涂敷液的涂敷方法、该方法所用的涂敷装置及其设计方法制造方法及图纸

本发明专利技术的涂敷液的涂敷方法，是使用模具将含有分散粒子的涂敷液涂敷到被涂工物上的方法，其特征在于，在所述模具的内部设置的岐管（５）内的所述涂敷液的流动，在所述岐管（５）的从液体供给部（８）到端部（Ｐ）的至少８０％的区域中，所述涂敷液的平均流速的宽度方向偏差在岐管（５）整个区域的平均流速的６０％以下。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及使用了模具(die)的，更具体地说涉及不产生涂敷纹理而均匀地涂敷的涂敷方法、该方法所用的涂敷装置及其设计方法。
技术介绍
以往，槽模(slot-die)的内部设计以抑制涂敷厚度在宽度方向上的偏差、实现涂敷厚度的均匀化为目的，以模具的吐出部的宽度方向的流出量变得均匀的形式进行。对于槽模而言，设有在模具内部以在宽度方向上输送涂敷液为目的的槽(岐管(manifold))、和从岐管到模具吐出部以对涂敷液施加整流效果为目的的切口状的流路。因此，通过设计岐管的形状、尤其是设计在涂敷液的流动方向上的截面形状，使得从岐管到吐出部的压力损失在宽度方向上变得均匀、或者使得岐管中的涂敷液的流动方向的截面积变得均匀，由此，使在宽度方向上的流出量均匀(参照特开平5-50004号公报)。可是，若是由所述的设计获得的槽模，则在岐管内，随着远离对岐管供给涂敷液的液体供给部，涂敷液的流速减小，在模具内部的涂敷液的流动时间越接近涂工一端越加速变长。因此，若将作为涂敷液而含有分散粒子的浆料等具有经时变化的物质使用于由所述的设计获得的槽模，则存在涂敷膜产生特有的纹理等外观不良的问题。
技术实现思路
本专利技术鉴于所述问题而提出，其目的在于提供在使用模具将具有经时变化的涂敷液涂敷在被涂工物上时，减少产生特有的纹理等外观不良的涂敷液的涂敷方法、该方法所用的涂敷装置以及涂敷装置的设计方法。本申请专利技术者为了解决所述以往的问题点，对涂敷液的涂敷方法、该方法所用的涂敷装置以及涂敷装置的设计方法进行了锐意研究。其结果发现，在模具内部、更加具体地说在岐管内的涂敷液的流动时间和涂敷后的涂敷液的纹理产生区域之间存在相关关系，直到完成了本专利技术。即，为了解决所述问题，本专利技术的涂敷液的涂敷方法是使用模具将含有分散粒子的涂敷液涂敷到被涂工物上的方法，其特征在于，在所述模具的内部设置的岐管内的所述涂敷液的流动，在所述岐管的从液体供给部到端部的至少80％的区域中，所述涂敷液的平均流速的宽度方向偏差在岐管整个区域的平均流速的60％以下。若存在涂敷液在岐管内长久滞留的区域，则在被涂工物上涂敷了涂敷液时，在与长久滞留区域对应的部分产生薄、细、长的纹理。但是，按照所述的方法，通过使岐管内的涂敷液的流动，在从其液体供给部到端部的至少80％的区域中，所述涂敷液的平均流速的宽度方向偏差在岐管整个区域的平均流速的60％以下，由此减少岐管内涂敷液滞留的部分，使岐管的宽度方向上产生的涂敷液的流动时间的差尽量均匀，从而减少流动偏差。其结果，能够减少在被涂工物上涂工了涂敷液而形成的涂敷膜上产生纹理的情况，能够形成外观良好的涂敷膜。优选所述涂敷液在岐管内的流动，在所述岐管的从液体供给部到端部的至少40％的区域中，使所述涂敷液的平均流速随着远离液体供给部而增大。另外，为了解决所述问题，本专利技术的涂敷液的涂敷装置是使用模具将含有分散粒子的涂敷液涂敷到被涂工物上的装置，其特征在于，所述模具具有模具主体，其是组合一对模板而构成的；岐管，其形成在所述模具主体的内部，使涂敷液分配在其宽度方向上；液体供给部，其设于所述一对模板的至少任一个，向所述岐管供给涂敷液；切槽，其从所述岐管遍及到模具主体的前缘而形成在一对模板之间；和模唇，其作为涂敷液吐出口而设置于所述模具主体的前缘，所述岐管被设置在模具主体的内部，与所述模具的宽度方向平行，或以所述液体供给部为中心向所述切槽侧以5度以下的角度倾斜，而且，在所述岐管的纵截面方向上的截面积设为A、从所述液体供给部侧的规定位置到岐管的端部的宽度方向上的距离设为x时，是满足下式的形状∂2A∂x2≥0.]]