【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及使用了模具(die)的,更具体地说涉及不产生涂敷纹理而均匀地涂敷的涂敷方法、该方法所用的涂敷装置及其设计方法。
技术介绍
以往,槽模(slot-die)的内部设计以抑制涂敷厚度在宽度方向上的偏差、实现涂敷厚度的均匀化为目的,以模具的吐出部的宽度方向的流出量变得均匀的形式进行。对于槽模而言,设有在模具内部以在宽度方向上输送涂敷液为目的的槽(岐管(manifold))、和从岐管到模具吐出部以对涂敷液施加整流效果为目的的切口状的流路。因此,通过设计岐管的形状、尤其是设计在涂敷液的流动方向上的截面形状,使得从岐管到吐出部的压力损失在宽度方向上变得均匀、或者使得岐管中的涂敷液的流动方向的截面积变得均匀,由此,使在宽度方向上的流出量均匀(参照特开平5-50004号公报)。可是,若是由所述的设计获得的槽模,则在岐管内,随着远离对岐管供给涂敷液的液体供给部,涂敷液的流速减小,在模具内部的涂敷液的流动时间越接近涂工一端越加速变长。因此,若将作为涂敷液而含有分散粒子的浆料等具有经时变化的物质使用于由所述的设计获得的槽模,则存在涂敷膜产生特有的纹理等外观不良的问题。专 ...
【技术保护点】
一种涂敷液的涂敷方法,是使用模具将含有分散粒子的涂敷液涂敷到被涂工物上的方法,其特征在于, 在所述模具的内部设置的岐管内的所述涂敷液的流动,在所述岐管的从液体供给部到端部的至少80%的区域中,所述涂敷液的平均流速的宽度方向偏差在岐管整个区域的平均流速的60%以下。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:藤原诚,田渊纯也,小松原诚,
申请(专利权)人:日东电工株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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