外表面设置以实质上限制所述内壁与所述阀塞的所述外表面之间以及朝向喉部的流体流动。所述阀体具有在出口容积边界内的第二流体通道以提高朝向所述孔腔的流体流动。 可选地，所述第二流体通道邻近所述孔腔并位于所述出口的上游。 可选地，当过程流体流经所述主通道时，所述第二通道通过产生下降效果以降低所述流体调节器的升压效果。 可选地，所述第二通道与所述阀体的所述内壁一体形成。 可选地，所述第二流体通道包括形成于在所述孔腔与所述主体的所述喉部之间的所述内壁中的纵向间隙。 可选地，所述间隙在所述内壁的外围边缘的至少一部分上延伸。 可选地，所述间隙限定所述内壁的两个相反的末端，以及其中所述相反的末端实质上平行于所述孔腔的纵轴。 可选地，所述相反的末端被以相对于所述孔腔的所述纵轴以大致5度至180度的角度隔开。 可选地，所述相反的末端被以相对于孔腔的所述纵轴以大致100度的角度隔开。 可选地，所述第二通道包括一个或多个形成于所述内壁中的放气口以允许流体经由所述放气口在所述内壁与所述外表面之间经由放气口流动以及朝向所述主体的所述喉部的流体流动。 可选地，所述放气口至少部分地设置于所述内壁的周边上。 可选地，所述放气口相对于所述孔腔的所述纵轴被径向地隔开。 可选地，所述放气口围绕所述孔腔的所述纵轴被均等地隔开。 可选地，所述放气口具有实质上相似的轮廓和形状以在所述孔腔与所述喉部之间提供实质上相似的流速。 在另一个实施例中，流体阀体包括与所述阀体一体形成的第一通道以限定流体地将所述通道的入口耦接至所述通道的出口的孔腔，以及与所述阀体一体形成的第二通道，以当所述阀体耦接执行器时增加所述第一通道的所述孔腔与用于流体地连通执行器的感应腔室的、所述阀体的喉部区域之间的流体流速。 可选地，当所述阀塞设置于邻近所述孔腔的所述第一通道内时，所述第一通道限制所述孔腔与所述喉部区域之间的流体连通。 可选地，当所述阀塞设置于邻近所述孔腔的所述第一通道内时，所述第二通道允许所述孔腔与所述喉部区域之间的流体连通。 可选地，所述第一通道包括具有内表面的内壁，其在所述阀塞设置于所述第一通道内时，紧密靠近所述阀塞的外表面，从而所述内壁和所述阀塞引导流体流向所述出口并限制在所述阀塞的所述外表面与所述内壁的所述内表面之间的流体流动。 在又一个实施例中，用于流体调节器的阀体包括：控制流体流经所述流体调节器的通道的装置，所述用于控制流体流动的装置可滑动地设置于邻近所述通道的内壁，从而所述内壁和所述控制流体流动的装置引导流体朝向所述流体调节器的出口流经所述通道的所述孔腔并且限制朝向所述通道的喉部区域的流体流动；以及用于当所述流体以相对高速流过所述孔腔时引导所述流体朝向喉部区域流经所述孔腔的装置，其中所述用于引导流体朝向所述喉部区域流经所述孔腔的装置与所述通道一体形成。 可选地，所述用于引导流体朝向所述喉部区域流经所述孔腔的装置包括与所述内壁一体成型的用于增加所述孔腔与所述喉部区域之间的流体流速的装置。 相比于现有技术，在此所述的示例性流体调节器基于设定控制压强调节流体的流动以使下游压强保持在可接受的压强限制内。此外，流体调节器包括具有集成的升压减少能力的示例性阀体以显著 的提高流体调节器的额定能力和/或精度等级。具体地，在此所述的示例性阀体在当流体调节器设置于相对高速流体流动时控制流体调节器的升压和/或防止过度升压。换言之，在此所述的示例性阀体使流体调节器能够获得在比诸如与传统阀体实施的流体调节器更宽范围的运行压差上的精度等级。 附图说明图1示出了具有传统阀体的已知的自运行流体调节器； 图2示出了图1中所述阀体的局部、放大的剖视图； 图3是出了图1和2中阀体的俯视图； 图4示出了在此所述的具有示例性阀体的流体调节器； 图5A示出了图4中示例性阀体的剖视图； 图5B示出了图4和5A中示例性阀体的俯视图； 图6示出了在此所述的另一个示例性阀体。 