真空电容器的电极盘的改良结构制造技术

技术编号:7673283 阅读:177 留言:0更新日期:2012-08-11 15:21
本发明专利技术公开了一种真空电容器的电极盘的改良结构,所述电极盘的安装面上开设有若干与该电极盘同中心轴的若干固定环槽,若干电极环对应固定焊接在所述若干固定环槽内,所述电极盘的安装面上绕其中心均匀分布有若干扇形凸面,该扇形凸面的电极盘反面对应为扇形凹面,扇形凸面和扇形凹面的形状相同,采用了凹凸结构改进,提高零件的机械强度和尺寸稳定性,所述固定环槽开设在所述扇形凸面上。本发明专利技术在不改变电容器产品安装尺寸的情况下,改进电极盘结构,使真空电容器电极盘的制造成本下降,有效提高了产品的气密性、机械强度和尺寸稳定性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种电容器的电极环安装盘,尤其是一种真空电容器的电极环安装盘的改良结构。
技术介绍
通用真空电容器的电极盘结构成型复杂,采用圆棒料经过车加工成型,所需原材料多,零件加工工序多,零件的生产成本高;同时由于拉制成型的棒料存在气密性和机械强度低的原因,使零件生产的合格率低,也造成产品质量的下降和生产成本的增加。随着真空电容器产品在高频加热设备领域的推广运用,对产品的价格和制造成本提出了新的要求,对产品气密性和机械强度的要求也进一步提高,现有结构的电极盘在有限的加工成本下很难加工达到要求。
技术实现思路
为了克服上述缺陷,本专利技术提供了一种真空电容器的电极盘的改良结构,结构成型简单,且有效降低生产成本并提高产品的气密性、机械强度和尺寸稳定性。本专利技术为了解决其技术问题所采用的技术方案是一种真空电容器的电极盘的改良结构,所述电极盘的安装面上开设有若干与该电极盘同中心轴的若干固定环槽,若干电极环对应固定焊接在所述若干固定环槽内,所述电极盘的安装面上绕其中心均匀分布有若干扇形凸面,该扇形凸面的电极盘反面对应为扇形凹面,扇形凸面和扇形凹面的形状相同,采用了凹凸结构改进,提高零件的机械强度和尺寸稳定性,所述固定环槽开设在所述扇形凸面上。作为本专利技术的进一步改进,所述扇形凸面的数量为偶数个,其分布呈两两对称。作为本专利技术的进一步改进,所述扇形凸面的数量为六个作为本专利技术的进一步改进,所述真空电容器的电极盘为由一体冲压拉伸压筋成型的板料盘;板料替代棒料,采用冲压拉伸压筋成型,大大提高了加工效率;且由于板料的气密性大于棒料的气密性,消除了焊接后电极盘漏气的现象,提高了真空电容器产品的合格率。本专利技术的有益效果是电极盘采用了相互间隔的相同形状的凹凸结构,提高产品的机械强度和尺寸稳定性,此种结构使电极盘可采用板料一体冲压拉伸压筋成型的生产工艺,可有效地提高电极盘的生产效率,且由于板料的气密性大于棒料的气密性,消除了焊接后电极盘漏气的现象,提高了真空电容器产品的合格率;综上所述,本专利技术在不改变电容器产品安装尺寸的情况下,改进电极盘结构,使真空电容器电极盘的制造成本下降,有效提高了产品的气密性、机械强度和尺寸稳定性。附图说明图I为本专利技术的安装面结构示意图2为图I的 后视图;图3为本专利技术的使用状态剖面结构示意图。具体实施例方式实施例一种真空电容器的电极盘的改良结构,所述电极盘I的安装面上开设有若干与该电极盘同中心轴的若干固定环槽10,若干电极环2对应固定焊接在所述若干固定环槽内,所述电极盘I的安装面上绕其中心均匀分布有若干扇形凸面11,该扇形凸面11的电极盘反面对应为扇形凹面12,扇形凸面11和扇形凹面12的形状相同,采用了凹凸结构改进,提高零件的机械强度和尺寸稳定性,所述固定环槽10开设在所述扇形凸面11上。所述扇形凸面11的数量为偶数个,其分布呈两两对称。所述扇形凸面11的数量为六个所述真空电容器的电极盘为由一体冲压拉伸压筋成型的板料盘;板料替代棒料,采用冲压拉伸压筋成型,大大提高了加工效率;且由于板料的气密性大于棒料的气密性,消除了焊接后电极盘漏气的现象,提高了真空电容器产品的合格率。图I和图2是本专利技术的电极盘的示意图,电极盘的直径是根据产品的外形尺寸要求来进行设计的,电极盘内部各固定环槽的直径和深度也是根据产品的技术参数来确定的,不同的产品要求是不同的。如图3所示,电极盘是真空电容器产品中各电极环的支撑件,因此要求电极盘在经过高温焊接等工序后零件无漏气现象并且各尺寸稳定无变化,从而保证产品的容量和耐压。为保证电极盘各尺寸在焊接过程无变形,本专利技术将电极盘设计成对称的凹凸结构,提高零件的机械强度和尺寸稳定性。同时,原材料由棒料更改为板料,采用冲压拉伸压筋成型,大大提高了零件加工效率。由于板料的气密性大大高于棒料的气密性,消除了焊接后电极盘漏气的现象,提高了产品的合格率。权利要求1.ー种真空电容器的电极盘的改良结构,所述电极盘(I)的安装面上开设有若干与该电极盘同中心轴的若干固定环槽(10),若干电极环(2)对应固定焊接在所述若干固定环槽内,其特征在于所述电极盘(I)的安装面上绕其中心均匀分布有若干扇形凸面(11),该扇形凸面(11)的电极盘反面对应为扇形凹面(12),扇形凸面(11)和扇形凹面(12)的形状相同,所述固定环槽(10)开设在所述扇形凸面(11)上。2.根据权利要求I所述的真空电容器的电极盘的改良结构,其特征在于所述扇形凸面(11)的数量为偶数个,其分布呈两两对称。3.根据权利要求2所述的真空电容器的电极盘的改良结构,其特征在于所述扇形凸面(11)的数量为六个4.根据权利要求I或2所述的真空电容器的电极盘的改良结构,其特征在于所述真空电容器的电极盘为由一体成型的板料盘。全文摘要本专利技术公开了一种真空电容器的电极盘的改良结构,所述电极盘的安装面上开设有若干与该电极盘同中心轴的若干固定环槽,若干电极环对应固定焊接在所述若干固定环槽内,所述电极盘的安装面上绕其中心均匀分布有若干扇形凸面,该扇形凸面的电极盘反面对应为扇形凹面,扇形凸面和扇形凹面的形状相同,采用了凹凸结构改进,提高零件的机械强度和尺寸稳定性,所述固定环槽开设在所述扇形凸面上。本专利技术在不改变电容器产品安装尺寸的情况下,改进电极盘结构,使真空电容器电极盘的制造成本下降,有效提高了产品的气密性、机械强度和尺寸稳定性。文档编号H01G2/00GK102623171SQ20111002744公开日2012年8月1日 申请日期2011年1月26日 优先权日2011年1月26日专利技术者徐文林, 方涛, 汤亮, 赖萍南, 黄浩 申请人:昆山国力真空电器有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:徐文林黄浩赖萍南方涛汤亮
申请(专利权)人:昆山国力真空电器有限公司
类型:发明
国别省市:

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