>根据所述结构，通过将岐管设为满足所述式的形状，将岐管内的涂敷液的流动时间设在能够尽量抑制分散粒子在岐管内的滞留的时间内。其结果，可提供如下的涂敷装置，即，在涂敷了含有分散粒子的涂敷液时，能够防止被认为是因分散粒子在岐管内滞留而引起的纹理的产生，从而可进行涂敷液的涂敷。另外，由于岐管设于模具主体的内部，与模具的宽度方向平行、或以液体供给部为中心向切槽侧以5度以下的角度倾斜，所以，能够防止涂敷液涂敷后的膜厚的偏差在模具的宽度方向上增大的情况。另外，在所述涂敷液的涂敷装置中，优选所述岐管的形状为，在从所述液体供给部到端部的至少80％的区域中，所述涂敷液的平均流速的宽度方向偏差在岐管整个区域的平均流速的60％以下。根据所述结构，在岐管内的至少80％的区域中，涂敷液的流动时间在能够抑制因分散粒子的滞留引起的纹理产生的时间以下。其结果，可提供如下涂敷装置，即，能够减少在将涂敷液涂工在被涂工物上而形成的涂敷膜上产生纹理的情况。优选形成的形状为，在所述岐管的从所述液体供给部到所述端部的至少40％的区域中，所述涂敷液的平均流速随着远离液体供给部而增大。优选所述液体供给部设于所述模具的宽度方向上的至少任一方的端部侧。另外，为了解决所述问题，本专利技术的涂敷装置的设计方法，其中的涂敷装置具有从切槽对被涂工物喷涂出含有分散粒子的涂敷液、从而对被涂工物进行涂工的模具，该涂敷装置的设计方法的特征在于，至少基于含有涂敷液材料数据、涂工条件数据及设计的模具内部的形状数据的输入数据，直到在所述模具的内部设置的岐管的纵截面方向上的截面积A、和从向该岐管供给所述涂敷液的液体供给部侧的规定位置到岐管的端部的宽度方向上的距离x变得满足下式为止，改变模具内部的形状数据，利用计算机反复进行模具内的三维流动计算，由此确定模具内部的形状，进行模具设计 ∂2A∂x2≥0.]]>若是所述的设计方法，至少基于包括含有分散粒子的涂敷液的涂敷液材料数据、涂工条件数据及设计的模具内部的形状数据的输入数据，直到在模具的内部设置的岐管的纵截面方向上的截面积A、和从液体供给部侧的规定位置到岐管的距离x满足所述式为止，改变模具内部的形状数据，反复进行模具内的三维流动计算，从而进行模具设计。由此，可设计出如下的模具，即，可将岐管内的涂敷液的流动时间设在能够尽量抑制分散粒子在岐管内滞留的时间内。其结果是，可设计出如下的模具，即，在涂敷了含有分散粒子的涂敷液时，能够防止被认为是因分散粒子在岐管内的滞留而引起的纹理的产生，从而可进行涂敷液的涂敷。优选模具内部的形状设计以如下形式进行在所述岐管的从所述液体供给部到所述端部的至少80％的区域中，所述涂敷液的平均流速的宽度方向偏差在岐管整个区域的平均流速的60％以下。根据所述方法，在岐管内的至少80％的区域中，将涂敷液的流动时间设计在能够抑制因分散粒子的滞留引起的纹理产生的时间以下。其结果，可设计出如下的涂敷装置，即，能够减少在将涂敷液涂工在被涂工物上而形成的涂敷膜上产生纹理的情况。优选模具内部的形状设计以如下形式进行在所述岐管的从液体供给部到端部的至少40％的区域中，所述涂敷液的平均流速随着远离液体供给部而增大。本专利技术通过所述的说明了的手段，起到如下所述的效果。即，根据本专利技术的涂敷液的涂敷方法，由于将岐管内的涂敷液的流动，在从其液体供给部侧到端部的至少80％的区域中，涂敷液的平均流速的宽度方向偏差在岐管整个区域的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂敷液的涂敷方法，是使用模具将含有分散粒子的涂敷液涂敷到被涂工物上的方法，其特征在于，　　　　在所述模具的内部设置的岐管内的所述涂敷液的流动，在所述岐管的从液体供给部到端部的至少８０％的区域中，所述涂敷液的平均流速的宽度方向偏差在岐管整个区域的平均流速的６０％以下。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：藤原诚，田渊纯也，小松原诚，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]