具体实施方式在此所述的示例性流体调节器基于设定控制压强调节流体的流动以使下游压强保持在可接受的压强限制内。此外，流体调节器包括具有集成的升压减少能力的示例性阀体以显著的提高流体调节器的额定能力和/或精度等级。具体地，在此所述的示例性阀体在当流体调节器设置于相对高速流体流动时控制流体调节器的升压和/或防止过度升压。换言之，在此所述的示例性阀体使流体调节器能够获得在比诸如与传统阀体实施的流体调节器更宽范围的运行压差上的精度等级。 具体地，示例性阀体限定具有流体地耦接阀体的入口和出口的孔腔的主要或主流体流动通道以及将所述孔腔与所述阀体的喉部区域流体地耦接的第二通道。更具体地，所述主通道包括邻近所述孔腔的内壁，与设置于所述通道内的阀塞相结合的所述孔腔实质上限制朝向所述阀体的所述喉部区域方向的流体流动。具体地，所述内 壁和所述阀塞朝向所述阀体的出口并远离所述喉部区域地偏离或引导流体流经所述通道的所述孔腔。引导流体远离所述喉部区域可以降低降压流动特性。然而，当流体以相对高的压差流经所述孔腔时，引导流体远离所述喉部区域也可以提高或造成过度升压。 第二通道提供流体流动通道以流体地耦接孔腔和喉部区域。因此，被阀塞和内壁另外地引导或偏离远离喉区域的流体能够经由第二通道在喉部区域内流动或移动。换句话说，当流体以相对高速流过主要通道的孔腔时，第二通道产生降压以防止过度升压流动特性。 第本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
2010.11.01 US 61/408,9581.流体调节器，其特征在于，包括：
主体，具有限定流体地耦接入口和出口的孔腔的主通道，其中所述主通道限定在所述入口与所述孔腔之间的入口容积边界以及在所述孔腔与所述出口之间的出口容积边界，并且其中所述出口容积边界的一部分包括邻近所述孔腔的内壁；
阀塞，设置于所述通道内，以使得所述内壁实质上围绕所述阀塞的外表面以实质上限制在所述内壁与所述阀塞的所述外表面之间以及朝向喉部的流体流动；以及
第二流体通道，位于所述出口容积边界内，以当流体流过所述孔腔时增加朝向所述阀体的所述喉部的流体流动。
2.根据权利要求1所述的流体调节器，其特征在于，所述第二流体通道邻近所述孔腔并位于所述出口的上游。
3.根据权利要求1所述的流体调节器，其特征在于，当过程流体流经所述主通道时，所述第二通道通过产生下降效果以降低所述流体调节器的升压效果。
4.根据权利要求1所述的流体调节器，其特征在于，所述第二通道与所述阀体的所述内壁一体形成。
5.根据权利要求1所述的流体调节器，其特征在于，所述第二流体通道包括形成于在所述孔腔与所述主体的所述喉部之间的所述内壁中的纵向间隙。
6.根据权利要求5所述的流体调节器，其特征在于，所述间隙在所述内壁的外围边缘的至少一部分上延伸。
7.根据权利要求5所述的流体调节器，其特征在于，所述间隙限定所述内壁的两个相反的末端，以及其中所述相反的末端实质上平行于所述孔腔的纵轴。
8.根据权利要求7所述的流体调节器，其特征在于，所述相反的末端被以相对于所述孔腔的所述纵轴以大致5度至180度的角 度隔开。
9.根据权利要求7所述的流体调节器，其特征在于，所述相反的末端被以相对于孔腔的所述纵轴以大致100度的角度隔开。
10.根据权利要求1所述的流体调节器，其特征在于，所述第二通道包括一个或多个形成于所述内壁中的放气口以允许流体经由所述放气口在所述内壁与所述外表面之间经由放气口流动以及朝向所述主体的所述喉部的流体流动。
11.根据权利要求10所述的流体调节器，其特征在于，所述放气口至少部分地设置于所述内壁的周边...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·B·奇泽克，D·B·大卫，
申请(专利权)人：艾默生过程管理调节技术公司，
类型：实用新型
国别省市：